塗工装置、塗工方法、および、プラズマディスプレイパネルの製造方法
【課題】塗工液を長期間安定して吐出可能な塗工装置を提供する。
【解決手段】ＰＤＰの結晶ＭｇＯ層の形成工程において、スプレー法にて、ＭｇＯ粉体を溶剤に分散させた塗工液を塗布する塗工装置として、塗工液経路に接続する連結管５３１、吐出管５１３Ａおよび洗浄管５２２が接続してそれぞれの接続状態を切り替える第１三方弁６００と、連結管５３１、返送管５１４および洗浄管５２２が接続してそれぞれの接続状態を切り替える第２三方弁７００と、を設ける。第１三方弁６００に洗浄液を流通させ吐出管５１３Ａからスプレーガンで吐出させ、第２三方弁７００に洗浄液を流通させ連結管５３１から第１三方弁を流通させ吐出管５１３Ａからスプレーガンで吐出させる。ＭｇＯ粉体の固着や閉塞が生じず長期間安定して塗布できる。
【解決手段】ＰＤＰの結晶ＭｇＯ層の形成工程において、スプレー法にて、ＭｇＯ粉体を溶剤に分散させた塗工液を塗布する塗工装置として、塗工液経路に接続する連結管５３１、吐出管５１３Ａおよび洗浄管５２２が接続してそれぞれの接続状態を切り替える第１三方弁６００と、連結管５３１、返送管５１４および洗浄管５２２が接続してそれぞれの接続状態を切り替える第２三方弁７００と、を設ける。第１三方弁６００に洗浄液を流通させ吐出管５１３Ａからスプレーガンで吐出させ、第２三方弁７００に洗浄液を流通させ連結管５３１から第１三方弁を流通させ吐出管５１３Ａからスプレーガンで吐出させる。ＭｇＯ粉体の固着や閉塞が生じず長期間安定して塗布できる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗工液が流通する経路に洗浄液を流通させて洗浄する構成を備えた塗工装置、塗工液を塗工する塗工方法、および、プラズマディスプレイパネルの保護層を酸化マグネシウム粉末を含有する塗工液を塗布して形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネルは、放電空間を介して互いに対向配置された一対の平面ガラス基板である前面基板および背面基板を備えており、背面基板の内面上に井桁状などの隔壁を設けて前記放電空間を複数個の放電セルに区画し、これら複数個の放電セル内で選択的に放電発光させることにより画像表示を実施する。
【０００３】
このようなプラズマディスプレイパネルの前面基板の内面側には、放電ギャップを介して対向する複数の透明電極およびこれら透明電極の一端部に積層するバス電極を備えた複数の表示電極対と、これら表示電極対間に設けられた複数のブラックストライプと、これら表示電極対およびブラックストライプ上を被覆する誘電体層と、この誘電体層上を被覆する保護層と、などがそれぞれ設けられている。
【０００４】
上記保護層は、誘電体層が放電によりスパッタリングされることを防ぐとともに、低電圧で放電を発生させるための二次電子の放出層としての役割も持っている。また、発光は保護層を通して前面基板側から観察されるため可視光に対する透明性も必要とされる。このため、保護層の材料としては、低スパッタ率、高二次電子放出係数、可視光に対する透明性などの特性により酸化マグネシウム（以下ＭｇＯと記す）が広く用いられている。
【０００５】
従来、このようなＭｇＯによる保護層の形成方法として、スプレーガンを用いたスプレー法により、ＭｇＯの微結晶粉末を溶剤に分散させた塗工液を基板に対して吹き付けるものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
この特許文献１に記載の構成では、直径が１〜２μｍのＭｇＯの微結晶粉末をエチルアルコールを分散溶媒として分散させ、吹き付けに用いる懸濁液としている。そして、スプレーガンに懸濁液と霧化用の高圧エアを供給し、懸濁液をガラス基板上にスプレー塗布した後、ガラス基板を２００℃に加熱しエチルアルコールを充分に蒸発させ、ＭｇＯ微結晶が積層したＭｇＯ膜を得る構成が採用されている。
【０００７】
このようなスプレー法による塗布を実施する塗工装置としては、従来、図１および図２に示すものが知られている。ここで、図１は従来の塗工装置を示す模式図である。図２は従来の三方弁を備えた塗工装置を示す模式図である。
【０００８】
図１に示す塗工装置８００は、単結晶ＭｇＯ粉末を溶剤に分散させた塗工液ＬＱをガラス基板Ｋに対してスプレー塗布する装置である。この塗工装置８００は、塗工液ＬＱを貯溜する塗工液タンク８１０と、この塗工液タンク８１０に配管８１１を介して接続されて塗工液タンク８１０内の塗工液ＬＱを吸引する液送ポンプ８２０と、この液送ポンプ８２０に配管８２１を介して接続されて塗工液ＬＱをガラス基板Ｋ上に対してスプレー塗布するスプレーガン８３０とを備えている。
このような塗工装置８００では、スプレー塗布を実施する場合にのみ、液送ポンプ８２０を駆動させて、塗工液ＬＱをスプレーガン８３０に供給する。
【０００９】
図２に示す塗工装置９００は、図１に示す塗工装置８００と同様に、単結晶ＭｇＯ粉末を溶剤に分散させた塗工液ＬＱをガラス基板Ｋに対してスプレー塗布する装置である。この塗工装置９００は、塗工液ＬＱを貯溜する塗工液タンク９１０と、この塗工液タンク９１０に配管９１１を介して接続されて塗工液タンク９１０内の塗工液ＬＱを吸引する液送ポンプ９２０と、この液送ポンプ９２０に配管９２１を介して接続された三方弁９３０と、この三方弁９３０に配管９３１を介して接続されて塗工液ＬＱをガラス基板Ｋ上に対してスプレー塗布するスプレーガン９４０とを備えている。また、三方弁９３０は、配管９３２を介して塗工液タンク９１０内に接続されている。
【００１０】
このような塗工装置９００では、液送ポンプ９２０は常に駆動させておき、スプレー塗布を実施する場合にのみ、三方弁９３０をスプレーガン９４０側に切り換えて塗工液ＬＱをスプレーガン９４０に供給する。一方、スプレー塗布を実施しない間は、塗工液タンク９１０、配管９１１、液送ポンプ９２０、配管９２１、三方弁９３０、配管９３２、塗工液タンク９１０と順に塗工液ＬＱを循環させる。このようにして、スプレー塗布の実施の有無に関わらず、塗工液ＬＱを絶えず循環させているので、装置の各部において単結晶ＭｇＯ粉末が沈降することを防げる。
【００１１】
ここで、塗工装置８００，９００の各配管内で塗工液ＬＱの流速が遅い場合、または、塗工液ＬＱが滞留する部分や各配管の傾斜部分、弁などで流速差が生じる部分にて単結晶ＭｇＯが沈降・固着しやすい。
【００１２】
具体的には、溶剤中に分散した粒子の沈降速度は以下に示す式（１）にて与えられる。
この式（１）からも分かるように、単結晶ＭｇＯは真比重が約３でかつ溶剤の比重が通常１以下であるため、ＭｇＯ粉体の沈降速度ｖは大きくなる、すなわち、ＭｇＯ粉体が溶剤中で沈降しやすい。特に、沈降速度ｖは粒径の２乗に比例するため、ＭｇＯ粉体の粒径ｄが大きくなる程沈降しやすくなる。
【００１３】
〔数式〕
ｖ∝ｄ２×（ρｐ−ρｌ）×ｇ／μ…（１）
ｖ：終末沈降速度
ｄ:粒子の粒径
ρｐ:粒子の密度
ρｌ:溶剤の密度
ｇ:重力加速度
μ：溶剤粘度
【００１４】
また、ＭｇＯ粉体は凝集性が高いために、塗工液タンク８１０，９１０内部や、各配管内で沈降が生じたときに、ＭｇＯ粉体同士が凝集して成長する。これにより、塗工液ＬＱの流路にＭｇＯ粉体の凝集物が付着し、固着や閉塞を引き起こす。
【００１５】
このように、塗工液ＬＱの流路におけるＭｇＯ粉体の固着や閉塞が生じた場合、塗工液ＬＱの流れが妨げられ、スプレーガン８３０，９４０からの吐出量が減少しあるいは不安定となる。これにより、ガラス基板Ｋ上に付着するＭｇＯ量が一定とならず、塗工ムラが生じるおそれがある。
【００１６】
プラズマディスプレイパネルにおいては、所定の量の単結晶ＭｇＯが保護層として充分な厚さをもって堆積していない場合、放電遅れが大きくなり、選択不良などの問題を引き起こすおそれがある。また、局所的にＭｇＯの塗布量にバラツキが生じた場合、輝度ムラなどの特性不良を引き起こすおそれがある。
【００１７】
【特許文献１】特開平７−２９６７１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
そして、上記特許文献１に記載の構成では、ＭｇＯの微結晶粉末をエチルアルコールに分散させて懸濁液を構成しているので、上記のようにＭｇＯが沈降・凝集し易くなってしまう。これにより、懸濁液の流路において、ＭｇＯ粉体の固着や閉塞が生じ易く、基板上への吐出が不安定となり散布されるＭｇＯの量がばらついてしまうおそれがある。
【００１９】
そして、図１に示す塗工装置８００の場合、スプレー塗布を実施しないときには塗工液ＬＱの流れがないために、ＭｇＯ粉体が沈降しやすく、液経路内で固着・閉塞が発生しやすい。
また、図２に示す塗工装置９００の場合、塗工液ＬＱは絶えず循環しているので循環している液経路内で固着・閉塞が発生することは少ないが、三方弁９３０から配管９３１、スプレーガン９４０までの間は、スプレー塗布を実施しない間に塗工液ＬＱの流れがなく、結果として、固着・閉塞が発生してしまう。さらに、凝集や固着の発生により、三方弁９３０のシール性が損なわれ、漏れや逆流などの不都合を生じるおそれもある。
そして、塗工装置８００，９００の双方とも、塗工液ＬＱの滞留が起き易い部分では、ＭｇＯ粉体の固着が生じ、それが成長して詰まりやすい状態となっている。
【００２０】
上記のように、塗工液ＬＱの塗布量にムラが生じた場合、製造されたプラズマディスプレイパネルにおいては、放電遅れ・放電確率がセルにより異なってしまう。このため、輝度の不均一、スキャン不良を引き起こしてしまうおそれがある。
【００２１】
本発明は、上述したような問題点に鑑みて、塗工液を長期間安定して吐出可能な塗工装置、塗工方法、および、プラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することを１つの目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
請求項１に記載の発明は、塗工液を貯溜する塗工液タンクと、この塗工液タンクに接続され前記塗工液を流通する塗工液経路と、この塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を吐出する吐出手段と、前記塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を前記塗工液タンクへ返送する返送経路と、を備えた塗工装置であって、洗浄液を貯溜する洗浄液タンクと、この洗浄タンクに接続され前記洗浄液を流通させる洗浄液経路と、前記塗工液経路に接続され前記塗工液が流入する第１流入口、前記洗浄液経路が接続され前記洗浄液が流入する第１洗浄口、および、前記吐出手段に接続され流入した前記塗工液または前記洗浄液を前記吐出手段へ流出する吐出口を備え、前記第１流入口および前記吐出口が連通する状態と前記第１洗浄口および前記吐出口が連通する状態とに切り替える第１三方弁と、前記塗工液経路に接続され前記塗工液が流入する第２流入口、前記洗浄液経路が接続され前記洗浄液が流入する第２洗浄口、および、前記返送経路に接続され流入した前記塗工液を前記返送経路へ流出する流出口を備え、前記第２流入口および前記流出口が連通する状態と前記第２洗浄口および前記第２流入口が連通する状態とに切り替える第２三方弁と、を具備したことを特徴とした塗工装置である。
【００２３】
請求項４に記載の発明は、塗工液を貯溜する塗工液タンクと、この塗工液タンクに接続され前記塗工液を流通する塗工液経路と、この塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を吐出する吐出手段と、前記塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を前記塗工液タンクへ返送する返送経路と、を備えた塗工装置であって、洗浄液を貯溜する洗浄液タンクと、この洗浄タンクに接続され前記洗浄液を流通させる洗浄液経路と、前記塗工液経路から前記塗工液が流入され前記吐出手段へ流出する状態、および、前記洗浄液経路から前記洗浄液が流入され前記吐出手段へ流出する状態に切り替える第１三方弁と、前記塗工液経路から前記塗工液が流入され前記返送経路へ流出する状態、および、前記洗浄液経路から前記洗浄液が流入され前記塗工液経路および第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出する状態に切り替える第２三方弁と、を具備したことを特徴とした塗工装置である。
【００２４】
請求項１１に記載の発明は、塗工液を貯溜する塗工液タンクと、この塗工液タンクに接続され前記塗工液を流通する塗工液経路と、この塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を吐出する吐出手段と、前記塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を前記塗工液タンクへ返送する返送経路と、前記塗工液経路、前記吐出手段および前記返送経路が接続されそれぞれの接続状態を切り替える切替手段を備えた塗工装置を用いた塗工方法であって、前記塗工装置に、洗浄液を供給する洗浄液供給手段を設けるとともに、前記塗工液経路、前記吐出手段および前記洗浄液供給手段が接続しそれぞれの接続状態を切り替える第１三方弁と前記塗工液経路、前記返送経路および前記洗浄液供給手段が接続しそれぞれの接続状態を切り替える第２三方弁とにて前記切替手段を構成し、前記切替手段に接続し前記切替手段に洗浄液を流入させる洗浄液経路を前記塗工装置に設け、前記塗工液経路を流通する前記塗工液を前記第２三方弁を介して前記返送経路へ流通させ前記塗工液を循環させる循環工程と、前記塗工液経路を流通する前記塗工液を前記第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出させ前記塗工液を前記吐出手段から吐出させる吐出工程と、前記洗浄液経路から前記洗浄液を前記第１三方弁へ供給させこの第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出させ前記洗浄液を前記吐出手段から吐出させる第１洗浄工程と、前記洗浄液経路から前記洗浄液を前記第２三方弁へ供給させ、この第２三方弁から前記塗工液経路を介して前記第１三方弁へ流入させこの第１三方弁から前記吐出手段へ流出させ前記洗浄液を前記吐出手段から吐出させる第２洗浄工程と、を実施することを特徴とする塗工方法である。
【００２５】
請求項１４に記載の発明は、放電空間を介して対向配置された一対の基板と、これら一対の基板のうち一方の基板の内面上に形成された複数の電極対と、これら電極対上を被覆する誘電体層と、この誘電体層上を被覆する保護層とを備えたプラズマディスプレイパネルを製造するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、塗工液を貯溜する塗工液タンクと、この塗工液タンクに接続され前記塗工液を流通する塗工液経路と、この塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を吐出する吐出手段と、前記塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を前記塗工液タンクへ返送する返送経路と、洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記塗工液経路、前記吐出手段および前記洗浄液供給手段が接続しそれぞれの接続状態を切り替える第１三方弁と、前記塗工液経路、前記返送経路および前記洗浄液供給手段が接続しそれぞれの接続状態を切り替える第２三方弁と、を備えた塗工装置を用い、酸化マグネシウム粉体を溶剤に分散させた前記塗工液を、前記第１三方弁および前記第２三方弁の切り替えにより前記吐出手段から吐出させ前記誘電体層上に塗布し、前記保護層となる塗膜を形成する塗布工程と、前記洗浄液供給手段から前記洗浄液を前記第１三方弁へ供給させこの第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出させ前記洗浄液を前記吐出手段から吐出させる第１洗浄工程と、前記洗浄液経路から前記洗浄液を前記第２三方弁へ供給させ、この第２三方弁から前記塗工液経路を介して前記第１三方弁へ流入させこの第１三方弁から前記吐出手段へ流出させ前記洗浄液を前記吐出手段から吐出させる第２洗浄工程と、を実施することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明の一実施の形態について図面に基づいて説明する。
なお、本実施の形態では、前面基板の保護層が薄膜ＭｇＯ層および結晶ＭｇＯ層からなる２層構造となったプラズマディスプレイパネルを製造する構成を例示するが、当該保護層は結晶ＭｇＯ層からなる１層構造であってもよい。
【００２７】
〔プラズマディスプレイパネルの構成〕
以下、製造するプラズマディスプレイパネルの構成について、図面を参照して説明する。
図３は、本発明の一実施の形態に係るプラズマディスプレイパネルの内部構造を示した分解斜視図である。図４は、プラズマディスプレイパネルを模式的に示した正面図である。図５は、図４のＶ−Ｖ線における断面図である。図６は、図４のVI−VI線における断面図である。
【００２８】
本実施形態において、図３に示すように、１はプラズマディスプレイパネル（Plasma Display Panel：ＰＤＰ）であり、このＰＤＰ１は、例えば略平面長方形状に形成され、プラズマ放電による発光を利用して画像を表示する装置である。このＰＤＰ１は、画像表示領域を構成する放電空間Ｈを介して、互いに対向配置された一対の基板である背面基板２および前面基板３を備えている。
【００２９】
これら背面基板２および前面基板３は、それぞれの外周縁部に図示しないシールフリットが設けられて封着されている。そして、封着された当該空間内部は例えば６．７×１０４Ｐａ（５００Ｔｏｒｒ）程度の減圧状態とされ、当該空間にはＨｅ−Ｘｅ（ヘリウム−キセノン）系やＮｅ−Ｘｅ（ネオン−キセノン）系の不活性ガスが充填されている。
【００３０】
背面基板２は、例えば板状ガラス材にて平面長方形状に形成されている。この背面基板２の内面上には、図３に示すように、複数の直線状のアドレス電極２１と、これらアドレス電極２１上を覆うアドレス電極保護層２２と、このアドレス電極保護層２２上に一体的に設けられた隔壁２３と、この隔壁２３の放電セル２３１内部に充填された蛍光体層（２４Ｒ,２４Ｇ,２４Ｂ）と、などがそれぞれ設けられている。
【００３１】
具体的には、アドレス電極２１は、例えばＡｌ（アルミニウム）などにて形成され、図３および図４に示すように、背面基板２の長手方向に略直交して一定の間隔で配設されている。それぞれのアドレス電極２１の一端には図示しないアドレス電極引出部が形成されて、このアドレス電極引出部を介して各アドレス電極２１に図示しない列電極駆動部からの電圧パルスが印加されるようになっている。
【００３２】
アドレス電極保護層２２は、例えばガラスペーストなどにて形成され、図３、図５および図６に示すように、背面基板２の内面上におけるアドレス電極引出部を除いた略全面に亘り設けられている。このアドレス電極保護層２２は、パネル駆動時において、放電によるアドレス電極２１の損耗を防止するとともに、駆動に必要な電荷を蓄積する誘電体層として機能する。なお、アドレス電極保護層２２の外周縁部上には前述のシールフリットが設けられている。
【００３３】
隔壁２３は、図３および図５に示すように、例えばアドレス電極保護層２２と同一成分のガラスペーストにて略梯子状に形成されている。そして、アドレス電極保護層２２上において、アドレス電極２１と略直交する複数の直線状の隙間Ｓ（図５参照）をそれぞれ間に挟んで、複数並列して設けられている。この隔壁２３により放電空間Ｈが複数に区画され、これにて複数の矩形状の放電セル２３１が形成されている。そして、隔壁２３は、その基端部から頂部までの高さがそれぞれ所定の高さ寸法に設定されており、背面基板２と前面基板３との間隙寸法を規定する。
【００３４】
蛍光体層（２４Ｒ,２４Ｇ,２４Ｂ）は、図３、図５および図６に示すように、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の蛍光体ペーストが放電セル２３１内部に順に充填され、これが焼成されることにより形成される。これら蛍光体層（２４Ｒ,２４Ｇ,２４Ｂ）は、それぞれの放電セル２３１で発生した紫外光により励起され、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の可視光を発光する。
【００３５】
前面基板３は、ＰＤＰ１の表示面を構成し、例えば背面基板２と同一材料にて略同一形状に形成されている。この前面基板の内面上には、図３に示すように、アドレス電極２１と略直交して一定の間隔で配列された複数の表示電極対３１と、これら表示電極対３１間にそれぞれ設けられた複数のブラックストライプ３２と、これら表示電極対３１およびブラックストライプ３２上を覆う誘電体層３３と、この誘電体層３３を覆う保護層３４と、などがそれぞれ設けられている。
【００３６】
具体的には、表示電極対３１は、図４および図５に示すように、放電ギャップＧ（図４参照）を介して対向する複数対の透明電極３１１ａ，３１１ｂと、これら透明電極３１１ａ，３１１ｂの一端部に積層する一対の直線状のバス電極３１２ａ，３１２ｂとを備えて構成されている。
【００３７】
透明電極３１１ａ，３１１ｂは、図４に示すように、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）などの透明導電膜で略Ｔ字形状に形成されており、所定の放電セル２３１に対応して一対ずつ設けられている。
【００３８】
バス電極３１２ａ，３１２ｂは、一対の透明電極３１１ａ，３１１ｂにおける放電ギャップＧ（図４参照）に対して反対側の端部に、それぞれ積層して設けられている。これらバス電極３１２ａ，３１２ｂのそれぞれの一端には図示しないバス電極引出部が形成され、このバス電極引出部を介して各透明電極３１１ａ，３１１ｂに図示しない行電極駆動部からの電圧パルスが印加されるようになっている。
このようなバス電極３１２ａ，３１２ｂは、図５に示すように、透明電極３１１ａ，３１１ｂ上に積層して設けられた黒色無機顔料などからなるバス電極黒層３１３ａ，３１３ｂと、これらバス電極黒層３１３ａ，３１３ｂに積層して設けられたＡｇ（銀）などを主成分とする金属材料からなる主導電層３１４ａ，３１４ｂとを備えた２層構造となっている。
【００３９】
ブラックストライプ３２は、図４および図５に示すように、バス電極黒層３１３ａ，３１３ｂと同質の材料にて、直線状に形成されている。このブラックストライプ３２およびバス電極黒層３１３ａ，３１３ｂにて、前面基板３の外方から照射された可視光が吸収されるようになっている。
【００４０】
誘電体層３３は、図５および図６に示すように、例えばガラスペーストなどにて形成され、背面基板２のアドレス電極保護層２２と対向して設けられている。この誘電体層３３は、パネル駆動時において、放電による表示電極対３１の損耗を防止するとともに、駆動に必要な電荷を蓄積する。
【００４１】
保護層３４は、図３、図５および図６に示すように、誘電体層３３の内周面の全面を被覆するＭｇＯ（酸化マグネシウム）からなる薄膜ＭｇＯ層３４１と、この薄膜ＭｇＯ層３４１を被覆する結晶ＭｇＯ層３４２とを備えた２層構造となっている。
【００４２】
薄膜ＭｇＯ層３４１は、例えば蒸着法やスパッタリング法などにより形成される。結晶ＭｇＯ層３４２は、後述する塗工装置５００を用いたスプレー法にて形成される。
このような保護層３４は、誘電体層３３が放電によりスパッタリングされることを防ぐとともに、低電圧で放電を発生させるための二次電子の放出層として機能する。
【００４３】
〔塗工装置の構成〕
以下、上述したプラズマディスプレイパネルにおける結晶ＭｇＯ層を形成するための塗工装置の構成について、図面を参照して説明する。
図７は、塗工装置の概略構成を示す概念図である。図８は、塗工装置の多重三方弁機構部の概略構成を示す断面図である。
【００４４】
｛塗工装置の構成｝
図７において、５００は塗工装置で、この塗工装置５００は、スプレー法により、上述した薄膜ＭｇＯ層３４１に詳細は後述する所定の組成の塗工液５０１を塗布し、焼成によりＰＤＰ１の結晶ＭｇＯ層３４２となる単結晶ＭｇＯ粉体層を形成する装置である。そして、塗工装置５００は、塗工装置としても機能する塗工部５１０と、洗浄液供給手段としての洗浄部５２０と、切替手段としての多重三方弁機構部５３０と、制御手段としての制御装置５４０と、を備えている。
【００４５】
塗工部５１０は、塗工液５０１を塗布する構成である。この塗工部５１０は、塗工液タンク５１１と、塗工液経路５１２と、吐出手段５１３と、返送経路としての返送管５１４と、を備えている。
【００４６】
塗工液タンク５１１は、詳細は後述する塗工液５０１を貯溜するタンクである。なお、この塗工液タンク５１１は、例えば外面側に冷却液などの流通により貯溜する塗工液５０１を冷却する冷却装置や貯溜する塗工液５０１を攪拌する攪拌装置などを備えた構成とすることが好ましい。
【００４７】
塗工液経路５１２は、一端が塗工液タンク５１１に接続され、他端に多重三方弁機構部５３０に接続され、塗工液タンク５１１に貯溜する塗工液５０１を多重三方弁機構部５３０を介して吐出手段５１３へ流出可能に流通する流通管５１２Ａを備えている。
この流通管５１２Ａには、液送ポンプ５１２Ｂが設けられている。液送ポンプとしては、ギヤポンプ、チューブポンプ、プランジャーポンプなどの定量ポンプや、インベラポンプなどの定圧ポンプなど、各種ポンプが利用できる。
【００４８】
吐出手段５１３は、多重三方弁機構部５３０に一端が接続された吐出管５１３Ａと、この吐出管５１３Ａの他端に接続されたスプレーガン５１３Ｂと、を備えている。スプレーガン５１３Ｂは、塗工液５０１や洗浄液５０２と空気とを２液化状態に霧化して吐出する、いわゆる２流体エア霧化方式のものが用いられる。なお、これに限らず、ベル方式、塗工液５０１の圧力のみで霧化する方式の１流体方式など、各種構成が適用できる。
そして、吐出手段５１３は、多重三方弁機構部５３０から流出される塗工液５０１や洗浄部５２０の洗浄液５０２を、吐出管５１３Ａを介してスプレーガン５１３Ｂへ流通し、スプレーガン５１３Ｂから吐出させる。
【００４９】
返送管５１４は、一端が多重三方弁機構部５３０に接続され、他端が塗工液タンク５１１に接続され、多重三方弁機構部５３０から流出される塗工液５０１を塗工液タンク５１１へ流通して循環させる。
【００５０】
洗浄部５２０は、塗工部５１０を洗浄するための構成である。この洗浄部５２０は、洗浄液タンク５２１と、洗浄液経路としての洗浄管５２２と、を備えている。
【００５１】
洗浄液タンク５２１は、洗浄液５０２を貯溜するタンクである。この洗浄液タンク５２１に貯溜される洗浄液５０２としては、例えば塗工液５０１の溶剤と同質、特に同一組成の溶剤とすることが好ましい。
洗浄管５２２は、一端が洗浄液タンク５２１に接続され、他端が多重三方弁機構部５３０に接続され、洗浄液タンク５２１に貯溜する洗浄液５０２を多重三方弁機構部５３０へ流入可能に流通させる。この洗浄管５２２は、他端側が二股に分岐する状態で、多重三方弁機構部５３０にそれぞれ接続する状態となっている。なお、洗浄管５２２は、分岐する構成に限らず、２系統としてもよい。
そして、この洗浄管５２２には、洗浄液５０２を多重三方弁機構部５３０へ流通させる図示しない液送ポンプが設けられている。この液送ポンプは、塗工液経路５１２の液送ポンプ５１２Ｂと同一の構成が用いられるが、異なる構成とてしもよい。そして、液送ポンプは、洗浄液５０２を流通させる際、液送ポンプ５１２Ｂの駆動により塗工液５０１を流通させる流量より多い流量となる状態で洗浄液５０２を流通させる状態に制御装置５４０により制御される。
【００５２】
多重三方弁機構部５３０は、塗工液経路５１２の流通管５１２Ａ、吐出手段５１３の吐出管５１３Ａ、返送管５１４および洗浄管５２２が接続され、これら流通管５１２Ａ、吐出管５１３Ａ、返送管５１４および洗浄管５２２の接続状態、すなわち連通状態を適宜切り替え、塗工液５０１や洗浄液５０２の流通状態を切り替える。
この多重三方弁機構部５３０は、図８に示すように、第１三方弁６００と、第２三方弁７００とを備え、これら第１三方弁６００および第２三方弁７００が連結管５３１により一体的に連結されて構成されている。
なお、第１三方弁６００および第２三方弁７００として、ピストン式三方弁を例示して説明するが、例えばベローズ式三方弁など、各種構成が適用できる。
【００５３】
連結管５３１は、中間部に流通孔５３１Ａを開口する。
この連結管５３１は、一端に流通管５１２Ａの下流側の端部が連結され、流通孔５３１Ａに第１三方弁６００が接続され、他端に第２三方弁７００が接続され、第１三方弁６００および第２三方弁７００を連結し、それぞれ流通管５３１Ａに連通する状態に接続させる。
【００５４】
第１三方弁６００は、第１ハウジング６１０を備えている。この第１ハウジング６１０は、軸方向の一端側となる上方へ拡径する状態に内周面が略円錐台形の第１１室６１１Ａと、この第１１室６１１Ａの拡開する側に第１連通孔６１１Ｂを介して連通し第１１室６１１Ａの拡径する側の径寸法より径小となる内周面が略円筒状の第１２室６１１Ｃを有した第１内部空間６１１を有している。
この第１ハウジング６１０には、軸方向の他端面となる底面に開口し第１１室６１１Ａを外部へ連通させる第１流入口６１２が設けられている。また、第１ハウジング６１０には、一側面に開口し第１１室６１１Ａを外部へ連通させる吐出口６１３が設けられている。さらに、第１ハウジング６１０には、一側面に開口し第１２室６１１Ｃを外部へ連通させる第１洗浄口６１４が設けられている。
また、第１三方弁６００は、第１ハウジング６１０の第１内部空間６１１内に軸方向となる上下方向で移動可能に配設された第１ピストン６２０が設けられている。この第１ピストン６２０は、略円柱状で軸方向の一端側が第１ハウジング６１０の軸方向の上端面から液密に導出するシャフト６２１と、このシャフト６２１の軸方向の一端となる下端に設けられたコマ６２２と、このコマ６２２におけるシャフト６２１が延出する側の端面に第１内部空間６１１の第１連通孔６１１Ｂを閉塞するパッキン６２３と、有している。
【００５５】
そして、第１三方弁６００は、第１流入口６１２に連結管５３１の流通孔５３１Ａが連通する状態で連結管５３１が接続され、吐出口６１３に吐出管５１３Ａが接続され、第１洗浄口６１４に洗浄管５２２が接続されて配設される。この第１三方弁６００は、シャフト６２１が制御装置５４０の制御により移動され、流通管５１２Ａに連通する連結管５３１、吐出管５１３Ａおよび洗浄管５２２の接続状態を切り替える。
すなわち、第１三方弁６００は、第１ピストン６２０が下方へ移動され、コマ６２２の底面が第１１室６１１Ａにおける縮径する側の底面に液密に密着して第１流入口６１２を閉塞する状態で、第１連通孔６１１Ｂが開放して第１１室６１１Ａおよび第１２室６１１Ｃが連通し、第１洗浄口６１４と吐出口６１３とが第１内部空間６１１を介して連通する状態となり、洗浄管５２２および吐出管５１３Ａが連通する状態となる。
また、第１三方弁６００は、第１ピストン６２０が上方へ移動されて第１流入口６１２を開放しパッキン６２３が第１連通孔６１１Ｂを閉塞することで、第１１室６１１Ａおよび第１２室６１１Ｃが液密に遮断され、第１流入口６１２と吐出口６１３とが第１１室６１１Ａを介して連通する状態となり、連結管５３１および吐出管５１３Ａが連通する状態となる。
【００５６】
一方、第２三方弁７００は、第１三方弁６００と同一の構成が利用される。すなわち、第２三方弁７００は、第１三方弁６００の内部空間６１１と同一形状の第２１室７１１Ａおよび第２２室７１１Ｃが第２連通孔７１１Ｂを介して連通する第２内部空間７１１を有する第２ハウジング７１０を備えている。この第２ハウジング７１０は、第１流入口６１２に対応する流出口７１２と、吐出口６１３に対応する第２流入口７１３と、第１洗浄口６１４に対応する第２洗浄口７１４を開口している。
また、第２三方弁７００は、第１ピストン６２０と同様に、シャフト７２１、コマ７２２およびパッキン７２３を有し、制御装置５４０の制御により第２内部空間７１１内で移動される第２ピストン７２０を備えている。
【００５７】
そして、第２三方弁７００は、第２流入口７１３に連結管５３１の端部が接続され、流出口７１２に返送管５１４が接続され、第２洗浄口７１４に洗浄管５２２が接続されて配設される。この連結管５３１の接続により、第２三方弁７００の第２流入口７１３が第１三方弁６００の第１流入口６１２にそれぞれ連結管５３１を介して互いに連通する状態となる。そして、第２三方弁７００は、シャフト７２１が制御装置５４０の制御により移動され、流通管５１２Ａに連通する連結管５３１、返送管５１４および洗浄管５２２の接続状態を切り替える。
すなわち、第２三方弁７００は、第１ピストン７２０が下方へ移動され、コマ７２２の底面が第２１室７１１Ａにおける縮径する側の底面に液密に密着して流出口７１２を閉塞する状態で、第２連通孔７１１Ｂが開放して第２１室７１１Ａおよび第２２室７１１Ｃが連通し、第２洗浄口７１４と第２流入口７１３とが第２内部空間７１１を介して連通する状態となり、連結管５３１および洗浄管５２２が連通する状態となる。
また、第２三方弁７００は、第２ピストン７２０が上方へ移動されて流出口７１２を開放しパッキン７２３が第２連通孔７１１Ｂを閉塞することで、第２１室７１１Ａおよび第２２室７１１Ｃが液密に遮断され、流出口７１２と第２流入口７１３とが第２１室７１１Ａを介して連通する状態となり、連結管５３１および返送管５１４が連通する状態となる。
【００５８】
制御装置５４０は、第１三方弁６００、第２三方弁７００、液送ポンプ５１２Ｂを動作制御する。また、制御装置５４０は、塗工液タンク５１１の図示しない冷却装置や攪拌装置を駆動制御可能としてもよい。そして、制御装置５４０による動作制御としては、液送ポンプ５１２Ｂへ電力を適宜供給して駆動させる動作制御、第１三方弁６００および第２三方弁７００の切替動作などが例示できる。
なお、本実施の形態では、液送ポンプ５１２Ｂは、塗工液５０１の塗布工程および洗浄液５０２による洗浄工程において、常時駆動する構成を例示するが、適宜駆動させて液送する構成としてもよい。また、切替動作としては、例えば制御装置５４０に設けられた図示しないタイマにより切替タイミングを制御する構成を例示するが、例えばクロックに基づく計時する装置などの各種計時手段で設定したプログラムにより切替タイミングを制御するなどしてもよい。
【００５９】
｛塗工液の組成｝
そして、上述の塗工装置５００で塗布する塗工液５０１は、以下の組成となっている。
塗工液５０１は、無機粉粒物であるＭｇＯ粉体を含有する無機物含有スラリである。この塗工液５０１は、溶剤にＭｇＯ粉体を分散して調製される。なお、分散剤を適宜添加することが好ましい。
【００６０】
（ＭｇＯ粉体の構成）
ＭｇＯ粉体には、例えば、ＢＥＴ法によって測定した平均粒径が５００Å以上（好ましくは２０００Å以上）の気相法酸化マグネシウム単結晶粉体（以下、単結晶ＭｇＯ粉体と称す）が用いられる。なお、ＭｇＯ粉体としては、これに限らない。
このような単結晶ＭｇＯ粉体を用いて結晶ＭｇＯ層３４２を形成することにより、ＰＤＰ１の放電特性が改善（放電遅れの減少、放電確率の向上）されることになる。すなわち、放電によって発生する電子線の照射によって、結晶ＭｇＯ層３４２に含まれる粒径の大きな単結晶ＭｇＯ粒から、３００〜４００ｎｍにピークを有するＣＬ発光に加えて、波長域２００〜３００ｎｍ（特に、２３５ｎｍ付近、２３０〜２５０ｎｍ内）にピークを有するＣＬ発光が励起される。そして、当該単結晶ＭｇＯ粒は、そのピーク波長に対応したエネルギー準位を有し、そのエネルギー準位によって電子を長時間（数ｍｓｅｃ以上）トラップすることができる。この電子が電界によって取り出されることで、放電開始に必要な初期電子が得られ、結果として、放電遅れが減少し、放電確率が向上する。
【００６１】
（溶剤の構成）
ＭｇＯ粉体を分散させる溶剤は、極性が強いものほど分散に対して有利に働くため、強い分散を示すものが好ましい。強い分散を示す溶液としては、グリコールやＩＰＡ（２−プロパノール）などのアルコールなどが挙げられる。スプレー法においては、早く揮発することが条件となるために、沸点が低く分散させやすいアルコールが特に好ましい。
また、酢酸エチル、酢酸イソプロピルなどのエステル化合物、ジメチルスルホキシドなどの硫黄化合物、ジメチルホルムアミドなどの窒素化合物においても分散が可能である。無極性の溶剤（炭化水素系）ではＭｇＯ粉体を分散させることはできない。
ＭｇＯ粉体の溶剤に対する分散は、ＭｇＯの酸素またはマグネシウムと親水基（水酸基、カルボキシル基、スルホン基、アミン基など）とによる水素結合もしくは静電引力（極性によるもの）により行なわれる。
【００６２】
（分散剤の構成）
分散剤は、親水基および疎水基を有したものである。すなわち、疎水基ならびに親水基を有する分散剤を用いることにより、ＭｇＯ粉体の分散性の向上が可能である。これは、親水基とＭｇＯとが引き付け合うことと、分子量の大きい疎水基が存在することによる見掛け比重の低下により、分散性の向上が図れる。
そして、分散剤の塗工液５０１中における濃度は、０．１ｗｔ％以上３ｗｔ％以下であることが好ましい。このような分散剤濃度とすれば、ＭｇＯ粉体の沈降が発生することを防止でき、好適にＭｇＯ粉体を分散させることができる。
親水基としては、水酸基（−ＯＨ）が特に強い分散性を示す。アルデヒド基、アミン基、スルホン基などでも分散は可能であるが、分散剤機能としては弱いので、分散性の観点から水酸基が好ましい。なお、カルボキシル基（カルボン酸）を持つもの（酢酸など）ではＭｇＯを溶解させてしまうので好ましくない。
【００６３】
特に分散剤は、水酸基を溶剤と同数以上の価数分含有することが好ましい。また、分散剤は、水酸基が１価の場合は分子量が１００以上であり、水酸基が２価の場合は分子量が６２以上であり、水酸基が３価の場合は分子量が６４以上であることが好ましい。水酸基を持つ分散剤として効果が高いものは、グリセリン、エチレングリコール、アセチレングリコール、アセチレンアルコールなどが挙げられる。水酸基の場合では水酸基の価数が多い程、分散性が良好となる。そのため、水酸基が３価のグリセリンがこの中では最も分散性能が高い。
このようなグリセリン、エチレングリコール、アセチレングリコールを分散剤として使用した場合では、配管などの液流路の表面を分散剤がコーティングする作用があり、それによりＭｇＯ粉体の液経路内での付着を減少させ、液経路での圧損が低減することで、安定した吐出が可能となる。
疎水基としてはアルカン、アルケン、脂肪酸などが挙げられ、水酸基と疎水基を組み合わせた分散剤を用いることにより、ＭｇＯ粉体の分散性が向上する。
【００６４】
以上を踏まえ、分散剤としては、例えば、アセチレンアルコール、１−ヘプタノール（ヘプチルアルコール）、１−オクタノール（オクチルアルコール）、１−ノナノール（ノニルアルコール）、１−デカノール（デシルアルコール）、１−ウンデカノール（ウンデシルアルコール）、１−ドデカノール（ドデシルアルコール）、１，２−プロパンジオール（プロピレングリコール）、１，２−エタンジオール（エチレングリコール）、アセチレングリコール、グリセリンのいずれかを適宜採用できる。
【００６５】
また、親水基および疎水基を有する分散剤として、アニオン界面活性剤およびアニオンポリマの少なくともいずれか一方を用いてもよい。
すなわち、アニオン界面活性剤およびアニオンポリマは、負電荷を発生するため、ＭｇＯ（Ｍｇ２＋）の静電引力によりＭｇＯに吸着する。そして、コロイドを形成し、見かけ比重を下げるとともに、アニオン界面活性剤またはアニオンポリマ同士でのクーロン斥力により粒子間の距離が離れる。これによりＭｇＯ粉体の凝集・沈降が発生し難く、ＭｇＯ粉体の分散性が向上する。
また、アニオン界面活性剤およびアニオンポリマを混合して用いることで、見掛け比重をさらに大きく下げることができるために、分散性がより一層向上する。
なお、強い負電荷を発生するアニオンポリマを使用すると、ＭｇＯとポリマの結合が強くなり、ポリマが凝集剤の役割を果たしてしまうことで、ＭｇＯが凝集し沈降を促進してしまい、分散が行われないおそれがあるので好ましくない。
そして、アニオン界面活性剤としては、例えば、カルボン酸系、硫酸エステル系、スルホン酸系、アクリル酸系などのアニオン界面活性剤が挙げられる。
【００６６】
カルボン酸系のアニオン界面活性剤としては、例えば、アルキルエーテルカルボン酸ナトリウム（R-O(CH2CH2O)nCH2COONa）が挙げられる。構造式中のＲはアルキル基である。特に、Ｒ部分の炭素数が１２のラウリルエーテルカルボン酸ナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１４のミリスチル酸エーテルカルボン酸ナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１６のバルミチルエーテルカルボン酸ナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１８のステアリルエーテルカルボン酸ナトリウムが好ましい。
この他にもカルボン酸系のアニオン界面活性剤としては、アクリル酸塩、脂肪酸塩、多価カルボン酸塩、ロジン酸塩、ダイマ酸塩、ポリマ酸塩などが挙げられ、中でもカルボン酸塩（アクリル酸塩を含む）は好ましい。
【００６７】
硫酸エステル系のアニオン界面活性剤としては、例えば、アルキルエーテル硫酸エステルナトリウム（R-O(CH2CH2O)nSO3Na）が挙げられる。構造式中のＲはアルキル基である。特に、Ｒ部分の炭素数が１２のラウリルエーテル硫酸エステルナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１４のミリスチルエーテル硫酸エステルナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１６のバルミチルエーテル硫酸エステルナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１８のステアリルエーテル硫酸エステルナトリウムが好ましい。
この他にも硫酸エステル系のアニオン界面活性剤としては、アルキル硫酸エステル塩、ポリオキシアルキレンアルキル硫酸エステル塩、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩、トリスチレン化フェノール硫酸エステル塩、ポリオキシアルキレンジスチレン化フェノール硫酸エステル塩などが挙げられる。
【００６８】
スルホン酸系のアニオン界面活性剤としては、例えば、アルキルスルホン酸ナトリウム（R-SO3Na）が挙げられる。構造式中のＲはアルキル基である。特に、Ｒ部分の炭素数が１２のラウリルスルホン酸ナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１４のミリスチルスルホン酸ナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１６のバルミチルスルホン酸ナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１８のステアリルスルホン酸ナトリウムが好ましい。
この他にもスルホン酸系のアニオン界面活性剤としては、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、ジフェニルエーテルスルホン酸塩などが挙げられる。
【００６９】
アニオンポリマとしては、カルボン酸系のポリアクリルアミド・アクリル酸塩が挙げられ、特にアクリルアミド・アクリル酸ナトリウム（-(CH2CHCONH2)m-(CH2-CH-COONa)n-）が好適である。構造式中のｍはアクリルアミドであり、ｎはアクリル酸ナトリウムである。
【００７０】
｛洗浄液の組成｝
そして、上述の塗工装置５００で洗浄に用いる洗浄液５０２は、塗工液５０１と同質の溶剤を主要成分としている。すなわち、塗工液５０１に用いる溶剤を単体もしくは組み合わせて用いる。特に、同一の溶剤とすることが、廃液の処理や仮に誤って塗工液５０１に洗浄液５０２が混入しても塗布工程に影響を生じないことから好ましい。
なお、分散剤は、コストの低減のために添加しなくてもよい。また、塗工液５０１の溶剤と同一ではなくても、上述した塗工液５０１に利用する溶剤であればよい。
【００７１】
〔塗工装置の動作〕
次に、上述した塗工装置５００の動作として、上述した構成のＰＤＰ１の製造方法における処理動作について図面に基づいて説明する。
なお、塗工装置５００による塗工液５０１の塗布による単結晶ＭｇＯ粉体層を形成する塗布工程として、所定時間の塗布を実施した後に所定時間待機するサイクルとし、この塗布工程を所定回数実施した後に洗浄工程を実施する構成を例示するが、この限りではない。例えば、塗布工程の後に洗浄工程を実施するサイクルとしたり、所定の時間長で塗布を実施した後に洗浄工程を実施したり、塗布工程における待機時間で洗浄工程を実施したりするなどしてもよい。
【００７２】
｛ＰＤＰの製造方法｝
図９は、スプレー法による単結晶ＭｇＯ粉体層の形成工程を示した模式図である。
ＰＤＰ１の製造に際して、ＰＤＰ１の背面基板２の製造ラインにおいて、ガラス基板の内面側を超音波洗浄処理や中性洗剤を用いた水洗処理などにより十分に洗浄しておく。この後、当該ガラス基板の内面側の全面に金属薄膜を形成して、フォトリソグラフィ法によりアドレス電極２１のパターンを形成する。このアドレス電極２１上にガラスペーストを塗布して、当該ガラスペーストを成形・焼成することによりアドレス電極保護層２２および隔壁２３を形成する。そして、放電セル２３１内部にスクリーン印刷法などにより赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の蛍光体ペーストを塗布し、これを焼成して蛍光体層（２４Ｒ,２４Ｇ,２４Ｂ）を形成する。これにより、ＰＤＰ１の背面基板２が完成する。
【００７３】
一方、ＰＤＰ１の前面基板３の製造ラインにおいて、ガラス基板の内面側を超音波洗浄処理や中性洗剤を用いた水洗処理などにより十分に洗浄しておく。この後、当該ガラス基板の内面側の全面に透明電極材料層を形成して、フォトリソグラフィ法などにより複数の透明電極３１１ａ，３１１ｂを形成する。この透明電極対上にスクリーン印刷法などにより黒色無機顔料のペーストパターンを積層形成し、更にこのパターン上にＡｇペーストのパターンを積層形成する。そして、これらのパターンを焼成して、バス電極黒層３１３ａ，３１３ｂおよび主導電層３１４ａ，３１４ｂからなる２層構造のバス電極３１２ａ，３１２ｂを形成する。この後、これらバス電極３１２ａ，３１２ｂ間にスクリーン印刷法などにより黒色無機顔料のペーストパターンを塗布して、これを焼成して複数のブラックストライプ３２を形成する。さらに、透明電極３１１ａ，３１１ｂ、バス電極３１２ａ，３１２ｂおよびブラックストライプ３２を被覆する状態にダイコータなどによりガラスペーストを塗布して誘電体層３３を形成する。そして、この誘電体層３３の上に蒸着法やスパッタリング法などにより薄膜ＭｇＯ層３４１を成膜形成する。さらに、図９に示すように、この薄膜ＭｇＯ層３４１上に、図７に示す塗工装置５００を用いたスプレー法にて単結晶ＭｇＯ粉体層を形成し（以下に詳述）、これを焼成して結晶ＭｇＯ層３４２を形成する。これにより、ＰＤＰ１の前面基板３が完成する。
【００７４】
｛塗工装置による塗布工程｝
上記ＰＤＰ１の製造における図７に示す塗工装置５００を用いたスプレー法にて単結晶ＭｇＯ粉体層を形成する塗布工程について、図１０を参照して以下に説明する。
図１０は、塗工装置における塗布工程を実施するための塗工液５０１の流通状態、すなわち多重三方弁機構部５３０における制御内容を示すタイミングチャートである。なお、図１０は、第１ピストン６２０および第２ピストン７２０の上方へ移動した状態を「上」、下方へ移動した状態を「下」として示す。
【００７５】
あらかじめ調製した塗工液５０１および洗浄液５０２をそれぞれ塗工液タンク５１１および洗浄液タンク５２１に貯溜しておく。また、制御装置５４０に塗工液５０１を塗布する条件および洗浄する条件を設定しておく。
そして、これら各種運転条件が設定された制御装置５４０に塗布工程を実施する設定入力を作業者が実施すると、制御装置５４０は、多重三方弁機構部５３０の第１三方弁６００および第２三方弁７００の切替状態を適宜設定する。
具体的には、まず、流通管５１２Ａが返送管５１４に接続する状態に多重三方弁機構部５３０を切替制御し、塗工液５０１が流通管５１２Ａ、多重三方弁機構部５３０および返送管５１４を介して循環する塗布待機状態の休止期間である循環状態とする。すなわち、制御装置５４０は、第１三方弁６００の第１ピストン６２０を下方に移動させて第１流入口６１２を閉塞させるとともに、第２三方弁７００の第２ピストン７２０を上方に移動させて流出口７１２が開放し第２流入口７１３および流出口７１２が第２１室７１１Ａを介して連通する状態に、第１三方弁６００および第２三方弁７００を切替制御する。
この状態で、制御装置５４０が所定の駆動条件で液送ポンプ５１２Ｂを駆動させることで、塗工液５０１が流通管５１２Ａから連結管５３１を流通し、第２三方弁７００の第２流入口７１３から第２１室７１１Ａを通って流出口７１２から返送管５１４へ流通し、塗工液タンク５１１に返送されて循環する循環状態となる。この循環および塗工液タンク５１１の攪拌装置により、塗工液５０１は固液分離することなく略均一な組成が維持される。
【００７６】
そして、塗工液５０１の塗布に際して、例えば薄膜ＭｇＯ層３４１が成膜形成された前面基板３が所定位置に搬入されたことをセンサからの検出信号に基づいて認識するなどにより、制御装置５４０は流通管５１２Ａがスプレーガン５１３Ｂに連通して塗工液５０１を吐出する状態、すなわち流通管５１２Ａが吐出管５１３Ａに接続する吐出状態としての塗布状態に、多重三方弁機構部５３０の第１三方弁６００および第２三方弁７００の切替状態を適宜設定する。
具体的には、制御装置５４０は、第１三方弁６００の第１ピストン６２０を上方へ移動させて第１流入口６１２が開放し第１流入口６１２および吐出口６１３が第１１室６１１Ａを介して連通させるとともに、第２三方弁７００の第２ピストン７２０を下方に移動させて流出口７１２が閉塞する状態に、第１三方弁６００および第２三方弁７００を切替制御する。
この切替制御により、流通管５１２Ａが吐出管５１３Ａに接続する状態となり、循環していた塗工液５０１は、流通管５１２Ａから連結管５３１を流通し、第１三方弁６００の第１流入口６１２から第１１室６１１Ａを通って吐出口６１３から吐出管５１３Ａへ流通し、スプレーガン５１３Ｂから空気と２液体化された霧化状態で薄膜ＭｇＯ層３４１上に塗布される。この塗布の際、前面基板３は加温され、溶剤が直ちに乾燥され、ＭｇＯ粉体が薄膜ＭｇＯ層３４１上に付着する状態とすることが好ましい。
この塗布が完了、例えば薄膜ＭｇＯ層３４１の前面に所定量の塗工液５０１が塗布されたことを時間経過などにより制御装置５４０が認識すると、制御装置５４０は再び多重三方弁機構部５３０を切替制御して、上述した循環状態とする。
【００７７】
｛塗工装置による洗浄工程｝
一方、所定回数、あるいは所定時間で塗布工程が実施されたことを制御装置５４０がカウンタやタイマなどにより認識すると、制御装置５４０は洗浄工程を実施する。この洗浄工程について、図１１を参照して以下に説明する。
図１１は、塗工装置における洗浄工程を実施するための洗浄液５０２の流通状態、すなわち多重三方弁機構部５３０における制御内容を示すタイミングチャートである。なお、図１１についても、第１ピストン６２０および第２ピストン７２０の上方へ移動した状態を「上」、下方へ移動した状態を「下」として示す。
【００７８】
この洗浄工程では、第１三方弁６００を洗浄する第１洗浄工程と、第２三方弁７００を洗浄する第２洗浄工程が実施される。なお、第１洗浄工程後に第２洗浄工程を実施するタイミングで例示するが第２洗浄工程を先に実施してもよい。
すなわち、制御装置５４０は、第１三方弁６００の第１ピストン６２０を下方へ移動させて第１流入口６１２を閉塞させて第１連通孔６１１Ｂを開放させ、第１連通孔６１１Ｂを介して第１１室６１１Ａおよび第１２室６１１Ｃを連通させ、第１洗浄口６１４と吐出口６１３とが第１内部空間６１１を介して連通する状態とし、洗浄管５２２および吐出管５１３Ａが連通する状態に、第１三方弁６００を切替制御する。さらに、制御装置５４０は、第２三方弁７００の第２ピストン７２０を上方へ移動させ、第２連通孔７１１Ｂを閉塞して第２１室７１１Ａおよび第２２室７１１Ｃを遮断し、流出口７１２と第２流入口７１３とが第２１室７１１Ａを介して連通する状態とし、連結管５３１および返送管５１４が連通する状態に、第２三方弁７００を切替制御する。
【００７９】
この切替制御により、制御装置５４０が洗浄部５２０の図示しない液送ポンプを駆動させることで、洗浄液タンク５２１に貯溜する洗浄液５０２が洗浄管５２２を流通し、第１三方弁６００の第１洗浄口６１４から第１２室６１１Ｃ、第１連通孔６１１Ｂおよび第１１室６１１Ａを通って吐出口６１３から吐出管５１３Ａへ流通し、スプレーガン５１３Ｂから吐出され、第１三方弁６００からスプレーガン５１３Ｂまで洗浄される第１洗浄工程が実施される。この第１洗浄工程により、第１三方弁６００内、すなわち第１内部空間６１１内および第１ピストン６２０が洗浄液５０２により洗われ、塗工液５０１が第１三方弁６００内に残留することを防止している。
なお、第１ピストン７２０が第２連通孔７１１Ｂを閉塞しているため、第２洗浄口７１４から第２三方弁７００へ流入する洗浄液は、第２２室７１１Ｃ内で滞留する。さらに、第２洗浄口７１４の上流にあるバルブ（図８の右側バルブ）を閉じてもよい。
また、この状態で、液送ポンプ５１２Ｂが駆動していることから、塗工液５０１が連結管５３１から第２三方弁７００を介して返送管５１４へ流通して循環する循環状態となっている。
なお、洗浄液５０２の吐出の際、洗浄液５０２と空気とが２液体化された霧化状で吐出する場合に限らず、単に洗浄液５０２を吐出させるのみとしてもよい。また、この洗浄液５０２の吐出の際、例えば廃液タンクで吐出した洗浄液５０２を回収できる構成としておくことが好ましい。
【００８０】
この後、制御装置５４０は、塗工液経路５１２の液送ポンプ５１２Ｂの駆動を停止させる。なお、洗浄部５２０の液送ポンプは第１洗浄工程に継続して駆動させておく。
また、制御装置５４０は、第１三方弁６００の第１ピストン６２０を上方へ移動させ、第１連通孔６１１Ｂを閉塞して第１１室６１１Ａおよび第１２室６１１Ｃを遮断し、第１流入口６１２と吐出口６１３とが第１１室６１１Ａを介して連通する状態とし、連結管５３１および吐出管５１３Ａが連通する状態に、第１三方弁６００を切替制御する。さらに、制御装置５４０は、第２三方弁７００の第２ピストン７２０を下方へ移動させ、第１流入口６１２を閉塞して第２連通孔７１１Ｂを開放させ、第２連通孔７１１Ｂを介して第２１室７１１Ａおよび第２２室７１１Ｃを連通させ、第２洗浄口７１４と第２流入口７１３とが第２内部空間７１１を介して連通する状態とし、洗浄管５２２および連結管５３１が連通する状態に、第１三方弁６００を切替制御する。
【００８１】
この切替制御により、液送ポンプ５１２Ｂが停止している。そして、洗浄部５２０の図示しない液送ポンプを駆動させることで、洗浄液タンク５２１に貯溜する洗浄液５０２が洗浄管５２２を流通し、第２三方弁７００の第２洗浄口７１４から第２２室７１１Ｃ、第２連通孔７１１Ｂおよび第２１室７１１Ａを通って第２流入口７１３から連結管５３１へ流通する。さらに、連結管５３１の流通孔５３１Ａから第１三方弁６００の第１流入口６１２へ流入し、第１１室６１１Ａを通って吐出口６１３から吐出管５１３Ａを流通し、スプレーガン５１３Ｂから吐出され、第２三方弁６００からスプレーガン５１３Ｂまで洗浄される第２洗浄工程が実施される。
この第２洗浄工程においても、スプレーガン５１３Ｂからの吐出状態は、霧化状に限らず、洗浄液５０２のみとしてもよい。また、吐出される洗浄液５０２を回収する構成とすることが好ましい。
なお、第１ピストン６２０が第１連通孔６１１Ｂを閉塞しているため、第１洗浄口６１４から第１三方弁６００へ流入する洗浄液は第１２室６１１Ｃ内で滞流する。さらに、第１洗浄口６１４の上流にあるバルブ（図８の左側バルブ）を閉じても良い。
【００８２】
〔塗工装置の作用〕
｛実験｝
次に、上記本実施の形態における塗工装置５００における洗浄効果を確認するための実験について、図面を参照して説明する。
図１２は、本実施の形態における塗工装置を説明するために実施した確認実験で比較する比較例の塗工装置の概略構成を示す概念図である。図１３は、図１２に示す比較例の塗工装置における三方弁および二方弁を一体的に連結した構成を示す断面図である。
【００８３】
（実験装置の構成）
確認実験における本実施の形態の塗工装置５００としては、上記図７に示す構成における塗工液タンク５１１に、直径寸法が５０ｍｍの２枚の攪拌翼を有し３００ｒｐｍの回転速度で攪拌翼を回転させる攪拌装置を設けた。
液送ポンプ５１２Ｂとしては、ギヤポンプを用い、インバータ周波数を変化させてギヤポンプに接続されているモータ回転数を変化する構成とした。
そして、塗工液タンク５１１から多重三方弁機構部５３０までの流通管５１２Ａを１０ｍ、多重三方弁機構部５３０から塗工液タンク５１１までの返送管５１４を１０ｍ、多重三方弁機構部５３０からスプレーガン５１３Ｂまでの吐出管５１３Ａを２０ｍとして、内径が２ｍｍでＭｇＯ粉体の付着性が比較的に低いＰＦＡチューブを用いて配管した。
【００８４】
一方、比較する装置構成としては、図１２に示すように、図２に示す塗工装置９００にスプレーガン９４０を洗浄する構成を設けたものとした。
すなわち、比較例の塗工装置９５０は、図２に示す塗工装置９００の三方弁９３０とスプレーガン９４０との間の配管９３１に二方弁９５１を設け、この二方弁９５１に洗浄液５０２を貯溜する洗浄液タンク９５２に一端が接続する配管９５３を接続している。すなわち、この二方弁９５１は、図１３に示すように、三方弁９３０に一体的に連結して構成している。そして、塗工装置９５０は、二方弁９５１の切替により、塗工液５０１を吐出する塗布状態と、洗浄液５０２が洗浄液タンク９５２から配管９５３を介して配管９３１に流入してスプレーガン９４０から吐出される洗浄状態とを切替可能となっている。そして、配管は、上述したＰＦＡチューブを用いて同様の長さとした。
【００８５】
（実験方法）
実験方法としては、塗工液５０１の吐出の変化状況と、ガラス基板に塗布した塗布状態と、圧縮空気の導入による吐出状態と、について実験した。
そして、各実験において、塗工液５０１として、粉体平均粒径が１〜３μｍの酸化マグネシウム粉末を用い、イソプロパノール（２−プロパノール：ＩＰＡ）に５ｗｔ％の濃度で超音波分散機にて分散させて調製したものを用いた。
また、洗浄液としては、塗工液５０１の溶剤として用いるＩＰＡを用いた。
また、塗工液５０１の塗布条件としては、１５ｍｌ／分の流量で循環および塗布する状態で液送ポンプ５１２Ｂを駆動させた。
さらに、スプレーガン５１３Ｂ，９４０は、塗工液５０１の塗布時に、エア霧化圧を０．２ＭＰａとした。
【００８６】
（１）吐出変化状況の実験
塗布工程として、塗工液５０１を吐出する塗布状態を１分間、塗工液５０１を循環させる循環状態で１分間を１サイクルとし、それぞれ２００回繰り返した。また、洗浄工程としては、塗布工程を２０サイクル毎に実施した。なお、図１２および図１３に示す比較例の塗工装置９５０では、洗浄液５０２を二方弁９５１からスプレーガン９４０へ流通させて吐出させる条件として、５０ｍｌ／分で２０秒間、本実施の形態の塗工装置５００では、第１洗浄工程および第２洗浄工程でそれぞれ５０ｍｌ／分で１０秒間ずつ実施した。なお、各塗工装置５００，９５０で洗浄工程を実施した後、塗工液５０１を５０ｍｌ／分で５秒間スプレーガン５１３Ｂ，９４０へ流通させて塗工液５０１をスプレーガン５１３Ｂ，９４０までの流路で充填させる塗工液パージ処理を実施した。
そして、塗工装置５００，９５０による塗工液５０１の吐出時の吐出量を測定し、吐出量のばらつき、すなわち標準偏差を演算した。その結果を図１４に示す。また、塗工装置５００において、洗浄回数毎の吐出量の標準偏差の結果を図１５に示す。
また、この吐出変化状況の実験後に、塗工装置５００，９５０を分解し、内部状況を観察した。この分解観察部位としては、塗工装置５００における第１三方弁６００および第２三方弁７００と、塗工装置９５０における三方弁９３０および二方弁９５１と、とした。
【００８７】
（２）塗布状態の実験
この塗布状態の実験としては、塗布工程を２００回実施した後に、１辺が１０００ｍｍの略正方形のソーダガラス上に塗工液５０１を塗布し、透過率について比較評価した。透過率の測定は、ソーダガラスの面内領域の２０カ所とした。なお、空気の透過率を１００％としたとき、塗布後のガラス基板の透過率が７０％となる状態に設定して塗工液５０１を塗布した。
この透過率の測定結果を図１６に示す。
【００８８】
（３）圧縮空気の導入による吐出状態の実験
この圧縮空気の導入による吐出状態の実験としては、上述した本実施の形態の塗工装置５００における洗浄工程で、上述した実施の形態のように塗布工程に移行する場合と、洗浄液５０２を流通させた第１洗浄工程および第２洗浄工程後に圧縮空気を導入する場合とについて、スプレーガン５１３Ｂから吐出される塗工液５０１の濃度を比較した。
なお、圧縮空気を導入する構成としては、図１７に示すように、上述した実施の形態における図７および図８に示す塗工装置５００における洗浄管５２２に、圧縮空気を導入する圧縮空気供給手段を構成する圧縮空気導入管５２５を接続している。この図１７に示す塗工装置５００では、図１８に示すように、第１洗浄工程および第２洗浄工程が切り替えられる。なお、図１８についても、第１ピストン６２０および第２ピストン７２０の上方へ移動した状態を「上」、下方へ移動した状態を「下」として示す。
すなわち、上述した実施の形態における図１１に示す多重三方弁機構部５３０の切替制御において、図１８に示すように、第１洗浄工程後に第２洗浄工程へ切り替える前と、第２洗浄工程後に塗布工程へ切り替える前とで、洗浄管５２２へ圧縮空気を導入して残留する洗浄液５０２をスプレーガン５１３Ｂから吐出させる。
【００８９】
そして、塗工液５０１の吐出は１０ｍｌ／分とし、図１７に示す実験装置における圧縮空気の圧力を０．１ＭＰａとした。
なお、洗浄工程を実施した後、塗工液５０１をスプレーガン５１３Ｂ，９４０までの流路で充填させる塗工液パージ処理は実施しなかった。
そして、塗布工程に移行して塗工液５０１の吐出を開始する時点から所定時間経過後（５秒毎）の塗工液５０１におけるＭｇＯ粉末の濃度を測定し、経時変化を比較評価した。その結果を図１９に示す。
【００９０】
（実験結果）
（１）吐出変化状況の実験
図１４に示す結果から、図１２および図１３に示す比較例の塗工装置９５０に比して、本実施の形態の塗工装置５００では、吐出量のばらつきが半分以下と小さいことがわかる。そして、塗工装置９５０では、吐出変化状況の実験後に分解した三方弁９３０のピストンと内壁面とのクリアランスがある部分に、ＭｇＯ粉体の固着が発生していることが認められた。一方、本実施の形態の塗工装置５００では、第１三方弁６００および第２三方弁７００ともＭｇＯ粉体の付着は認められなかった。
このため、特に塗工液５０１の流通状態を切り替える構成で凹凸がありＭｇＯ粉体の固着が生じやすい弁の部分でも、洗浄液５０２を流通させて洗浄する本実施の形態によれば、安定した吐出量が得られることがわかる。
さらに、図１５に示す結果から、上述した塗工装置５００では、塗布工程を長期間（５００回）実施しても、吐出量の標準偏差の変化がほとんど生じておらず、塗工液５０１を長期間安定して吐出できることが分かる。なお、塗布工程の回数が増大するにしたがって、吐出量の標準偏差が若干増大傾向となっている。なお、５００回の吐出後の分解観察では、第１三方弁６００および第２三方弁７００にＭｇＯ粉体の付着は認められなかった。このため、塗工液５０１が流通する経路で凝集や固着が生じていることにより、吐出量の標準偏差が若干増大傾向となったものと考えられる。
【００９１】
（２）塗布状態の実験
図１６に示す結果から、比較例の塗工装置９５０では、ガラス基板の面内での透過率のばらつきが４％程度であるのに対し、本実施の形態の塗工装置５００では１％程度のばらつきであった。このように、本実施の形態では、安定した塗布状態が得られることが認められた。
（３）圧縮空気の導入による吐出状態の実験
図１９に示す結果から、図８に示すような洗浄液のみを流通させる塗工装置５００では、塗布工程を実施する吐出当初ではＭｇＯ粉体の濃度がほぼ「０」で、次第にＭｇＯ粉体の濃度が上昇することが認められた。これは、洗浄工程後に、多重三方弁機構部５３０内から吐出管５１３Ａ内およびスプレーガン５１３Ｂ内に洗浄液５０２が残留しており、塗布工程で塗工液５０１をスプレーガン５１３Ｂへ流通させて吐出する際、吐出当初では残留する洗浄液５０２が吐出され、次第に残留する洗浄液５０２に流通させた塗工液５０１が混合拡散し、次第にＭｇＯ粉体濃度が増大したものと考えられる。
一方、圧縮空気を導入した図１７に示す実験装置では、塗布工程を実施するために塗工液５０１の吐出開始当初から約５秒程度では、塗工液５０１が吐出されなかった。なお、吐出された塗工液５０１は、吐出当初からＭｇＯ粉体の濃度は調製時の５ｗｔ％で変わりはなかった。これは、洗浄液５０２を流通させて洗浄した後に、洗浄液５０２が圧縮空気にて多重三方弁機構部５３０からスプレーガン５１３Ｂまでの流路から排出され、この流路内は空洞状態となっているため、塗工液５０１が吐出するまでに時間を要したものと考えられる。
そして、圧縮空気を導入せずに洗浄液５０２が残留する場合と、圧縮空気を導入した場合とでは、所定の濃度の塗工液５０１が吐出されるまでの時間が、圧縮空気を導入した場合の方が短かった。このため、圧縮空気を導入した後に塗工液パージ処理を実施して洗浄工程が終了する構成とすることで、塗工液パージ処理として上述したように５秒間を要したとしても、塗工液パージ処理により塗布工程の開始当初から所望の濃度の塗工液５０１が吐出されることから、圧縮空気を導入する処理を実施することにより、所定の濃度の塗工液５０１が吐出されるまでの時間が短縮することが分かる。さらに、圧縮空気を導入しない場合では、濃度が安定する時間まで吐出させてから塗布させるので、濃度が安定して塗布できるまで廃液として排出させる必要があることから、圧縮空気を導入することで、廃液の処理量が低減できる。したがって、処理における時間的・コスト的な効率の向上が得られることがわかる。
【００９２】
｛作用効果｝
上述したように、上記実施の形態では、塗工液タンク５１１に接続し塗工液５０１を流通する塗工液経路５１２に、この塗工液経路５１２に接続し塗工液を吐出する吐出手段５１３と、塗工液経路５１２に接続し流通する塗工液５０１を塗工液タンク５１１へ返送する返送管５１４を備えた塗工部５１０に、第１三方弁６００および第２三方弁７００を備え、塗工液経路５１２、吐出手段５１３、返送管５１４、および、洗浄液５０２を貯溜する洗浄液タンク５２１に接続し洗浄液を流通する洗浄管５２２が接続され、それぞれの接続状態を切り替える多重三方弁機構部５３０を設けている。
すなわち、塗工液経路５１２に接続し塗工液５０１が流入する第１流入口６１２、洗浄管５２２が接続し洗浄液５０２が流入する第１洗浄口６１４、および、吐出手段５１３に接続し流入した塗工液５０１または洗浄液５０２を吐出手段５１３へ流出する吐出口６１３を有し、第１流入口６１２および吐出口６１３が連通する状態と、第１洗浄口６１４および吐出口６１３が連通する状態とに切り替える第１三方弁６００を塗工部５１０に設ける。さらに、塗工液経路５１２に接続し塗工液５０１が流入する第２流入口７１３、洗浄管５２２が接続し洗浄液５０２が流入する第２洗浄口７１４、および、返送管５１４に接続し流入した塗工液５０１を返送管５１４へ流出する流出口７１２を有し、第２流入口７１３および流出口７１２が連通する状態と、第２洗浄口７１４および第２流入口７１３が連通する状態とに切り替える第２三方弁７００を塗工部５１０に設けている。
この連通状態の切り替えとして、第１三方弁６００で、塗工液経路５１２から塗工液５０１が流入され吐出手段５１３へ流出する状態と、洗浄管５２２から洗浄液５０２が流入され吐出手段５１３へ流出する状態とに切り替えさせる。さらに、第２三方弁７００で塗工液経路５１２から塗工液５０１が流入され返送管５１４へ流出する状態、および、洗浄管５２２から洗浄液５０２が流入され塗工液経路５１２の延長上に位置する連結管５３１および第１三方弁６００を介して吐出手段５１３へ流出する状態とに切り替えさせる。このことにより、塗工液５０１の塗布および循環における塗工液５０１の流通状態を切り替える構成と洗浄する構成とを構築する際、第１三方弁６００および第２三方弁７００の双方がそれぞれ洗浄液５０２にて洗浄させる構成が得られる。したがって、例えばＭｇＯ粉体などの無機物を分散するスラリを塗工液５０１とする場合でも、無機物の凝集や固着などが多重三方弁機構部５３０で生じることを防止でき、長期間安定して塗工液５０１を吐出できる。そして、この長期間安定して塗工液５０１を吐出できる切り替え機構として、同様な構成の第１三方弁６００および第２三方弁７００を適宜連結して構成している。したがって、比較的に入手が容易で安価に得られる三方弁を用いるので、装置コストを低減できる。よって、ＰＤＰ１の製造に際して、結晶ＭｇＯ層３４２を設けるために塗工装置５００を用いることで、略均一にＭｇＯ粉体を塗布できることから、安定した特性のＰＤＰ１が得られる。
【００９３】
そして、多重三方弁機構部５３０として、第１三方弁６００および第２三方弁７００を、第１流入口６１２および第２流入口７１３がそれぞれ接続する塗工液経路５１２に接続する連結管５３１を介して互いに連通する状態に一体的に連結している。
このため、１つの弁と同様にして取り扱いでき、塗工装置５００の製造性の向上が得られる。
【００９４】
また、多重三方弁機構部５３０における塗工液経路５１２と吐出手段５１３と返送管５１４と洗浄管５２２との切り替えとして、制御装置５４０による第１三方弁６００および第２三方弁７００の切り替え制御により、塗工液５０１および洗浄液５０２の流通状態を適宜切り替えている。
すなわち、第１三方弁６００の第１流入口６１２を閉塞させるとともに、第２三方弁７００の第２流入口７１３および流出口７１２が連通する状態に切り替え、塗工液経路５１２を流通する塗工液５０１が第２三方弁７００を介して返送管５１４へ流出して循環される循環状態とする。また、第２三方弁７００の第２流入口７１３を閉塞させるとともに、第１三方弁６００の第１流入口６１２および吐出口６１３が連通する状態に切り替え、塗工液経路５１２を流通する塗工液５０１が第１三方弁６００を介して吐出手段５１３へ流出して吐出される塗布状態とする。さらに、第１三方弁６００の第１流入口６１２を閉塞させて第１洗浄口６１４および吐出口６１３が連通する状態に切り替え、洗浄管５２２を流通する洗浄液５０２が第１洗浄口６１４から第１三方弁６００内を介して吐出手段５１３へ流出させる第１洗浄状態とする。また、第１三方弁６００の第１流入口６１２を塗工液経路５１２に連通する連結管５３１に連通する状態に開放させ第１流入口６１２および吐出口６１３が連通する状態に切り替えるとともに、第２三方弁７００の第２流入口７１３を連結管５３１に連通する状態に開放させ第２洗浄口７１４および第２流入口７１３が連通する状態に切り替え、洗浄管５２２を流通する洗浄液５０２が第２洗浄口７１４から第２三方弁７００内を通って連結管５３１を介して第１流入口６１２から第１三方弁６００内を通って吐出手段５１３へ流出させる第２洗浄状態とする。これら循環状態、塗布状態、第１洗浄状態および第２洗浄状態に適宜切り替える制御をしている。
このため、塗工液５０１の塗布・循環を実施する塗布工程と、第１三方弁６００を洗浄する第１洗浄状態および第２三方弁７００を洗浄する第２洗浄状態を実施する洗浄工程が、第１三方弁６００および第２三方弁７００の切り替えタイミングなどの条件をあらかじめ設定しておくことで、制御装置５４０により適宜流通状態が自動的に切り替えられ、三方弁を組み合わせた簡単な構成で、長期間安定した塗工液５０１の塗布が容易に得られる。
【００９５】
そして、塗工液経路５１２を流通する塗工液５０１を吐出手段５１３から吐出させる塗布状態を所定回数実施した後に第１洗浄状態および第２洗浄状態に切り替えて洗浄工程を実施する制御をすることで、例えばカウンタなどの簡単な構成で塗工液５０１および洗浄液５０２の流通状態の切替制御ができ、制御のための設定および制御がより容易にできる。
また、塗布状態を所定時間すなわち塗工液５０１の吐出累積時間が所定時間経過した後に洗浄工程を実施しても、例えばタイマなどの簡単な構成で塗工液５０１および洗浄液５０２の流通状態の切替制御が容易にでき、制御のための設定および制御がより容易にできる。
【００９６】
そして、塗工装置５００として、無機粉粒物であるＭｇＯ粉体を溶剤中に分散した無機物含有スラリの塗工液５０１を塗布する構成としている。
このため、沈降分離しやすく流路内の閉塞が生じやすい無機物含有スラリの塗工液５０１でも、塗工液５０１および洗浄液５０２の流通状態を切り替える第１三方弁６００および第２三方弁７００で固着や閉塞が生じることを防止でき、安定した吐出が確実で容易にできる。特に、無機粉粒物として凝集して固着しやすいＭｇＯ粉体を分散する塗工液５０１で有効な構成で、このようなより閉塞や流路内固着が生じやすいスラリでも安定した吐出が確実で容易にできる。
【００９７】
また、洗浄液５０２として、塗工液５０１と同質の溶剤を主要成分としている。特に、同一の溶剤を洗浄液５０２として用いている。
このため、容易に塗工液５０１を洗い流すことができ、洗浄液５０２の必要量の低減や洗浄時間の短縮などが容易に得られる。さらに、塗工液５０１とともに洗浄液５０２が混合して廃液として回収されても、廃液の処理が容易にできる。また、誤って塗工液５０１に混入しても、塗布工程に影響を生じず、洗浄工程の処理制御がより容易にできる。
【００９８】
そして、上述した実験でも明らかなように、洗浄工程において、洗浄液５０２を流通させた後に洗浄液５０２を流通させる経路に圧縮空気を導入することにより、洗浄液５０２が流路中に残留せず、塗布工程に移行して塗工液５０１を吐出させても、吐出当初から所定の濃度の塗工液５０１を吐出できる。特に、洗浄工程の終了時に塗工液パージ処理を実施することで、塗布工程の開始当初から所定の濃度の塗工液５０１を吐出でき、処理効率を向上できる。
【００９９】
また、洗浄工程時において、スプレーガン５１３Ｂからの吐出を回収する構成としている。このため、系外にそのまま排出されることによる環境汚染を確実に防止できるとともに、適宜回収した廃液を処理、例えば固液分離してＭｇＯ粉体を回収して加熱処理などを施して再利用したり、ＭｇＯ粉体を分離した液体を洗浄液５０２として再利用したりするなど、リサイクルも容易にできる。なお、固液分離の方法としては、フィルトレーションや遠心分離など、各種構成を利用できる。
【０１００】
さらに、洗浄工程では、塗工液５０１を塗布する状態より洗浄液５０２の流量が多くなるようにしている。
このため、制御の容易性や構成の簡略化の観点でタイマ制御する構成でも、確実に洗浄できるとともに、三方弁の凹凸により残留しやすいＭｇＯ粉体も十分に洗い流すことができ、閉塞や固着を長期間防止でき、安定した塗布が長期間得られるとともに、洗浄工程の頻度も低減でき、塗布効率の向上も容易に図れる。
【０１０１】
〔実施形態の変形〕
なお、本発明は、上述した一実施の形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲で以下に示される変形をも含むものである。
【０１０２】
すなわち、ＰＤＰ１における結晶ＭｇＯ層３４２を形成するために単結晶ＭｇＯ粉体層をスプレー法で形成するための構成を例示して説明したが、これに限らず、各種被塗布物へ各種塗工液を塗布する塗工装置に適用できる。例えば、ＭｇＯ粉体を含有するスラリに限らず、有機顔料を含有する液状物、無機顔料を含有するスラリ、表面処理剤や抗菌剤など、各種塗工液を塗布する構成に適用できる。
【０１０３】
そして、製造するＰＤＰ１の構成としても、上述した構成に限らず、各種構成が適用できる。
例えば、上記実施の形態のＰＤＰ１を、前面基板３に表示電極対３１を形成し誘電体層３３によって被覆しかつ背面基板２側に蛍光体層（２４Ｒ,２４Ｇ,２４Ｂ）とアドレス電極２１を形成した反射型交流ＰＤＰとするとしたが、これに限らない。すなわち、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、前面基板側に表示電極対とアドレス電極を形成して誘電体層によって被覆し、背面基板に蛍光体層を形成した反射型交流ＰＤＰや、前面基板側に蛍光体層を形成し背面基板側に表示電極対とアドレス電極を形成して誘電体層によって被覆した透過型交流ＰＤＰ、放電空間の表示電極対とアドレス電極との交差部分に放電セルが形成される三電極型交流ＰＤＰ、放電空間の表示電極とアドレス電極との交差部分に放電セルが形成される二電極型交流ＰＤＰなどの種々の形式のＰＤＰに適用することができる。さらには、プラズマディスプレイパネルに限らず、液晶パネルや有機ＥＬパネルなど、各種表示装置の製造における各種材料を塗布する構成にも適用できる。
さらには、上記実施の形態では隔壁２３を梯子状に形成するとしたが、これに限らず、井桁状やストライプ状の隔壁としてもよい。
また、上記実施の形態では、薄膜ＭｇＯ層３４１は、薄膜ＭｇＯ層３４１の全面を被覆するとしたが、これに限らず、例えば、透明電極３１１ａ，３１１ｂに対向する部分や逆に透明電極３１１ａ，３１１ｂに対向する部分以外の部分などのように、部分的にパターン化して形成するようにしてもよい。
【０１０４】
そして、制御装置５４０を設けて自動的に塗工液５０１および洗浄液５０２の流通状態を制御する構成について説明したが、例えば作業者が切替操作するなどしてもよい。さらに、制御装置５４０で一元制御する構成に限らず、各第１三方弁６００および第２三方弁７００などにタイマなどを設け、独立して切替動作する構成とするなどしてもよい。
【０１０５】
また、第１洗浄工程を実施した後に第２洗浄工程を実施して説明したが、上述したように、第２洗浄工程を先に実施してもよい。すなわち、第２三方弁７００が塗工液５０１の流通における下流側に位置するので、第１三方弁６００から第２三方弁７００までに残留する塗工液５０１が第１三方弁６００内を洗浄液５０２に押し出されるように流通することとなる。このことにより、既に第１三方弁６００を洗浄していた場合、洗浄後に塗工液５０１が流通する分、洗浄液５０２を流通させて洗浄させる必要があるので、下流側に位置する第２三方弁７００を先に洗浄することで、洗浄効率の向上が図れる。
【０１０６】
そして、多重三方弁機構部５３０として、ピストン式の第１三方弁６００および第２三方弁７００を連結した構成で説明したが、上述したように、ピストン式のものに限らず、いずれの三方弁を用いてもよい。例えば図２０に示すように、構成してもよい。なお、図２０は、図８および図１７に示す構成と同等の構成については、同一の符号を付している。この図２０に示す構成においても同様の作用効果を奏することができる。
【０１０７】
本発明は、上述した一実施の形態および実施形態の変形のみに限ることなく、その他、本発明の目的を逸脱しない範囲で様々な応用が可能である。
【０１０８】
〔実施の形態の作用効果〕
上記実施の形態では、塗工液経路５１２に接続し塗工液５０１が流入する第１流入口６１２、洗浄管５２２が接続し洗浄液５０２が流入する第１洗浄口６１４、および、吐出手段５１３に接続し流入した塗工液５０１または洗浄液５０２を吐出手段５１３へ流出する吐出口６１３を有し、第１流入口６１２および吐出口６１３が連通する状態と、第１洗浄口６１４および吐出口６１３が連通する状態とに切り替える第１三方弁６００を、塗工液タンク５１１に接続し塗工液５０１を流通する塗工液経路５１２に、この塗工液経路５１２に接続し塗工液を吐出する吐出手段５１３と、塗工液経路５１２に接続し流通する塗工液５０１を塗工液タンク５１１へ返送する返送管５１４を備えた塗工部５１０に設ける。さらに、塗工液経路５１２に接続し塗工液５０１が流入する第２流入口７１３、洗浄管５２２が接続し洗浄液５０２が流入する第２洗浄口７１４、および、返送管５１４に接続し流入した塗工液５０１を返送管５１４へ流出する流出口７１２を有し、第２流入口７１３および流出口７１２が連通する状態と、第２洗浄口７１４および第２流入口７１３が連通する状態とに切り替える第２三方弁７００を、塗工部５１０に設けている。
このため、塗工液５０１の塗布および循環における塗工液５０１の流通状態を切り替える構成と洗浄する構成とを構築する際、第１三方弁６００および第２三方弁７００の双方がそれぞれ洗浄液５０２にて洗浄させる構成が得られる。したがって、例えばＭｇＯ粉体などの無機物を分散するスラリを塗工液５０１とする場合でも、無機物の凝集や固着などが多重三方弁機構部５３０で生じることを防止でき、長期間安定して塗工液５０１を吐出できる。そして、この長期間安定して塗工液５０１を吐出できる切り替え機構として、同様な構成の第１三方弁６００および第２三方弁７００を適宜連結して構成している。したがって、比較的に入手が容易で安価に得られる三方弁を用いるので、装置コストを低減できる。
【０１０９】
また、上記実施の形態では、塗工液タンク５１１に接続し塗工液５０１を流通する塗工液経路５１２に、この塗工液経路５１２に接続し塗工液を吐出する吐出手段５１３と、塗工液経路５１２に接続し流通する塗工液５０１を塗工液タンク５１１へ返送する返送管５１４を備えた塗工部５１０に、第１三方弁６００および第２三方弁７００を設け、第１三方弁６００で、塗工液経路５１２から塗工液５０１が流入され吐出手段５１３へ流出する状態と、洗浄管５２２から洗浄液５０２が流入され吐出手段５１３へ流出する状態とに切り替えさせる。さらに、第２三方弁７００で塗工液経路５１２から塗工液５０１が流入され返送管５１４へ流出する状態、および、洗浄管５２２から洗浄液５０２が流入され塗工液経路５１２の延長上に位置する連結管５３１および第１三方弁６００を介して吐出手段５１３へ流出する状態とに切り替えさせる。
このため、塗工液５０１の塗布および循環における塗工液５０１の流通状態を切り替える構成と洗浄する構成とを構築する際、第１三方弁６００および第２三方弁７００の双方がそれぞれ洗浄液５０２にて洗浄させる構成が得られる。したがって、例えばＭｇＯ粉体などの無機物を分散するスラリを塗工液５０１とする場合でも、無機物の凝集や固着などが多重三方弁機構部５３０で生じることを防止でき、長期間安定して塗工液５０１を吐出できる。そして、この長期間安定して塗工液５０１を吐出できる切り替え機構として、同様な構成の第１三方弁６００および第２三方弁７００を適宜連結して構成している。したがって、比較的に入手が容易で安価に得られる三方弁を用いるので、装置コストを低減できる。
【０１１０】
そして、放電空間Ｈを介して対向配置された一対の前面基板３および背面基板２と、これら一対の前面基板３および背面基板２のうちいずれか一方の内面上に形成された複数の表示電極対３１と、これら表示電極対３１上を被覆する誘電体層３３と、この誘電体層３３上を被覆する保護層３４とを備えたＰＤＰ１を製造する製造工程で、塗工液タンク５１１に接続し塗工液５０１を流通する塗工液経路５１２に、この塗工液経路５１２に接続し塗工液を吐出する吐出手段５１３と、塗工液経路５１２に接続し流通する塗工液５０１を塗工液タンク５１１へ返送する返送管５１４を備えた塗工装置５００に、塗工液経路５１２、吐出手段５１３および洗浄管５２２が接続してそれぞれの接続状態を切り替える第１三方弁６００と、塗工液経路５１２、返送管５１４および洗浄管５２２が接続してそれぞれの接続状態を切り替える第２三方弁７００と、を設け、ＭｇＯ粉体を溶剤に分散させた塗工液５０１を、第１三方弁６００および第２三方弁７００の切り替えにより吐出手段５１３から塗工液５０１を誘電体層３３上に塗布し、保護層３４の結晶ＭｇＯ層３４２を形成させる塗布工程を実施させる。さらに、洗浄管５２２から洗浄液５０２を第１三方弁６００へ供給させて第１三方弁６００を介して吐出手段５１３へ流出させて吐出させる第１洗浄工程を実施させる。また、洗浄管５２２から洗浄液５０２を第２三方弁７００へ供給させ、第２三方弁７００から塗工液経路５１２に接続する連結管５３１を介して第１三方弁６００へ流入させ、この第１三方弁６００から吐出手段５１３へ流出させて吐出させる第２洗浄工程とを実施している。
このため、塗工液５０１の塗布および循環における塗工液５０１の流通状態を切り替える構成と洗浄する構成とを構築する際、第１三方弁６００および第２三方弁７００の双方がそれぞれ洗浄液５０２にて洗浄させる構成が得られる。したがって、例えばＭｇＯ粉体などの無機物を分散するスラリを塗工液５０１とする場合でも、無機物の凝集や固着などが多重三方弁機構部５３０で生じることを防止でき、長期間安定して塗工液５０１を吐出できる。そして、この長期間安定して塗工液５０１を吐出できる切り替え機構として、同様な構成の第１三方弁６００および第２三方弁７００を適宜連結して構成している。したがって、比較的に入手が容易で安価に得られる三方弁を用いるので、装置コストを低減できる。よって、結晶ＭｇＯ層３４２を設けるために塗工装置５００を用いることで、略均一にＭｇＯ粉体を塗布できることから、安定した特性のＰＤＰ１が得られる。
【図面の簡単な説明】
【０１１１】
【図１】従来の塗工装置を示す模式図である。
【図２】従来の三方弁を備えた塗工装置を示す模式図である。
【図３】本発明の一実施の形態に係るプラズマディスプレイパネルの内部構造を示した分解斜視図である。
【図４】前記実施の形態におけるプラズマディスプレイパネルを模式的に示した正面図である。
【図５】図４のＶ−Ｖ線における断面図である。
【図６】図４のVI−VI線における断面図である。
【図７】前記実施の形態における塗工装置の概略構成を示す概念図である。
【図８】前記実施の形態における塗工装置の多重三方弁機構部の概略構成を示す断面図である。
【図９】前記実施の形態におけるスプレー法による単結晶ＭｇＯ粉体層の形成工程を示した模式図である。
【図１０】前記実施の形態における塗布工程の動作を示すタイミングチャートである。
【図１１】前記実施の形態における洗浄工程の動作を示すタイミングチャートである。
【図１２】前記実施の形態における塗工装置を説明するために実施した確認実験で比較する比較例の塗工装置の概略構成を示す概念図である。
【図１３】図１２に示す比較例の塗工装置における三方弁および二方弁の概略構成を示す断面図である。
【図１４】前記実施の形態における洗浄効果確認実験での吐出変化状況の実験結果を表形式で示す図である。
【図１５】前記実施の形態における洗浄効果確認実験での吐出変化状況の実験結果を表形式で示す図である。
【図１６】前記実施の形態における洗浄効果確認実験での塗布状態の実験結果を示すグラフである。
【図１７】前記実施の形態における変形例の塗工装置の多重三方弁機構部の概略構成を示す断面図である。
【図１８】前記実施の形態における洗浄効果確認実験での圧縮空気の導入による吐出状態の実験に係る変形例の塗工装置における洗浄工程の動作を示すタイミングチャートである。
【図１９】前記実施の形態における洗浄効果確認実験での圧縮空気の導入による吐出状態の実験結果を示すグラフである。
【図２０】本発明の他の実施の形態における塗工装置の多重三方弁機構部の概略構成を示す断面図である。
【符号の説明】
【０１１２】
１……プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
２……背面基板
３……前面基板
３１……表示電極対
３３……誘電体層
３４……保護層
５００……塗工装置
５０１……塗工液
５０２……洗浄液
５１１……塗工液タンク
５１２……塗工液経路
５１３……吐出手段
５１４……返送経路としての返送管
５２０……洗浄液供給手段としての洗浄部
５２１……洗浄液タンク
５２２……洗浄液経路としての洗浄管
５２５……圧縮空気供給手段を構成する圧縮空気導入管
５３０……切替手段としての多重三方弁機構部
５４０……制御手段としての制御装置
６００……第１三方弁
６１２……第１流入口
６１３……吐出口
６１４……第１洗浄口
７００……第２三方弁
７１２……流出口
７１３……第２流入口
７１４……第２洗浄口
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗工液が流通する経路に洗浄液を流通させて洗浄する構成を備えた塗工装置、塗工液を塗工する塗工方法、および、プラズマディスプレイパネルの保護層を酸化マグネシウム粉末を含有する塗工液を塗布して形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネルは、放電空間を介して互いに対向配置された一対の平面ガラス基板である前面基板および背面基板を備えており、背面基板の内面上に井桁状などの隔壁を設けて前記放電空間を複数個の放電セルに区画し、これら複数個の放電セル内で選択的に放電発光させることにより画像表示を実施する。
【０００３】
このようなプラズマディスプレイパネルの前面基板の内面側には、放電ギャップを介して対向する複数の透明電極およびこれら透明電極の一端部に積層するバス電極を備えた複数の表示電極対と、これら表示電極対間に設けられた複数のブラックストライプと、これら表示電極対およびブラックストライプ上を被覆する誘電体層と、この誘電体層上を被覆する保護層と、などがそれぞれ設けられている。
【０００４】
上記保護層は、誘電体層が放電によりスパッタリングされることを防ぐとともに、低電圧で放電を発生させるための二次電子の放出層としての役割も持っている。また、発光は保護層を通して前面基板側から観察されるため可視光に対する透明性も必要とされる。このため、保護層の材料としては、低スパッタ率、高二次電子放出係数、可視光に対する透明性などの特性により酸化マグネシウム（以下ＭｇＯと記す）が広く用いられている。
【０００５】
従来、このようなＭｇＯによる保護層の形成方法として、スプレーガンを用いたスプレー法により、ＭｇＯの微結晶粉末を溶剤に分散させた塗工液を基板に対して吹き付けるものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
この特許文献１に記載の構成では、直径が１〜２μｍのＭｇＯの微結晶粉末をエチルアルコールを分散溶媒として分散させ、吹き付けに用いる懸濁液としている。そして、スプレーガンに懸濁液と霧化用の高圧エアを供給し、懸濁液をガラス基板上にスプレー塗布した後、ガラス基板を２００℃に加熱しエチルアルコールを充分に蒸発させ、ＭｇＯ微結晶が積層したＭｇＯ膜を得る構成が採用されている。
【０００７】
このようなスプレー法による塗布を実施する塗工装置としては、従来、図１および図２に示すものが知られている。ここで、図１は従来の塗工装置を示す模式図である。図２は従来の三方弁を備えた塗工装置を示す模式図である。
【０００８】
図１に示す塗工装置８００は、単結晶ＭｇＯ粉末を溶剤に分散させた塗工液ＬＱをガラス基板Ｋに対してスプレー塗布する装置である。この塗工装置８００は、塗工液ＬＱを貯溜する塗工液タンク８１０と、この塗工液タンク８１０に配管８１１を介して接続されて塗工液タンク８１０内の塗工液ＬＱを吸引する液送ポンプ８２０と、この液送ポンプ８２０に配管８２１を介して接続されて塗工液ＬＱをガラス基板Ｋ上に対してスプレー塗布するスプレーガン８３０とを備えている。
このような塗工装置８００では、スプレー塗布を実施する場合にのみ、液送ポンプ８２０を駆動させて、塗工液ＬＱをスプレーガン８３０に供給する。
【０００９】
図２に示す塗工装置９００は、図１に示す塗工装置８００と同様に、単結晶ＭｇＯ粉末を溶剤に分散させた塗工液ＬＱをガラス基板Ｋに対してスプレー塗布する装置である。この塗工装置９００は、塗工液ＬＱを貯溜する塗工液タンク９１０と、この塗工液タンク９１０に配管９１１を介して接続されて塗工液タンク９１０内の塗工液ＬＱを吸引する液送ポンプ９２０と、この液送ポンプ９２０に配管９２１を介して接続された三方弁９３０と、この三方弁９３０に配管９３１を介して接続されて塗工液ＬＱをガラス基板Ｋ上に対してスプレー塗布するスプレーガン９４０とを備えている。また、三方弁９３０は、配管９３２を介して塗工液タンク９１０内に接続されている。
【００１０】
このような塗工装置９００では、液送ポンプ９２０は常に駆動させておき、スプレー塗布を実施する場合にのみ、三方弁９３０をスプレーガン９４０側に切り換えて塗工液ＬＱをスプレーガン９４０に供給する。一方、スプレー塗布を実施しない間は、塗工液タンク９１０、配管９１１、液送ポンプ９２０、配管９２１、三方弁９３０、配管９３２、塗工液タンク９１０と順に塗工液ＬＱを循環させる。このようにして、スプレー塗布の実施の有無に関わらず、塗工液ＬＱを絶えず循環させているので、装置の各部において単結晶ＭｇＯ粉末が沈降することを防げる。
【００１１】
ここで、塗工装置８００，９００の各配管内で塗工液ＬＱの流速が遅い場合、または、塗工液ＬＱが滞留する部分や各配管の傾斜部分、弁などで流速差が生じる部分にて単結晶ＭｇＯが沈降・固着しやすい。
【００１２】
具体的には、溶剤中に分散した粒子の沈降速度は以下に示す式（１）にて与えられる。
この式（１）からも分かるように、単結晶ＭｇＯは真比重が約３でかつ溶剤の比重が通常１以下であるため、ＭｇＯ粉体の沈降速度ｖは大きくなる、すなわち、ＭｇＯ粉体が溶剤中で沈降しやすい。特に、沈降速度ｖは粒径の２乗に比例するため、ＭｇＯ粉体の粒径ｄが大きくなる程沈降しやすくなる。
【００１３】
〔数式〕
ｖ∝ｄ２×（ρｐ−ρｌ）×ｇ／μ…（１）
ｖ：終末沈降速度
ｄ:粒子の粒径
ρｐ:粒子の密度
ρｌ:溶剤の密度
ｇ:重力加速度
μ：溶剤粘度
【００１４】
また、ＭｇＯ粉体は凝集性が高いために、塗工液タンク８１０，９１０内部や、各配管内で沈降が生じたときに、ＭｇＯ粉体同士が凝集して成長する。これにより、塗工液ＬＱの流路にＭｇＯ粉体の凝集物が付着し、固着や閉塞を引き起こす。
【００１５】
このように、塗工液ＬＱの流路におけるＭｇＯ粉体の固着や閉塞が生じた場合、塗工液ＬＱの流れが妨げられ、スプレーガン８３０，９４０からの吐出量が減少しあるいは不安定となる。これにより、ガラス基板Ｋ上に付着するＭｇＯ量が一定とならず、塗工ムラが生じるおそれがある。
【００１６】
プラズマディスプレイパネルにおいては、所定の量の単結晶ＭｇＯが保護層として充分な厚さをもって堆積していない場合、放電遅れが大きくなり、選択不良などの問題を引き起こすおそれがある。また、局所的にＭｇＯの塗布量にバラツキが生じた場合、輝度ムラなどの特性不良を引き起こすおそれがある。
【００１７】
【特許文献１】特開平７−２９６７１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
そして、上記特許文献１に記載の構成では、ＭｇＯの微結晶粉末をエチルアルコールに分散させて懸濁液を構成しているので、上記のようにＭｇＯが沈降・凝集し易くなってしまう。これにより、懸濁液の流路において、ＭｇＯ粉体の固着や閉塞が生じ易く、基板上への吐出が不安定となり散布されるＭｇＯの量がばらついてしまうおそれがある。
【００１９】
そして、図１に示す塗工装置８００の場合、スプレー塗布を実施しないときには塗工液ＬＱの流れがないために、ＭｇＯ粉体が沈降しやすく、液経路内で固着・閉塞が発生しやすい。
また、図２に示す塗工装置９００の場合、塗工液ＬＱは絶えず循環しているので循環している液経路内で固着・閉塞が発生することは少ないが、三方弁９３０から配管９３１、スプレーガン９４０までの間は、スプレー塗布を実施しない間に塗工液ＬＱの流れがなく、結果として、固着・閉塞が発生してしまう。さらに、凝集や固着の発生により、三方弁９３０のシール性が損なわれ、漏れや逆流などの不都合を生じるおそれもある。
そして、塗工装置８００，９００の双方とも、塗工液ＬＱの滞留が起き易い部分では、ＭｇＯ粉体の固着が生じ、それが成長して詰まりやすい状態となっている。
【００２０】
上記のように、塗工液ＬＱの塗布量にムラが生じた場合、製造されたプラズマディスプレイパネルにおいては、放電遅れ・放電確率がセルにより異なってしまう。このため、輝度の不均一、スキャン不良を引き起こしてしまうおそれがある。
【００２１】
本発明は、上述したような問題点に鑑みて、塗工液を長期間安定して吐出可能な塗工装置、塗工方法、および、プラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することを１つの目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
請求項１に記載の発明は、塗工液を貯溜する塗工液タンクと、この塗工液タンクに接続され前記塗工液を流通する塗工液経路と、この塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を吐出する吐出手段と、前記塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を前記塗工液タンクへ返送する返送経路と、を備えた塗工装置であって、洗浄液を貯溜する洗浄液タンクと、この洗浄タンクに接続され前記洗浄液を流通させる洗浄液経路と、前記塗工液経路に接続され前記塗工液が流入する第１流入口、前記洗浄液経路が接続され前記洗浄液が流入する第１洗浄口、および、前記吐出手段に接続され流入した前記塗工液または前記洗浄液を前記吐出手段へ流出する吐出口を備え、前記第１流入口および前記吐出口が連通する状態と前記第１洗浄口および前記吐出口が連通する状態とに切り替える第１三方弁と、前記塗工液経路に接続され前記塗工液が流入する第２流入口、前記洗浄液経路が接続され前記洗浄液が流入する第２洗浄口、および、前記返送経路に接続され流入した前記塗工液を前記返送経路へ流出する流出口を備え、前記第２流入口および前記流出口が連通する状態と前記第２洗浄口および前記第２流入口が連通する状態とに切り替える第２三方弁と、を具備したことを特徴とした塗工装置である。
【００２３】
請求項４に記載の発明は、塗工液を貯溜する塗工液タンクと、この塗工液タンクに接続され前記塗工液を流通する塗工液経路と、この塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を吐出する吐出手段と、前記塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を前記塗工液タンクへ返送する返送経路と、を備えた塗工装置であって、洗浄液を貯溜する洗浄液タンクと、この洗浄タンクに接続され前記洗浄液を流通させる洗浄液経路と、前記塗工液経路から前記塗工液が流入され前記吐出手段へ流出する状態、および、前記洗浄液経路から前記洗浄液が流入され前記吐出手段へ流出する状態に切り替える第１三方弁と、前記塗工液経路から前記塗工液が流入され前記返送経路へ流出する状態、および、前記洗浄液経路から前記洗浄液が流入され前記塗工液経路および第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出する状態に切り替える第２三方弁と、を具備したことを特徴とした塗工装置である。
【００２４】
請求項１１に記載の発明は、塗工液を貯溜する塗工液タンクと、この塗工液タンクに接続され前記塗工液を流通する塗工液経路と、この塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を吐出する吐出手段と、前記塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を前記塗工液タンクへ返送する返送経路と、前記塗工液経路、前記吐出手段および前記返送経路が接続されそれぞれの接続状態を切り替える切替手段を備えた塗工装置を用いた塗工方法であって、前記塗工装置に、洗浄液を供給する洗浄液供給手段を設けるとともに、前記塗工液経路、前記吐出手段および前記洗浄液供給手段が接続しそれぞれの接続状態を切り替える第１三方弁と前記塗工液経路、前記返送経路および前記洗浄液供給手段が接続しそれぞれの接続状態を切り替える第２三方弁とにて前記切替手段を構成し、前記切替手段に接続し前記切替手段に洗浄液を流入させる洗浄液経路を前記塗工装置に設け、前記塗工液経路を流通する前記塗工液を前記第２三方弁を介して前記返送経路へ流通させ前記塗工液を循環させる循環工程と、前記塗工液経路を流通する前記塗工液を前記第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出させ前記塗工液を前記吐出手段から吐出させる吐出工程と、前記洗浄液経路から前記洗浄液を前記第１三方弁へ供給させこの第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出させ前記洗浄液を前記吐出手段から吐出させる第１洗浄工程と、前記洗浄液経路から前記洗浄液を前記第２三方弁へ供給させ、この第２三方弁から前記塗工液経路を介して前記第１三方弁へ流入させこの第１三方弁から前記吐出手段へ流出させ前記洗浄液を前記吐出手段から吐出させる第２洗浄工程と、を実施することを特徴とする塗工方法である。
【００２５】
請求項１４に記載の発明は、放電空間を介して対向配置された一対の基板と、これら一対の基板のうち一方の基板の内面上に形成された複数の電極対と、これら電極対上を被覆する誘電体層と、この誘電体層上を被覆する保護層とを備えたプラズマディスプレイパネルを製造するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、塗工液を貯溜する塗工液タンクと、この塗工液タンクに接続され前記塗工液を流通する塗工液経路と、この塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を吐出する吐出手段と、前記塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を前記塗工液タンクへ返送する返送経路と、洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記塗工液経路、前記吐出手段および前記洗浄液供給手段が接続しそれぞれの接続状態を切り替える第１三方弁と、前記塗工液経路、前記返送経路および前記洗浄液供給手段が接続しそれぞれの接続状態を切り替える第２三方弁と、を備えた塗工装置を用い、酸化マグネシウム粉体を溶剤に分散させた前記塗工液を、前記第１三方弁および前記第２三方弁の切り替えにより前記吐出手段から吐出させ前記誘電体層上に塗布し、前記保護層となる塗膜を形成する塗布工程と、前記洗浄液供給手段から前記洗浄液を前記第１三方弁へ供給させこの第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出させ前記洗浄液を前記吐出手段から吐出させる第１洗浄工程と、前記洗浄液経路から前記洗浄液を前記第２三方弁へ供給させ、この第２三方弁から前記塗工液経路を介して前記第１三方弁へ流入させこの第１三方弁から前記吐出手段へ流出させ前記洗浄液を前記吐出手段から吐出させる第２洗浄工程と、を実施することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明の一実施の形態について図面に基づいて説明する。
なお、本実施の形態では、前面基板の保護層が薄膜ＭｇＯ層および結晶ＭｇＯ層からなる２層構造となったプラズマディスプレイパネルを製造する構成を例示するが、当該保護層は結晶ＭｇＯ層からなる１層構造であってもよい。
【００２７】
〔プラズマディスプレイパネルの構成〕
以下、製造するプラズマディスプレイパネルの構成について、図面を参照して説明する。
図３は、本発明の一実施の形態に係るプラズマディスプレイパネルの内部構造を示した分解斜視図である。図４は、プラズマディスプレイパネルを模式的に示した正面図である。図５は、図４のＶ−Ｖ線における断面図である。図６は、図４のVI−VI線における断面図である。
【００２８】
本実施形態において、図３に示すように、１はプラズマディスプレイパネル（Plasma Display Panel：ＰＤＰ）であり、このＰＤＰ１は、例えば略平面長方形状に形成され、プラズマ放電による発光を利用して画像を表示する装置である。このＰＤＰ１は、画像表示領域を構成する放電空間Ｈを介して、互いに対向配置された一対の基板である背面基板２および前面基板３を備えている。
【００２９】
これら背面基板２および前面基板３は、それぞれの外周縁部に図示しないシールフリットが設けられて封着されている。そして、封着された当該空間内部は例えば６．７×１０４Ｐａ（５００Ｔｏｒｒ）程度の減圧状態とされ、当該空間にはＨｅ−Ｘｅ（ヘリウム−キセノン）系やＮｅ−Ｘｅ（ネオン−キセノン）系の不活性ガスが充填されている。
【００３０】
背面基板２は、例えば板状ガラス材にて平面長方形状に形成されている。この背面基板２の内面上には、図３に示すように、複数の直線状のアドレス電極２１と、これらアドレス電極２１上を覆うアドレス電極保護層２２と、このアドレス電極保護層２２上に一体的に設けられた隔壁２３と、この隔壁２３の放電セル２３１内部に充填された蛍光体層（２４Ｒ,２４Ｇ,２４Ｂ）と、などがそれぞれ設けられている。
【００３１】
具体的には、アドレス電極２１は、例えばＡｌ（アルミニウム）などにて形成され、図３および図４に示すように、背面基板２の長手方向に略直交して一定の間隔で配設されている。それぞれのアドレス電極２１の一端には図示しないアドレス電極引出部が形成されて、このアドレス電極引出部を介して各アドレス電極２１に図示しない列電極駆動部からの電圧パルスが印加されるようになっている。
【００３２】
アドレス電極保護層２２は、例えばガラスペーストなどにて形成され、図３、図５および図６に示すように、背面基板２の内面上におけるアドレス電極引出部を除いた略全面に亘り設けられている。このアドレス電極保護層２２は、パネル駆動時において、放電によるアドレス電極２１の損耗を防止するとともに、駆動に必要な電荷を蓄積する誘電体層として機能する。なお、アドレス電極保護層２２の外周縁部上には前述のシールフリットが設けられている。
【００３３】
隔壁２３は、図３および図５に示すように、例えばアドレス電極保護層２２と同一成分のガラスペーストにて略梯子状に形成されている。そして、アドレス電極保護層２２上において、アドレス電極２１と略直交する複数の直線状の隙間Ｓ（図５参照）をそれぞれ間に挟んで、複数並列して設けられている。この隔壁２３により放電空間Ｈが複数に区画され、これにて複数の矩形状の放電セル２３１が形成されている。そして、隔壁２３は、その基端部から頂部までの高さがそれぞれ所定の高さ寸法に設定されており、背面基板２と前面基板３との間隙寸法を規定する。
【００３４】
蛍光体層（２４Ｒ,２４Ｇ,２４Ｂ）は、図３、図５および図６に示すように、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の蛍光体ペーストが放電セル２３１内部に順に充填され、これが焼成されることにより形成される。これら蛍光体層（２４Ｒ,２４Ｇ,２４Ｂ）は、それぞれの放電セル２３１で発生した紫外光により励起され、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の可視光を発光する。
【００３５】
前面基板３は、ＰＤＰ１の表示面を構成し、例えば背面基板２と同一材料にて略同一形状に形成されている。この前面基板の内面上には、図３に示すように、アドレス電極２１と略直交して一定の間隔で配列された複数の表示電極対３１と、これら表示電極対３１間にそれぞれ設けられた複数のブラックストライプ３２と、これら表示電極対３１およびブラックストライプ３２上を覆う誘電体層３３と、この誘電体層３３を覆う保護層３４と、などがそれぞれ設けられている。
【００３６】
具体的には、表示電極対３１は、図４および図５に示すように、放電ギャップＧ（図４参照）を介して対向する複数対の透明電極３１１ａ，３１１ｂと、これら透明電極３１１ａ，３１１ｂの一端部に積層する一対の直線状のバス電極３１２ａ，３１２ｂとを備えて構成されている。
【００３７】
透明電極３１１ａ，３１１ｂは、図４に示すように、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）などの透明導電膜で略Ｔ字形状に形成されており、所定の放電セル２３１に対応して一対ずつ設けられている。
【００３８】
バス電極３１２ａ，３１２ｂは、一対の透明電極３１１ａ，３１１ｂにおける放電ギャップＧ（図４参照）に対して反対側の端部に、それぞれ積層して設けられている。これらバス電極３１２ａ，３１２ｂのそれぞれの一端には図示しないバス電極引出部が形成され、このバス電極引出部を介して各透明電極３１１ａ，３１１ｂに図示しない行電極駆動部からの電圧パルスが印加されるようになっている。
このようなバス電極３１２ａ，３１２ｂは、図５に示すように、透明電極３１１ａ，３１１ｂ上に積層して設けられた黒色無機顔料などからなるバス電極黒層３１３ａ，３１３ｂと、これらバス電極黒層３１３ａ，３１３ｂに積層して設けられたＡｇ（銀）などを主成分とする金属材料からなる主導電層３１４ａ，３１４ｂとを備えた２層構造となっている。
【００３９】
ブラックストライプ３２は、図４および図５に示すように、バス電極黒層３１３ａ，３１３ｂと同質の材料にて、直線状に形成されている。このブラックストライプ３２およびバス電極黒層３１３ａ，３１３ｂにて、前面基板３の外方から照射された可視光が吸収されるようになっている。
【００４０】
誘電体層３３は、図５および図６に示すように、例えばガラスペーストなどにて形成され、背面基板２のアドレス電極保護層２２と対向して設けられている。この誘電体層３３は、パネル駆動時において、放電による表示電極対３１の損耗を防止するとともに、駆動に必要な電荷を蓄積する。
【００４１】
保護層３４は、図３、図５および図６に示すように、誘電体層３３の内周面の全面を被覆するＭｇＯ（酸化マグネシウム）からなる薄膜ＭｇＯ層３４１と、この薄膜ＭｇＯ層３４１を被覆する結晶ＭｇＯ層３４２とを備えた２層構造となっている。
【００４２】
薄膜ＭｇＯ層３４１は、例えば蒸着法やスパッタリング法などにより形成される。結晶ＭｇＯ層３４２は、後述する塗工装置５００を用いたスプレー法にて形成される。
このような保護層３４は、誘電体層３３が放電によりスパッタリングされることを防ぐとともに、低電圧で放電を発生させるための二次電子の放出層として機能する。
【００４３】
〔塗工装置の構成〕
以下、上述したプラズマディスプレイパネルにおける結晶ＭｇＯ層を形成するための塗工装置の構成について、図面を参照して説明する。
図７は、塗工装置の概略構成を示す概念図である。図８は、塗工装置の多重三方弁機構部の概略構成を示す断面図である。
【００４４】
｛塗工装置の構成｝
図７において、５００は塗工装置で、この塗工装置５００は、スプレー法により、上述した薄膜ＭｇＯ層３４１に詳細は後述する所定の組成の塗工液５０１を塗布し、焼成によりＰＤＰ１の結晶ＭｇＯ層３４２となる単結晶ＭｇＯ粉体層を形成する装置である。そして、塗工装置５００は、塗工装置としても機能する塗工部５１０と、洗浄液供給手段としての洗浄部５２０と、切替手段としての多重三方弁機構部５３０と、制御手段としての制御装置５４０と、を備えている。
【００４５】
塗工部５１０は、塗工液５０１を塗布する構成である。この塗工部５１０は、塗工液タンク５１１と、塗工液経路５１２と、吐出手段５１３と、返送経路としての返送管５１４と、を備えている。
【００４６】
塗工液タンク５１１は、詳細は後述する塗工液５０１を貯溜するタンクである。なお、この塗工液タンク５１１は、例えば外面側に冷却液などの流通により貯溜する塗工液５０１を冷却する冷却装置や貯溜する塗工液５０１を攪拌する攪拌装置などを備えた構成とすることが好ましい。
【００４７】
塗工液経路５１２は、一端が塗工液タンク５１１に接続され、他端に多重三方弁機構部５３０に接続され、塗工液タンク５１１に貯溜する塗工液５０１を多重三方弁機構部５３０を介して吐出手段５１３へ流出可能に流通する流通管５１２Ａを備えている。
この流通管５１２Ａには、液送ポンプ５１２Ｂが設けられている。液送ポンプとしては、ギヤポンプ、チューブポンプ、プランジャーポンプなどの定量ポンプや、インベラポンプなどの定圧ポンプなど、各種ポンプが利用できる。
【００４８】
吐出手段５１３は、多重三方弁機構部５３０に一端が接続された吐出管５１３Ａと、この吐出管５１３Ａの他端に接続されたスプレーガン５１３Ｂと、を備えている。スプレーガン５１３Ｂは、塗工液５０１や洗浄液５０２と空気とを２液化状態に霧化して吐出する、いわゆる２流体エア霧化方式のものが用いられる。なお、これに限らず、ベル方式、塗工液５０１の圧力のみで霧化する方式の１流体方式など、各種構成が適用できる。
そして、吐出手段５１３は、多重三方弁機構部５３０から流出される塗工液５０１や洗浄部５２０の洗浄液５０２を、吐出管５１３Ａを介してスプレーガン５１３Ｂへ流通し、スプレーガン５１３Ｂから吐出させる。
【００４９】
返送管５１４は、一端が多重三方弁機構部５３０に接続され、他端が塗工液タンク５１１に接続され、多重三方弁機構部５３０から流出される塗工液５０１を塗工液タンク５１１へ流通して循環させる。
【００５０】
洗浄部５２０は、塗工部５１０を洗浄するための構成である。この洗浄部５２０は、洗浄液タンク５２１と、洗浄液経路としての洗浄管５２２と、を備えている。
【００５１】
洗浄液タンク５２１は、洗浄液５０２を貯溜するタンクである。この洗浄液タンク５２１に貯溜される洗浄液５０２としては、例えば塗工液５０１の溶剤と同質、特に同一組成の溶剤とすることが好ましい。
洗浄管５２２は、一端が洗浄液タンク５２１に接続され、他端が多重三方弁機構部５３０に接続され、洗浄液タンク５２１に貯溜する洗浄液５０２を多重三方弁機構部５３０へ流入可能に流通させる。この洗浄管５２２は、他端側が二股に分岐する状態で、多重三方弁機構部５３０にそれぞれ接続する状態となっている。なお、洗浄管５２２は、分岐する構成に限らず、２系統としてもよい。
そして、この洗浄管５２２には、洗浄液５０２を多重三方弁機構部５３０へ流通させる図示しない液送ポンプが設けられている。この液送ポンプは、塗工液経路５１２の液送ポンプ５１２Ｂと同一の構成が用いられるが、異なる構成とてしもよい。そして、液送ポンプは、洗浄液５０２を流通させる際、液送ポンプ５１２Ｂの駆動により塗工液５０１を流通させる流量より多い流量となる状態で洗浄液５０２を流通させる状態に制御装置５４０により制御される。
【００５２】
多重三方弁機構部５３０は、塗工液経路５１２の流通管５１２Ａ、吐出手段５１３の吐出管５１３Ａ、返送管５１４および洗浄管５２２が接続され、これら流通管５１２Ａ、吐出管５１３Ａ、返送管５１４および洗浄管５２２の接続状態、すなわち連通状態を適宜切り替え、塗工液５０１や洗浄液５０２の流通状態を切り替える。
この多重三方弁機構部５３０は、図８に示すように、第１三方弁６００と、第２三方弁７００とを備え、これら第１三方弁６００および第２三方弁７００が連結管５３１により一体的に連結されて構成されている。
なお、第１三方弁６００および第２三方弁７００として、ピストン式三方弁を例示して説明するが、例えばベローズ式三方弁など、各種構成が適用できる。
【００５３】
連結管５３１は、中間部に流通孔５３１Ａを開口する。
この連結管５３１は、一端に流通管５１２Ａの下流側の端部が連結され、流通孔５３１Ａに第１三方弁６００が接続され、他端に第２三方弁７００が接続され、第１三方弁６００および第２三方弁７００を連結し、それぞれ流通管５３１Ａに連通する状態に接続させる。
【００５４】
第１三方弁６００は、第１ハウジング６１０を備えている。この第１ハウジング６１０は、軸方向の一端側となる上方へ拡径する状態に内周面が略円錐台形の第１１室６１１Ａと、この第１１室６１１Ａの拡開する側に第１連通孔６１１Ｂを介して連通し第１１室６１１Ａの拡径する側の径寸法より径小となる内周面が略円筒状の第１２室６１１Ｃを有した第１内部空間６１１を有している。
この第１ハウジング６１０には、軸方向の他端面となる底面に開口し第１１室６１１Ａを外部へ連通させる第１流入口６１２が設けられている。また、第１ハウジング６１０には、一側面に開口し第１１室６１１Ａを外部へ連通させる吐出口６１３が設けられている。さらに、第１ハウジング６１０には、一側面に開口し第１２室６１１Ｃを外部へ連通させる第１洗浄口６１４が設けられている。
また、第１三方弁６００は、第１ハウジング６１０の第１内部空間６１１内に軸方向となる上下方向で移動可能に配設された第１ピストン６２０が設けられている。この第１ピストン６２０は、略円柱状で軸方向の一端側が第１ハウジング６１０の軸方向の上端面から液密に導出するシャフト６２１と、このシャフト６２１の軸方向の一端となる下端に設けられたコマ６２２と、このコマ６２２におけるシャフト６２１が延出する側の端面に第１内部空間６１１の第１連通孔６１１Ｂを閉塞するパッキン６２３と、有している。
【００５５】
そして、第１三方弁６００は、第１流入口６１２に連結管５３１の流通孔５３１Ａが連通する状態で連結管５３１が接続され、吐出口６１３に吐出管５１３Ａが接続され、第１洗浄口６１４に洗浄管５２２が接続されて配設される。この第１三方弁６００は、シャフト６２１が制御装置５４０の制御により移動され、流通管５１２Ａに連通する連結管５３１、吐出管５１３Ａおよび洗浄管５２２の接続状態を切り替える。
すなわち、第１三方弁６００は、第１ピストン６２０が下方へ移動され、コマ６２２の底面が第１１室６１１Ａにおける縮径する側の底面に液密に密着して第１流入口６１２を閉塞する状態で、第１連通孔６１１Ｂが開放して第１１室６１１Ａおよび第１２室６１１Ｃが連通し、第１洗浄口６１４と吐出口６１３とが第１内部空間６１１を介して連通する状態となり、洗浄管５２２および吐出管５１３Ａが連通する状態となる。
また、第１三方弁６００は、第１ピストン６２０が上方へ移動されて第１流入口６１２を開放しパッキン６２３が第１連通孔６１１Ｂを閉塞することで、第１１室６１１Ａおよび第１２室６１１Ｃが液密に遮断され、第１流入口６１２と吐出口６１３とが第１１室６１１Ａを介して連通する状態となり、連結管５３１および吐出管５１３Ａが連通する状態となる。
【００５６】
一方、第２三方弁７００は、第１三方弁６００と同一の構成が利用される。すなわち、第２三方弁７００は、第１三方弁６００の内部空間６１１と同一形状の第２１室７１１Ａおよび第２２室７１１Ｃが第２連通孔７１１Ｂを介して連通する第２内部空間７１１を有する第２ハウジング７１０を備えている。この第２ハウジング７１０は、第１流入口６１２に対応する流出口７１２と、吐出口６１３に対応する第２流入口７１３と、第１洗浄口６１４に対応する第２洗浄口７１４を開口している。
また、第２三方弁７００は、第１ピストン６２０と同様に、シャフト７２１、コマ７２２およびパッキン７２３を有し、制御装置５４０の制御により第２内部空間７１１内で移動される第２ピストン７２０を備えている。
【００５７】
そして、第２三方弁７００は、第２流入口７１３に連結管５３１の端部が接続され、流出口７１２に返送管５１４が接続され、第２洗浄口７１４に洗浄管５２２が接続されて配設される。この連結管５３１の接続により、第２三方弁７００の第２流入口７１３が第１三方弁６００の第１流入口６１２にそれぞれ連結管５３１を介して互いに連通する状態となる。そして、第２三方弁７００は、シャフト７２１が制御装置５４０の制御により移動され、流通管５１２Ａに連通する連結管５３１、返送管５１４および洗浄管５２２の接続状態を切り替える。
すなわち、第２三方弁７００は、第１ピストン７２０が下方へ移動され、コマ７２２の底面が第２１室７１１Ａにおける縮径する側の底面に液密に密着して流出口７１２を閉塞する状態で、第２連通孔７１１Ｂが開放して第２１室７１１Ａおよび第２２室７１１Ｃが連通し、第２洗浄口７１４と第２流入口７１３とが第２内部空間７１１を介して連通する状態となり、連結管５３１および洗浄管５２２が連通する状態となる。
また、第２三方弁７００は、第２ピストン７２０が上方へ移動されて流出口７１２を開放しパッキン７２３が第２連通孔７１１Ｂを閉塞することで、第２１室７１１Ａおよび第２２室７１１Ｃが液密に遮断され、流出口７１２と第２流入口７１３とが第２１室７１１Ａを介して連通する状態となり、連結管５３１および返送管５１４が連通する状態となる。
【００５８】
制御装置５４０は、第１三方弁６００、第２三方弁７００、液送ポンプ５１２Ｂを動作制御する。また、制御装置５４０は、塗工液タンク５１１の図示しない冷却装置や攪拌装置を駆動制御可能としてもよい。そして、制御装置５４０による動作制御としては、液送ポンプ５１２Ｂへ電力を適宜供給して駆動させる動作制御、第１三方弁６００および第２三方弁７００の切替動作などが例示できる。
なお、本実施の形態では、液送ポンプ５１２Ｂは、塗工液５０１の塗布工程および洗浄液５０２による洗浄工程において、常時駆動する構成を例示するが、適宜駆動させて液送する構成としてもよい。また、切替動作としては、例えば制御装置５４０に設けられた図示しないタイマにより切替タイミングを制御する構成を例示するが、例えばクロックに基づく計時する装置などの各種計時手段で設定したプログラムにより切替タイミングを制御するなどしてもよい。
【００５９】
｛塗工液の組成｝
そして、上述の塗工装置５００で塗布する塗工液５０１は、以下の組成となっている。
塗工液５０１は、無機粉粒物であるＭｇＯ粉体を含有する無機物含有スラリである。この塗工液５０１は、溶剤にＭｇＯ粉体を分散して調製される。なお、分散剤を適宜添加することが好ましい。
【００６０】
（ＭｇＯ粉体の構成）
ＭｇＯ粉体には、例えば、ＢＥＴ法によって測定した平均粒径が５００Å以上（好ましくは２０００Å以上）の気相法酸化マグネシウム単結晶粉体（以下、単結晶ＭｇＯ粉体と称す）が用いられる。なお、ＭｇＯ粉体としては、これに限らない。
このような単結晶ＭｇＯ粉体を用いて結晶ＭｇＯ層３４２を形成することにより、ＰＤＰ１の放電特性が改善（放電遅れの減少、放電確率の向上）されることになる。すなわち、放電によって発生する電子線の照射によって、結晶ＭｇＯ層３４２に含まれる粒径の大きな単結晶ＭｇＯ粒から、３００〜４００ｎｍにピークを有するＣＬ発光に加えて、波長域２００〜３００ｎｍ（特に、２３５ｎｍ付近、２３０〜２５０ｎｍ内）にピークを有するＣＬ発光が励起される。そして、当該単結晶ＭｇＯ粒は、そのピーク波長に対応したエネルギー準位を有し、そのエネルギー準位によって電子を長時間（数ｍｓｅｃ以上）トラップすることができる。この電子が電界によって取り出されることで、放電開始に必要な初期電子が得られ、結果として、放電遅れが減少し、放電確率が向上する。
【００６１】
（溶剤の構成）
ＭｇＯ粉体を分散させる溶剤は、極性が強いものほど分散に対して有利に働くため、強い分散を示すものが好ましい。強い分散を示す溶液としては、グリコールやＩＰＡ（２−プロパノール）などのアルコールなどが挙げられる。スプレー法においては、早く揮発することが条件となるために、沸点が低く分散させやすいアルコールが特に好ましい。
また、酢酸エチル、酢酸イソプロピルなどのエステル化合物、ジメチルスルホキシドなどの硫黄化合物、ジメチルホルムアミドなどの窒素化合物においても分散が可能である。無極性の溶剤（炭化水素系）ではＭｇＯ粉体を分散させることはできない。
ＭｇＯ粉体の溶剤に対する分散は、ＭｇＯの酸素またはマグネシウムと親水基（水酸基、カルボキシル基、スルホン基、アミン基など）とによる水素結合もしくは静電引力（極性によるもの）により行なわれる。
【００６２】
（分散剤の構成）
分散剤は、親水基および疎水基を有したものである。すなわち、疎水基ならびに親水基を有する分散剤を用いることにより、ＭｇＯ粉体の分散性の向上が可能である。これは、親水基とＭｇＯとが引き付け合うことと、分子量の大きい疎水基が存在することによる見掛け比重の低下により、分散性の向上が図れる。
そして、分散剤の塗工液５０１中における濃度は、０．１ｗｔ％以上３ｗｔ％以下であることが好ましい。このような分散剤濃度とすれば、ＭｇＯ粉体の沈降が発生することを防止でき、好適にＭｇＯ粉体を分散させることができる。
親水基としては、水酸基（−ＯＨ）が特に強い分散性を示す。アルデヒド基、アミン基、スルホン基などでも分散は可能であるが、分散剤機能としては弱いので、分散性の観点から水酸基が好ましい。なお、カルボキシル基（カルボン酸）を持つもの（酢酸など）ではＭｇＯを溶解させてしまうので好ましくない。
【００６３】
特に分散剤は、水酸基を溶剤と同数以上の価数分含有することが好ましい。また、分散剤は、水酸基が１価の場合は分子量が１００以上であり、水酸基が２価の場合は分子量が６２以上であり、水酸基が３価の場合は分子量が６４以上であることが好ましい。水酸基を持つ分散剤として効果が高いものは、グリセリン、エチレングリコール、アセチレングリコール、アセチレンアルコールなどが挙げられる。水酸基の場合では水酸基の価数が多い程、分散性が良好となる。そのため、水酸基が３価のグリセリンがこの中では最も分散性能が高い。
このようなグリセリン、エチレングリコール、アセチレングリコールを分散剤として使用した場合では、配管などの液流路の表面を分散剤がコーティングする作用があり、それによりＭｇＯ粉体の液経路内での付着を減少させ、液経路での圧損が低減することで、安定した吐出が可能となる。
疎水基としてはアルカン、アルケン、脂肪酸などが挙げられ、水酸基と疎水基を組み合わせた分散剤を用いることにより、ＭｇＯ粉体の分散性が向上する。
【００６４】
以上を踏まえ、分散剤としては、例えば、アセチレンアルコール、１−ヘプタノール（ヘプチルアルコール）、１−オクタノール（オクチルアルコール）、１−ノナノール（ノニルアルコール）、１−デカノール（デシルアルコール）、１−ウンデカノール（ウンデシルアルコール）、１−ドデカノール（ドデシルアルコール）、１，２−プロパンジオール（プロピレングリコール）、１，２−エタンジオール（エチレングリコール）、アセチレングリコール、グリセリンのいずれかを適宜採用できる。
【００６５】
また、親水基および疎水基を有する分散剤として、アニオン界面活性剤およびアニオンポリマの少なくともいずれか一方を用いてもよい。
すなわち、アニオン界面活性剤およびアニオンポリマは、負電荷を発生するため、ＭｇＯ（Ｍｇ２＋）の静電引力によりＭｇＯに吸着する。そして、コロイドを形成し、見かけ比重を下げるとともに、アニオン界面活性剤またはアニオンポリマ同士でのクーロン斥力により粒子間の距離が離れる。これによりＭｇＯ粉体の凝集・沈降が発生し難く、ＭｇＯ粉体の分散性が向上する。
また、アニオン界面活性剤およびアニオンポリマを混合して用いることで、見掛け比重をさらに大きく下げることができるために、分散性がより一層向上する。
なお、強い負電荷を発生するアニオンポリマを使用すると、ＭｇＯとポリマの結合が強くなり、ポリマが凝集剤の役割を果たしてしまうことで、ＭｇＯが凝集し沈降を促進してしまい、分散が行われないおそれがあるので好ましくない。
そして、アニオン界面活性剤としては、例えば、カルボン酸系、硫酸エステル系、スルホン酸系、アクリル酸系などのアニオン界面活性剤が挙げられる。
【００６６】
カルボン酸系のアニオン界面活性剤としては、例えば、アルキルエーテルカルボン酸ナトリウム（R-O(CH2CH2O)nCH2COONa）が挙げられる。構造式中のＲはアルキル基である。特に、Ｒ部分の炭素数が１２のラウリルエーテルカルボン酸ナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１４のミリスチル酸エーテルカルボン酸ナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１６のバルミチルエーテルカルボン酸ナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１８のステアリルエーテルカルボン酸ナトリウムが好ましい。
この他にもカルボン酸系のアニオン界面活性剤としては、アクリル酸塩、脂肪酸塩、多価カルボン酸塩、ロジン酸塩、ダイマ酸塩、ポリマ酸塩などが挙げられ、中でもカルボン酸塩（アクリル酸塩を含む）は好ましい。
【００６７】
硫酸エステル系のアニオン界面活性剤としては、例えば、アルキルエーテル硫酸エステルナトリウム（R-O(CH2CH2O)nSO3Na）が挙げられる。構造式中のＲはアルキル基である。特に、Ｒ部分の炭素数が１２のラウリルエーテル硫酸エステルナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１４のミリスチルエーテル硫酸エステルナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１６のバルミチルエーテル硫酸エステルナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１８のステアリルエーテル硫酸エステルナトリウムが好ましい。
この他にも硫酸エステル系のアニオン界面活性剤としては、アルキル硫酸エステル塩、ポリオキシアルキレンアルキル硫酸エステル塩、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩、トリスチレン化フェノール硫酸エステル塩、ポリオキシアルキレンジスチレン化フェノール硫酸エステル塩などが挙げられる。
【００６８】
スルホン酸系のアニオン界面活性剤としては、例えば、アルキルスルホン酸ナトリウム（R-SO3Na）が挙げられる。構造式中のＲはアルキル基である。特に、Ｒ部分の炭素数が１２のラウリルスルホン酸ナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１４のミリスチルスルホン酸ナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１６のバルミチルスルホン酸ナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１８のステアリルスルホン酸ナトリウムが好ましい。
この他にもスルホン酸系のアニオン界面活性剤としては、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、ジフェニルエーテルスルホン酸塩などが挙げられる。
【００６９】
アニオンポリマとしては、カルボン酸系のポリアクリルアミド・アクリル酸塩が挙げられ、特にアクリルアミド・アクリル酸ナトリウム（-(CH2CHCONH2)m-(CH2-CH-COONa)n-）が好適である。構造式中のｍはアクリルアミドであり、ｎはアクリル酸ナトリウムである。
【００７０】
｛洗浄液の組成｝
そして、上述の塗工装置５００で洗浄に用いる洗浄液５０２は、塗工液５０１と同質の溶剤を主要成分としている。すなわち、塗工液５０１に用いる溶剤を単体もしくは組み合わせて用いる。特に、同一の溶剤とすることが、廃液の処理や仮に誤って塗工液５０１に洗浄液５０２が混入しても塗布工程に影響を生じないことから好ましい。
なお、分散剤は、コストの低減のために添加しなくてもよい。また、塗工液５０１の溶剤と同一ではなくても、上述した塗工液５０１に利用する溶剤であればよい。
【００７１】
〔塗工装置の動作〕
次に、上述した塗工装置５００の動作として、上述した構成のＰＤＰ１の製造方法における処理動作について図面に基づいて説明する。
なお、塗工装置５００による塗工液５０１の塗布による単結晶ＭｇＯ粉体層を形成する塗布工程として、所定時間の塗布を実施した後に所定時間待機するサイクルとし、この塗布工程を所定回数実施した後に洗浄工程を実施する構成を例示するが、この限りではない。例えば、塗布工程の後に洗浄工程を実施するサイクルとしたり、所定の時間長で塗布を実施した後に洗浄工程を実施したり、塗布工程における待機時間で洗浄工程を実施したりするなどしてもよい。
【００７２】
｛ＰＤＰの製造方法｝
図９は、スプレー法による単結晶ＭｇＯ粉体層の形成工程を示した模式図である。
ＰＤＰ１の製造に際して、ＰＤＰ１の背面基板２の製造ラインにおいて、ガラス基板の内面側を超音波洗浄処理や中性洗剤を用いた水洗処理などにより十分に洗浄しておく。この後、当該ガラス基板の内面側の全面に金属薄膜を形成して、フォトリソグラフィ法によりアドレス電極２１のパターンを形成する。このアドレス電極２１上にガラスペーストを塗布して、当該ガラスペーストを成形・焼成することによりアドレス電極保護層２２および隔壁２３を形成する。そして、放電セル２３１内部にスクリーン印刷法などにより赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の蛍光体ペーストを塗布し、これを焼成して蛍光体層（２４Ｒ,２４Ｇ,２４Ｂ）を形成する。これにより、ＰＤＰ１の背面基板２が完成する。
【００７３】
一方、ＰＤＰ１の前面基板３の製造ラインにおいて、ガラス基板の内面側を超音波洗浄処理や中性洗剤を用いた水洗処理などにより十分に洗浄しておく。この後、当該ガラス基板の内面側の全面に透明電極材料層を形成して、フォトリソグラフィ法などにより複数の透明電極３１１ａ，３１１ｂを形成する。この透明電極対上にスクリーン印刷法などにより黒色無機顔料のペーストパターンを積層形成し、更にこのパターン上にＡｇペーストのパターンを積層形成する。そして、これらのパターンを焼成して、バス電極黒層３１３ａ，３１３ｂおよび主導電層３１４ａ，３１４ｂからなる２層構造のバス電極３１２ａ，３１２ｂを形成する。この後、これらバス電極３１２ａ，３１２ｂ間にスクリーン印刷法などにより黒色無機顔料のペーストパターンを塗布して、これを焼成して複数のブラックストライプ３２を形成する。さらに、透明電極３１１ａ，３１１ｂ、バス電極３１２ａ，３１２ｂおよびブラックストライプ３２を被覆する状態にダイコータなどによりガラスペーストを塗布して誘電体層３３を形成する。そして、この誘電体層３３の上に蒸着法やスパッタリング法などにより薄膜ＭｇＯ層３４１を成膜形成する。さらに、図９に示すように、この薄膜ＭｇＯ層３４１上に、図７に示す塗工装置５００を用いたスプレー法にて単結晶ＭｇＯ粉体層を形成し（以下に詳述）、これを焼成して結晶ＭｇＯ層３４２を形成する。これにより、ＰＤＰ１の前面基板３が完成する。
【００７４】
｛塗工装置による塗布工程｝
上記ＰＤＰ１の製造における図７に示す塗工装置５００を用いたスプレー法にて単結晶ＭｇＯ粉体層を形成する塗布工程について、図１０を参照して以下に説明する。
図１０は、塗工装置における塗布工程を実施するための塗工液５０１の流通状態、すなわち多重三方弁機構部５３０における制御内容を示すタイミングチャートである。なお、図１０は、第１ピストン６２０および第２ピストン７２０の上方へ移動した状態を「上」、下方へ移動した状態を「下」として示す。
【００７５】
あらかじめ調製した塗工液５０１および洗浄液５０２をそれぞれ塗工液タンク５１１および洗浄液タンク５２１に貯溜しておく。また、制御装置５４０に塗工液５０１を塗布する条件および洗浄する条件を設定しておく。
そして、これら各種運転条件が設定された制御装置５４０に塗布工程を実施する設定入力を作業者が実施すると、制御装置５４０は、多重三方弁機構部５３０の第１三方弁６００および第２三方弁７００の切替状態を適宜設定する。
具体的には、まず、流通管５１２Ａが返送管５１４に接続する状態に多重三方弁機構部５３０を切替制御し、塗工液５０１が流通管５１２Ａ、多重三方弁機構部５３０および返送管５１４を介して循環する塗布待機状態の休止期間である循環状態とする。すなわち、制御装置５４０は、第１三方弁６００の第１ピストン６２０を下方に移動させて第１流入口６１２を閉塞させるとともに、第２三方弁７００の第２ピストン７２０を上方に移動させて流出口７１２が開放し第２流入口７１３および流出口７１２が第２１室７１１Ａを介して連通する状態に、第１三方弁６００および第２三方弁７００を切替制御する。
この状態で、制御装置５４０が所定の駆動条件で液送ポンプ５１２Ｂを駆動させることで、塗工液５０１が流通管５１２Ａから連結管５３１を流通し、第２三方弁７００の第２流入口７１３から第２１室７１１Ａを通って流出口７１２から返送管５１４へ流通し、塗工液タンク５１１に返送されて循環する循環状態となる。この循環および塗工液タンク５１１の攪拌装置により、塗工液５０１は固液分離することなく略均一な組成が維持される。
【００７６】
そして、塗工液５０１の塗布に際して、例えば薄膜ＭｇＯ層３４１が成膜形成された前面基板３が所定位置に搬入されたことをセンサからの検出信号に基づいて認識するなどにより、制御装置５４０は流通管５１２Ａがスプレーガン５１３Ｂに連通して塗工液５０１を吐出する状態、すなわち流通管５１２Ａが吐出管５１３Ａに接続する吐出状態としての塗布状態に、多重三方弁機構部５３０の第１三方弁６００および第２三方弁７００の切替状態を適宜設定する。
具体的には、制御装置５４０は、第１三方弁６００の第１ピストン６２０を上方へ移動させて第１流入口６１２が開放し第１流入口６１２および吐出口６１３が第１１室６１１Ａを介して連通させるとともに、第２三方弁７００の第２ピストン７２０を下方に移動させて流出口７１２が閉塞する状態に、第１三方弁６００および第２三方弁７００を切替制御する。
この切替制御により、流通管５１２Ａが吐出管５１３Ａに接続する状態となり、循環していた塗工液５０１は、流通管５１２Ａから連結管５３１を流通し、第１三方弁６００の第１流入口６１２から第１１室６１１Ａを通って吐出口６１３から吐出管５１３Ａへ流通し、スプレーガン５１３Ｂから空気と２液体化された霧化状態で薄膜ＭｇＯ層３４１上に塗布される。この塗布の際、前面基板３は加温され、溶剤が直ちに乾燥され、ＭｇＯ粉体が薄膜ＭｇＯ層３４１上に付着する状態とすることが好ましい。
この塗布が完了、例えば薄膜ＭｇＯ層３４１の前面に所定量の塗工液５０１が塗布されたことを時間経過などにより制御装置５４０が認識すると、制御装置５４０は再び多重三方弁機構部５３０を切替制御して、上述した循環状態とする。
【００７７】
｛塗工装置による洗浄工程｝
一方、所定回数、あるいは所定時間で塗布工程が実施されたことを制御装置５４０がカウンタやタイマなどにより認識すると、制御装置５４０は洗浄工程を実施する。この洗浄工程について、図１１を参照して以下に説明する。
図１１は、塗工装置における洗浄工程を実施するための洗浄液５０２の流通状態、すなわち多重三方弁機構部５３０における制御内容を示すタイミングチャートである。なお、図１１についても、第１ピストン６２０および第２ピストン７２０の上方へ移動した状態を「上」、下方へ移動した状態を「下」として示す。
【００７８】
この洗浄工程では、第１三方弁６００を洗浄する第１洗浄工程と、第２三方弁７００を洗浄する第２洗浄工程が実施される。なお、第１洗浄工程後に第２洗浄工程を実施するタイミングで例示するが第２洗浄工程を先に実施してもよい。
すなわち、制御装置５４０は、第１三方弁６００の第１ピストン６２０を下方へ移動させて第１流入口６１２を閉塞させて第１連通孔６１１Ｂを開放させ、第１連通孔６１１Ｂを介して第１１室６１１Ａおよび第１２室６１１Ｃを連通させ、第１洗浄口６１４と吐出口６１３とが第１内部空間６１１を介して連通する状態とし、洗浄管５２２および吐出管５１３Ａが連通する状態に、第１三方弁６００を切替制御する。さらに、制御装置５４０は、第２三方弁７００の第２ピストン７２０を上方へ移動させ、第２連通孔７１１Ｂを閉塞して第２１室７１１Ａおよび第２２室７１１Ｃを遮断し、流出口７１２と第２流入口７１３とが第２１室７１１Ａを介して連通する状態とし、連結管５３１および返送管５１４が連通する状態に、第２三方弁７００を切替制御する。
【００７９】
この切替制御により、制御装置５４０が洗浄部５２０の図示しない液送ポンプを駆動させることで、洗浄液タンク５２１に貯溜する洗浄液５０２が洗浄管５２２を流通し、第１三方弁６００の第１洗浄口６１４から第１２室６１１Ｃ、第１連通孔６１１Ｂおよび第１１室６１１Ａを通って吐出口６１３から吐出管５１３Ａへ流通し、スプレーガン５１３Ｂから吐出され、第１三方弁６００からスプレーガン５１３Ｂまで洗浄される第１洗浄工程が実施される。この第１洗浄工程により、第１三方弁６００内、すなわち第１内部空間６１１内および第１ピストン６２０が洗浄液５０２により洗われ、塗工液５０１が第１三方弁６００内に残留することを防止している。
なお、第１ピストン７２０が第２連通孔７１１Ｂを閉塞しているため、第２洗浄口７１４から第２三方弁７００へ流入する洗浄液は、第２２室７１１Ｃ内で滞留する。さらに、第２洗浄口７１４の上流にあるバルブ（図８の右側バルブ）を閉じてもよい。
また、この状態で、液送ポンプ５１２Ｂが駆動していることから、塗工液５０１が連結管５３１から第２三方弁７００を介して返送管５１４へ流通して循環する循環状態となっている。
なお、洗浄液５０２の吐出の際、洗浄液５０２と空気とが２液体化された霧化状で吐出する場合に限らず、単に洗浄液５０２を吐出させるのみとしてもよい。また、この洗浄液５０２の吐出の際、例えば廃液タンクで吐出した洗浄液５０２を回収できる構成としておくことが好ましい。
【００８０】
この後、制御装置５４０は、塗工液経路５１２の液送ポンプ５１２Ｂの駆動を停止させる。なお、洗浄部５２０の液送ポンプは第１洗浄工程に継続して駆動させておく。
また、制御装置５４０は、第１三方弁６００の第１ピストン６２０を上方へ移動させ、第１連通孔６１１Ｂを閉塞して第１１室６１１Ａおよび第１２室６１１Ｃを遮断し、第１流入口６１２と吐出口６１３とが第１１室６１１Ａを介して連通する状態とし、連結管５３１および吐出管５１３Ａが連通する状態に、第１三方弁６００を切替制御する。さらに、制御装置５４０は、第２三方弁７００の第２ピストン７２０を下方へ移動させ、第１流入口６１２を閉塞して第２連通孔７１１Ｂを開放させ、第２連通孔７１１Ｂを介して第２１室７１１Ａおよび第２２室７１１Ｃを連通させ、第２洗浄口７１４と第２流入口７１３とが第２内部空間７１１を介して連通する状態とし、洗浄管５２２および連結管５３１が連通する状態に、第１三方弁６００を切替制御する。
【００８１】
この切替制御により、液送ポンプ５１２Ｂが停止している。そして、洗浄部５２０の図示しない液送ポンプを駆動させることで、洗浄液タンク５２１に貯溜する洗浄液５０２が洗浄管５２２を流通し、第２三方弁７００の第２洗浄口７１４から第２２室７１１Ｃ、第２連通孔７１１Ｂおよび第２１室７１１Ａを通って第２流入口７１３から連結管５３１へ流通する。さらに、連結管５３１の流通孔５３１Ａから第１三方弁６００の第１流入口６１２へ流入し、第１１室６１１Ａを通って吐出口６１３から吐出管５１３Ａを流通し、スプレーガン５１３Ｂから吐出され、第２三方弁６００からスプレーガン５１３Ｂまで洗浄される第２洗浄工程が実施される。
この第２洗浄工程においても、スプレーガン５１３Ｂからの吐出状態は、霧化状に限らず、洗浄液５０２のみとしてもよい。また、吐出される洗浄液５０２を回収する構成とすることが好ましい。
なお、第１ピストン６２０が第１連通孔６１１Ｂを閉塞しているため、第１洗浄口６１４から第１三方弁６００へ流入する洗浄液は第１２室６１１Ｃ内で滞流する。さらに、第１洗浄口６１４の上流にあるバルブ（図８の左側バルブ）を閉じても良い。
【００８２】
〔塗工装置の作用〕
｛実験｝
次に、上記本実施の形態における塗工装置５００における洗浄効果を確認するための実験について、図面を参照して説明する。
図１２は、本実施の形態における塗工装置を説明するために実施した確認実験で比較する比較例の塗工装置の概略構成を示す概念図である。図１３は、図１２に示す比較例の塗工装置における三方弁および二方弁を一体的に連結した構成を示す断面図である。
【００８３】
（実験装置の構成）
確認実験における本実施の形態の塗工装置５００としては、上記図７に示す構成における塗工液タンク５１１に、直径寸法が５０ｍｍの２枚の攪拌翼を有し３００ｒｐｍの回転速度で攪拌翼を回転させる攪拌装置を設けた。
液送ポンプ５１２Ｂとしては、ギヤポンプを用い、インバータ周波数を変化させてギヤポンプに接続されているモータ回転数を変化する構成とした。
そして、塗工液タンク５１１から多重三方弁機構部５３０までの流通管５１２Ａを１０ｍ、多重三方弁機構部５３０から塗工液タンク５１１までの返送管５１４を１０ｍ、多重三方弁機構部５３０からスプレーガン５１３Ｂまでの吐出管５１３Ａを２０ｍとして、内径が２ｍｍでＭｇＯ粉体の付着性が比較的に低いＰＦＡチューブを用いて配管した。
【００８４】
一方、比較する装置構成としては、図１２に示すように、図２に示す塗工装置９００にスプレーガン９４０を洗浄する構成を設けたものとした。
すなわち、比較例の塗工装置９５０は、図２に示す塗工装置９００の三方弁９３０とスプレーガン９４０との間の配管９３１に二方弁９５１を設け、この二方弁９５１に洗浄液５０２を貯溜する洗浄液タンク９５２に一端が接続する配管９５３を接続している。すなわち、この二方弁９５１は、図１３に示すように、三方弁９３０に一体的に連結して構成している。そして、塗工装置９５０は、二方弁９５１の切替により、塗工液５０１を吐出する塗布状態と、洗浄液５０２が洗浄液タンク９５２から配管９５３を介して配管９３１に流入してスプレーガン９４０から吐出される洗浄状態とを切替可能となっている。そして、配管は、上述したＰＦＡチューブを用いて同様の長さとした。
【００８５】
（実験方法）
実験方法としては、塗工液５０１の吐出の変化状況と、ガラス基板に塗布した塗布状態と、圧縮空気の導入による吐出状態と、について実験した。
そして、各実験において、塗工液５０１として、粉体平均粒径が１〜３μｍの酸化マグネシウム粉末を用い、イソプロパノール（２−プロパノール：ＩＰＡ）に５ｗｔ％の濃度で超音波分散機にて分散させて調製したものを用いた。
また、洗浄液としては、塗工液５０１の溶剤として用いるＩＰＡを用いた。
また、塗工液５０１の塗布条件としては、１５ｍｌ／分の流量で循環および塗布する状態で液送ポンプ５１２Ｂを駆動させた。
さらに、スプレーガン５１３Ｂ，９４０は、塗工液５０１の塗布時に、エア霧化圧を０．２ＭＰａとした。
【００８６】
（１）吐出変化状況の実験
塗布工程として、塗工液５０１を吐出する塗布状態を１分間、塗工液５０１を循環させる循環状態で１分間を１サイクルとし、それぞれ２００回繰り返した。また、洗浄工程としては、塗布工程を２０サイクル毎に実施した。なお、図１２および図１３に示す比較例の塗工装置９５０では、洗浄液５０２を二方弁９５１からスプレーガン９４０へ流通させて吐出させる条件として、５０ｍｌ／分で２０秒間、本実施の形態の塗工装置５００では、第１洗浄工程および第２洗浄工程でそれぞれ５０ｍｌ／分で１０秒間ずつ実施した。なお、各塗工装置５００，９５０で洗浄工程を実施した後、塗工液５０１を５０ｍｌ／分で５秒間スプレーガン５１３Ｂ，９４０へ流通させて塗工液５０１をスプレーガン５１３Ｂ，９４０までの流路で充填させる塗工液パージ処理を実施した。
そして、塗工装置５００，９５０による塗工液５０１の吐出時の吐出量を測定し、吐出量のばらつき、すなわち標準偏差を演算した。その結果を図１４に示す。また、塗工装置５００において、洗浄回数毎の吐出量の標準偏差の結果を図１５に示す。
また、この吐出変化状況の実験後に、塗工装置５００，９５０を分解し、内部状況を観察した。この分解観察部位としては、塗工装置５００における第１三方弁６００および第２三方弁７００と、塗工装置９５０における三方弁９３０および二方弁９５１と、とした。
【００８７】
（２）塗布状態の実験
この塗布状態の実験としては、塗布工程を２００回実施した後に、１辺が１０００ｍｍの略正方形のソーダガラス上に塗工液５０１を塗布し、透過率について比較評価した。透過率の測定は、ソーダガラスの面内領域の２０カ所とした。なお、空気の透過率を１００％としたとき、塗布後のガラス基板の透過率が７０％となる状態に設定して塗工液５０１を塗布した。
この透過率の測定結果を図１６に示す。
【００８８】
（３）圧縮空気の導入による吐出状態の実験
この圧縮空気の導入による吐出状態の実験としては、上述した本実施の形態の塗工装置５００における洗浄工程で、上述した実施の形態のように塗布工程に移行する場合と、洗浄液５０２を流通させた第１洗浄工程および第２洗浄工程後に圧縮空気を導入する場合とについて、スプレーガン５１３Ｂから吐出される塗工液５０１の濃度を比較した。
なお、圧縮空気を導入する構成としては、図１７に示すように、上述した実施の形態における図７および図８に示す塗工装置５００における洗浄管５２２に、圧縮空気を導入する圧縮空気供給手段を構成する圧縮空気導入管５２５を接続している。この図１７に示す塗工装置５００では、図１８に示すように、第１洗浄工程および第２洗浄工程が切り替えられる。なお、図１８についても、第１ピストン６２０および第２ピストン７２０の上方へ移動した状態を「上」、下方へ移動した状態を「下」として示す。
すなわち、上述した実施の形態における図１１に示す多重三方弁機構部５３０の切替制御において、図１８に示すように、第１洗浄工程後に第２洗浄工程へ切り替える前と、第２洗浄工程後に塗布工程へ切り替える前とで、洗浄管５２２へ圧縮空気を導入して残留する洗浄液５０２をスプレーガン５１３Ｂから吐出させる。
【００８９】
そして、塗工液５０１の吐出は１０ｍｌ／分とし、図１７に示す実験装置における圧縮空気の圧力を０．１ＭＰａとした。
なお、洗浄工程を実施した後、塗工液５０１をスプレーガン５１３Ｂ，９４０までの流路で充填させる塗工液パージ処理は実施しなかった。
そして、塗布工程に移行して塗工液５０１の吐出を開始する時点から所定時間経過後（５秒毎）の塗工液５０１におけるＭｇＯ粉末の濃度を測定し、経時変化を比較評価した。その結果を図１９に示す。
【００９０】
（実験結果）
（１）吐出変化状況の実験
図１４に示す結果から、図１２および図１３に示す比較例の塗工装置９５０に比して、本実施の形態の塗工装置５００では、吐出量のばらつきが半分以下と小さいことがわかる。そして、塗工装置９５０では、吐出変化状況の実験後に分解した三方弁９３０のピストンと内壁面とのクリアランスがある部分に、ＭｇＯ粉体の固着が発生していることが認められた。一方、本実施の形態の塗工装置５００では、第１三方弁６００および第２三方弁７００ともＭｇＯ粉体の付着は認められなかった。
このため、特に塗工液５０１の流通状態を切り替える構成で凹凸がありＭｇＯ粉体の固着が生じやすい弁の部分でも、洗浄液５０２を流通させて洗浄する本実施の形態によれば、安定した吐出量が得られることがわかる。
さらに、図１５に示す結果から、上述した塗工装置５００では、塗布工程を長期間（５００回）実施しても、吐出量の標準偏差の変化がほとんど生じておらず、塗工液５０１を長期間安定して吐出できることが分かる。なお、塗布工程の回数が増大するにしたがって、吐出量の標準偏差が若干増大傾向となっている。なお、５００回の吐出後の分解観察では、第１三方弁６００および第２三方弁７００にＭｇＯ粉体の付着は認められなかった。このため、塗工液５０１が流通する経路で凝集や固着が生じていることにより、吐出量の標準偏差が若干増大傾向となったものと考えられる。
【００９１】
（２）塗布状態の実験
図１６に示す結果から、比較例の塗工装置９５０では、ガラス基板の面内での透過率のばらつきが４％程度であるのに対し、本実施の形態の塗工装置５００では１％程度のばらつきであった。このように、本実施の形態では、安定した塗布状態が得られることが認められた。
（３）圧縮空気の導入による吐出状態の実験
図１９に示す結果から、図８に示すような洗浄液のみを流通させる塗工装置５００では、塗布工程を実施する吐出当初ではＭｇＯ粉体の濃度がほぼ「０」で、次第にＭｇＯ粉体の濃度が上昇することが認められた。これは、洗浄工程後に、多重三方弁機構部５３０内から吐出管５１３Ａ内およびスプレーガン５１３Ｂ内に洗浄液５０２が残留しており、塗布工程で塗工液５０１をスプレーガン５１３Ｂへ流通させて吐出する際、吐出当初では残留する洗浄液５０２が吐出され、次第に残留する洗浄液５０２に流通させた塗工液５０１が混合拡散し、次第にＭｇＯ粉体濃度が増大したものと考えられる。
一方、圧縮空気を導入した図１７に示す実験装置では、塗布工程を実施するために塗工液５０１の吐出開始当初から約５秒程度では、塗工液５０１が吐出されなかった。なお、吐出された塗工液５０１は、吐出当初からＭｇＯ粉体の濃度は調製時の５ｗｔ％で変わりはなかった。これは、洗浄液５０２を流通させて洗浄した後に、洗浄液５０２が圧縮空気にて多重三方弁機構部５３０からスプレーガン５１３Ｂまでの流路から排出され、この流路内は空洞状態となっているため、塗工液５０１が吐出するまでに時間を要したものと考えられる。
そして、圧縮空気を導入せずに洗浄液５０２が残留する場合と、圧縮空気を導入した場合とでは、所定の濃度の塗工液５０１が吐出されるまでの時間が、圧縮空気を導入した場合の方が短かった。このため、圧縮空気を導入した後に塗工液パージ処理を実施して洗浄工程が終了する構成とすることで、塗工液パージ処理として上述したように５秒間を要したとしても、塗工液パージ処理により塗布工程の開始当初から所望の濃度の塗工液５０１が吐出されることから、圧縮空気を導入する処理を実施することにより、所定の濃度の塗工液５０１が吐出されるまでの時間が短縮することが分かる。さらに、圧縮空気を導入しない場合では、濃度が安定する時間まで吐出させてから塗布させるので、濃度が安定して塗布できるまで廃液として排出させる必要があることから、圧縮空気を導入することで、廃液の処理量が低減できる。したがって、処理における時間的・コスト的な効率の向上が得られることがわかる。
【００９２】
｛作用効果｝
上述したように、上記実施の形態では、塗工液タンク５１１に接続し塗工液５０１を流通する塗工液経路５１２に、この塗工液経路５１２に接続し塗工液を吐出する吐出手段５１３と、塗工液経路５１２に接続し流通する塗工液５０１を塗工液タンク５１１へ返送する返送管５１４を備えた塗工部５１０に、第１三方弁６００および第２三方弁７００を備え、塗工液経路５１２、吐出手段５１３、返送管５１４、および、洗浄液５０２を貯溜する洗浄液タンク５２１に接続し洗浄液を流通する洗浄管５２２が接続され、それぞれの接続状態を切り替える多重三方弁機構部５３０を設けている。
すなわち、塗工液経路５１２に接続し塗工液５０１が流入する第１流入口６１２、洗浄管５２２が接続し洗浄液５０２が流入する第１洗浄口６１４、および、吐出手段５１３に接続し流入した塗工液５０１または洗浄液５０２を吐出手段５１３へ流出する吐出口６１３を有し、第１流入口６１２および吐出口６１３が連通する状態と、第１洗浄口６１４および吐出口６１３が連通する状態とに切り替える第１三方弁６００を塗工部５１０に設ける。さらに、塗工液経路５１２に接続し塗工液５０１が流入する第２流入口７１３、洗浄管５２２が接続し洗浄液５０２が流入する第２洗浄口７１４、および、返送管５１４に接続し流入した塗工液５０１を返送管５１４へ流出する流出口７１２を有し、第２流入口７１３および流出口７１２が連通する状態と、第２洗浄口７１４および第２流入口７１３が連通する状態とに切り替える第２三方弁７００を塗工部５１０に設けている。
この連通状態の切り替えとして、第１三方弁６００で、塗工液経路５１２から塗工液５０１が流入され吐出手段５１３へ流出する状態と、洗浄管５２２から洗浄液５０２が流入され吐出手段５１３へ流出する状態とに切り替えさせる。さらに、第２三方弁７００で塗工液経路５１２から塗工液５０１が流入され返送管５１４へ流出する状態、および、洗浄管５２２から洗浄液５０２が流入され塗工液経路５１２の延長上に位置する連結管５３１および第１三方弁６００を介して吐出手段５１３へ流出する状態とに切り替えさせる。このことにより、塗工液５０１の塗布および循環における塗工液５０１の流通状態を切り替える構成と洗浄する構成とを構築する際、第１三方弁６００および第２三方弁７００の双方がそれぞれ洗浄液５０２にて洗浄させる構成が得られる。したがって、例えばＭｇＯ粉体などの無機物を分散するスラリを塗工液５０１とする場合でも、無機物の凝集や固着などが多重三方弁機構部５３０で生じることを防止でき、長期間安定して塗工液５０１を吐出できる。そして、この長期間安定して塗工液５０１を吐出できる切り替え機構として、同様な構成の第１三方弁６００および第２三方弁７００を適宜連結して構成している。したがって、比較的に入手が容易で安価に得られる三方弁を用いるので、装置コストを低減できる。よって、ＰＤＰ１の製造に際して、結晶ＭｇＯ層３４２を設けるために塗工装置５００を用いることで、略均一にＭｇＯ粉体を塗布できることから、安定した特性のＰＤＰ１が得られる。
【００９３】
そして、多重三方弁機構部５３０として、第１三方弁６００および第２三方弁７００を、第１流入口６１２および第２流入口７１３がそれぞれ接続する塗工液経路５１２に接続する連結管５３１を介して互いに連通する状態に一体的に連結している。
このため、１つの弁と同様にして取り扱いでき、塗工装置５００の製造性の向上が得られる。
【００９４】
また、多重三方弁機構部５３０における塗工液経路５１２と吐出手段５１３と返送管５１４と洗浄管５２２との切り替えとして、制御装置５４０による第１三方弁６００および第２三方弁７００の切り替え制御により、塗工液５０１および洗浄液５０２の流通状態を適宜切り替えている。
すなわち、第１三方弁６００の第１流入口６１２を閉塞させるとともに、第２三方弁７００の第２流入口７１３および流出口７１２が連通する状態に切り替え、塗工液経路５１２を流通する塗工液５０１が第２三方弁７００を介して返送管５１４へ流出して循環される循環状態とする。また、第２三方弁７００の第２流入口７１３を閉塞させるとともに、第１三方弁６００の第１流入口６１２および吐出口６１３が連通する状態に切り替え、塗工液経路５１２を流通する塗工液５０１が第１三方弁６００を介して吐出手段５１３へ流出して吐出される塗布状態とする。さらに、第１三方弁６００の第１流入口６１２を閉塞させて第１洗浄口６１４および吐出口６１３が連通する状態に切り替え、洗浄管５２２を流通する洗浄液５０２が第１洗浄口６１４から第１三方弁６００内を介して吐出手段５１３へ流出させる第１洗浄状態とする。また、第１三方弁６００の第１流入口６１２を塗工液経路５１２に連通する連結管５３１に連通する状態に開放させ第１流入口６１２および吐出口６１３が連通する状態に切り替えるとともに、第２三方弁７００の第２流入口７１３を連結管５３１に連通する状態に開放させ第２洗浄口７１４および第２流入口７１３が連通する状態に切り替え、洗浄管５２２を流通する洗浄液５０２が第２洗浄口７１４から第２三方弁７００内を通って連結管５３１を介して第１流入口６１２から第１三方弁６００内を通って吐出手段５１３へ流出させる第２洗浄状態とする。これら循環状態、塗布状態、第１洗浄状態および第２洗浄状態に適宜切り替える制御をしている。
このため、塗工液５０１の塗布・循環を実施する塗布工程と、第１三方弁６００を洗浄する第１洗浄状態および第２三方弁７００を洗浄する第２洗浄状態を実施する洗浄工程が、第１三方弁６００および第２三方弁７００の切り替えタイミングなどの条件をあらかじめ設定しておくことで、制御装置５４０により適宜流通状態が自動的に切り替えられ、三方弁を組み合わせた簡単な構成で、長期間安定した塗工液５０１の塗布が容易に得られる。
【００９５】
そして、塗工液経路５１２を流通する塗工液５０１を吐出手段５１３から吐出させる塗布状態を所定回数実施した後に第１洗浄状態および第２洗浄状態に切り替えて洗浄工程を実施する制御をすることで、例えばカウンタなどの簡単な構成で塗工液５０１および洗浄液５０２の流通状態の切替制御ができ、制御のための設定および制御がより容易にできる。
また、塗布状態を所定時間すなわち塗工液５０１の吐出累積時間が所定時間経過した後に洗浄工程を実施しても、例えばタイマなどの簡単な構成で塗工液５０１および洗浄液５０２の流通状態の切替制御が容易にでき、制御のための設定および制御がより容易にできる。
【００９６】
そして、塗工装置５００として、無機粉粒物であるＭｇＯ粉体を溶剤中に分散した無機物含有スラリの塗工液５０１を塗布する構成としている。
このため、沈降分離しやすく流路内の閉塞が生じやすい無機物含有スラリの塗工液５０１でも、塗工液５０１および洗浄液５０２の流通状態を切り替える第１三方弁６００および第２三方弁７００で固着や閉塞が生じることを防止でき、安定した吐出が確実で容易にできる。特に、無機粉粒物として凝集して固着しやすいＭｇＯ粉体を分散する塗工液５０１で有効な構成で、このようなより閉塞や流路内固着が生じやすいスラリでも安定した吐出が確実で容易にできる。
【００９７】
また、洗浄液５０２として、塗工液５０１と同質の溶剤を主要成分としている。特に、同一の溶剤を洗浄液５０２として用いている。
このため、容易に塗工液５０１を洗い流すことができ、洗浄液５０２の必要量の低減や洗浄時間の短縮などが容易に得られる。さらに、塗工液５０１とともに洗浄液５０２が混合して廃液として回収されても、廃液の処理が容易にできる。また、誤って塗工液５０１に混入しても、塗布工程に影響を生じず、洗浄工程の処理制御がより容易にできる。
【００９８】
そして、上述した実験でも明らかなように、洗浄工程において、洗浄液５０２を流通させた後に洗浄液５０２を流通させる経路に圧縮空気を導入することにより、洗浄液５０２が流路中に残留せず、塗布工程に移行して塗工液５０１を吐出させても、吐出当初から所定の濃度の塗工液５０１を吐出できる。特に、洗浄工程の終了時に塗工液パージ処理を実施することで、塗布工程の開始当初から所定の濃度の塗工液５０１を吐出でき、処理効率を向上できる。
【００９９】
また、洗浄工程時において、スプレーガン５１３Ｂからの吐出を回収する構成としている。このため、系外にそのまま排出されることによる環境汚染を確実に防止できるとともに、適宜回収した廃液を処理、例えば固液分離してＭｇＯ粉体を回収して加熱処理などを施して再利用したり、ＭｇＯ粉体を分離した液体を洗浄液５０２として再利用したりするなど、リサイクルも容易にできる。なお、固液分離の方法としては、フィルトレーションや遠心分離など、各種構成を利用できる。
【０１００】
さらに、洗浄工程では、塗工液５０１を塗布する状態より洗浄液５０２の流量が多くなるようにしている。
このため、制御の容易性や構成の簡略化の観点でタイマ制御する構成でも、確実に洗浄できるとともに、三方弁の凹凸により残留しやすいＭｇＯ粉体も十分に洗い流すことができ、閉塞や固着を長期間防止でき、安定した塗布が長期間得られるとともに、洗浄工程の頻度も低減でき、塗布効率の向上も容易に図れる。
【０１０１】
〔実施形態の変形〕
なお、本発明は、上述した一実施の形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲で以下に示される変形をも含むものである。
【０１０２】
すなわち、ＰＤＰ１における結晶ＭｇＯ層３４２を形成するために単結晶ＭｇＯ粉体層をスプレー法で形成するための構成を例示して説明したが、これに限らず、各種被塗布物へ各種塗工液を塗布する塗工装置に適用できる。例えば、ＭｇＯ粉体を含有するスラリに限らず、有機顔料を含有する液状物、無機顔料を含有するスラリ、表面処理剤や抗菌剤など、各種塗工液を塗布する構成に適用できる。
【０１０３】
そして、製造するＰＤＰ１の構成としても、上述した構成に限らず、各種構成が適用できる。
例えば、上記実施の形態のＰＤＰ１を、前面基板３に表示電極対３１を形成し誘電体層３３によって被覆しかつ背面基板２側に蛍光体層（２４Ｒ,２４Ｇ,２４Ｂ）とアドレス電極２１を形成した反射型交流ＰＤＰとするとしたが、これに限らない。すなわち、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、前面基板側に表示電極対とアドレス電極を形成して誘電体層によって被覆し、背面基板に蛍光体層を形成した反射型交流ＰＤＰや、前面基板側に蛍光体層を形成し背面基板側に表示電極対とアドレス電極を形成して誘電体層によって被覆した透過型交流ＰＤＰ、放電空間の表示電極対とアドレス電極との交差部分に放電セルが形成される三電極型交流ＰＤＰ、放電空間の表示電極とアドレス電極との交差部分に放電セルが形成される二電極型交流ＰＤＰなどの種々の形式のＰＤＰに適用することができる。さらには、プラズマディスプレイパネルに限らず、液晶パネルや有機ＥＬパネルなど、各種表示装置の製造における各種材料を塗布する構成にも適用できる。
さらには、上記実施の形態では隔壁２３を梯子状に形成するとしたが、これに限らず、井桁状やストライプ状の隔壁としてもよい。
また、上記実施の形態では、薄膜ＭｇＯ層３４１は、薄膜ＭｇＯ層３４１の全面を被覆するとしたが、これに限らず、例えば、透明電極３１１ａ，３１１ｂに対向する部分や逆に透明電極３１１ａ，３１１ｂに対向する部分以外の部分などのように、部分的にパターン化して形成するようにしてもよい。
【０１０４】
そして、制御装置５４０を設けて自動的に塗工液５０１および洗浄液５０２の流通状態を制御する構成について説明したが、例えば作業者が切替操作するなどしてもよい。さらに、制御装置５４０で一元制御する構成に限らず、各第１三方弁６００および第２三方弁７００などにタイマなどを設け、独立して切替動作する構成とするなどしてもよい。
【０１０５】
また、第１洗浄工程を実施した後に第２洗浄工程を実施して説明したが、上述したように、第２洗浄工程を先に実施してもよい。すなわち、第２三方弁７００が塗工液５０１の流通における下流側に位置するので、第１三方弁６００から第２三方弁７００までに残留する塗工液５０１が第１三方弁６００内を洗浄液５０２に押し出されるように流通することとなる。このことにより、既に第１三方弁６００を洗浄していた場合、洗浄後に塗工液５０１が流通する分、洗浄液５０２を流通させて洗浄させる必要があるので、下流側に位置する第２三方弁７００を先に洗浄することで、洗浄効率の向上が図れる。
【０１０６】
そして、多重三方弁機構部５３０として、ピストン式の第１三方弁６００および第２三方弁７００を連結した構成で説明したが、上述したように、ピストン式のものに限らず、いずれの三方弁を用いてもよい。例えば図２０に示すように、構成してもよい。なお、図２０は、図８および図１７に示す構成と同等の構成については、同一の符号を付している。この図２０に示す構成においても同様の作用効果を奏することができる。
【０１０７】
本発明は、上述した一実施の形態および実施形態の変形のみに限ることなく、その他、本発明の目的を逸脱しない範囲で様々な応用が可能である。
【０１０８】
〔実施の形態の作用効果〕
上記実施の形態では、塗工液経路５１２に接続し塗工液５０１が流入する第１流入口６１２、洗浄管５２２が接続し洗浄液５０２が流入する第１洗浄口６１４、および、吐出手段５１３に接続し流入した塗工液５０１または洗浄液５０２を吐出手段５１３へ流出する吐出口６１３を有し、第１流入口６１２および吐出口６１３が連通する状態と、第１洗浄口６１４および吐出口６１３が連通する状態とに切り替える第１三方弁６００を、塗工液タンク５１１に接続し塗工液５０１を流通する塗工液経路５１２に、この塗工液経路５１２に接続し塗工液を吐出する吐出手段５１３と、塗工液経路５１２に接続し流通する塗工液５０１を塗工液タンク５１１へ返送する返送管５１４を備えた塗工部５１０に設ける。さらに、塗工液経路５１２に接続し塗工液５０１が流入する第２流入口７１３、洗浄管５２２が接続し洗浄液５０２が流入する第２洗浄口７１４、および、返送管５１４に接続し流入した塗工液５０１を返送管５１４へ流出する流出口７１２を有し、第２流入口７１３および流出口７１２が連通する状態と、第２洗浄口７１４および第２流入口７１３が連通する状態とに切り替える第２三方弁７００を、塗工部５１０に設けている。
このため、塗工液５０１の塗布および循環における塗工液５０１の流通状態を切り替える構成と洗浄する構成とを構築する際、第１三方弁６００および第２三方弁７００の双方がそれぞれ洗浄液５０２にて洗浄させる構成が得られる。したがって、例えばＭｇＯ粉体などの無機物を分散するスラリを塗工液５０１とする場合でも、無機物の凝集や固着などが多重三方弁機構部５３０で生じることを防止でき、長期間安定して塗工液５０１を吐出できる。そして、この長期間安定して塗工液５０１を吐出できる切り替え機構として、同様な構成の第１三方弁６００および第２三方弁７００を適宜連結して構成している。したがって、比較的に入手が容易で安価に得られる三方弁を用いるので、装置コストを低減できる。
【０１０９】
また、上記実施の形態では、塗工液タンク５１１に接続し塗工液５０１を流通する塗工液経路５１２に、この塗工液経路５１２に接続し塗工液を吐出する吐出手段５１３と、塗工液経路５１２に接続し流通する塗工液５０１を塗工液タンク５１１へ返送する返送管５１４を備えた塗工部５１０に、第１三方弁６００および第２三方弁７００を設け、第１三方弁６００で、塗工液経路５１２から塗工液５０１が流入され吐出手段５１３へ流出する状態と、洗浄管５２２から洗浄液５０２が流入され吐出手段５１３へ流出する状態とに切り替えさせる。さらに、第２三方弁７００で塗工液経路５１２から塗工液５０１が流入され返送管５１４へ流出する状態、および、洗浄管５２２から洗浄液５０２が流入され塗工液経路５１２の延長上に位置する連結管５３１および第１三方弁６００を介して吐出手段５１３へ流出する状態とに切り替えさせる。
このため、塗工液５０１の塗布および循環における塗工液５０１の流通状態を切り替える構成と洗浄する構成とを構築する際、第１三方弁６００および第２三方弁７００の双方がそれぞれ洗浄液５０２にて洗浄させる構成が得られる。したがって、例えばＭｇＯ粉体などの無機物を分散するスラリを塗工液５０１とする場合でも、無機物の凝集や固着などが多重三方弁機構部５３０で生じることを防止でき、長期間安定して塗工液５０１を吐出できる。そして、この長期間安定して塗工液５０１を吐出できる切り替え機構として、同様な構成の第１三方弁６００および第２三方弁７００を適宜連結して構成している。したがって、比較的に入手が容易で安価に得られる三方弁を用いるので、装置コストを低減できる。
【０１１０】
そして、放電空間Ｈを介して対向配置された一対の前面基板３および背面基板２と、これら一対の前面基板３および背面基板２のうちいずれか一方の内面上に形成された複数の表示電極対３１と、これら表示電極対３１上を被覆する誘電体層３３と、この誘電体層３３上を被覆する保護層３４とを備えたＰＤＰ１を製造する製造工程で、塗工液タンク５１１に接続し塗工液５０１を流通する塗工液経路５１２に、この塗工液経路５１２に接続し塗工液を吐出する吐出手段５１３と、塗工液経路５１２に接続し流通する塗工液５０１を塗工液タンク５１１へ返送する返送管５１４を備えた塗工装置５００に、塗工液経路５１２、吐出手段５１３および洗浄管５２２が接続してそれぞれの接続状態を切り替える第１三方弁６００と、塗工液経路５１２、返送管５１４および洗浄管５２２が接続してそれぞれの接続状態を切り替える第２三方弁７００と、を設け、ＭｇＯ粉体を溶剤に分散させた塗工液５０１を、第１三方弁６００および第２三方弁７００の切り替えにより吐出手段５１３から塗工液５０１を誘電体層３３上に塗布し、保護層３４の結晶ＭｇＯ層３４２を形成させる塗布工程を実施させる。さらに、洗浄管５２２から洗浄液５０２を第１三方弁６００へ供給させて第１三方弁６００を介して吐出手段５１３へ流出させて吐出させる第１洗浄工程を実施させる。また、洗浄管５２２から洗浄液５０２を第２三方弁７００へ供給させ、第２三方弁７００から塗工液経路５１２に接続する連結管５３１を介して第１三方弁６００へ流入させ、この第１三方弁６００から吐出手段５１３へ流出させて吐出させる第２洗浄工程とを実施している。
このため、塗工液５０１の塗布および循環における塗工液５０１の流通状態を切り替える構成と洗浄する構成とを構築する際、第１三方弁６００および第２三方弁７００の双方がそれぞれ洗浄液５０２にて洗浄させる構成が得られる。したがって、例えばＭｇＯ粉体などの無機物を分散するスラリを塗工液５０１とする場合でも、無機物の凝集や固着などが多重三方弁機構部５３０で生じることを防止でき、長期間安定して塗工液５０１を吐出できる。そして、この長期間安定して塗工液５０１を吐出できる切り替え機構として、同様な構成の第１三方弁６００および第２三方弁７００を適宜連結して構成している。したがって、比較的に入手が容易で安価に得られる三方弁を用いるので、装置コストを低減できる。よって、結晶ＭｇＯ層３４２を設けるために塗工装置５００を用いることで、略均一にＭｇＯ粉体を塗布できることから、安定した特性のＰＤＰ１が得られる。
【図面の簡単な説明】
【０１１１】
【図１】従来の塗工装置を示す模式図である。
【図２】従来の三方弁を備えた塗工装置を示す模式図である。
【図３】本発明の一実施の形態に係るプラズマディスプレイパネルの内部構造を示した分解斜視図である。
【図４】前記実施の形態におけるプラズマディスプレイパネルを模式的に示した正面図である。
【図５】図４のＶ−Ｖ線における断面図である。
【図６】図４のVI−VI線における断面図である。
【図７】前記実施の形態における塗工装置の概略構成を示す概念図である。
【図８】前記実施の形態における塗工装置の多重三方弁機構部の概略構成を示す断面図である。
【図９】前記実施の形態におけるスプレー法による単結晶ＭｇＯ粉体層の形成工程を示した模式図である。
【図１０】前記実施の形態における塗布工程の動作を示すタイミングチャートである。
【図１１】前記実施の形態における洗浄工程の動作を示すタイミングチャートである。
【図１２】前記実施の形態における塗工装置を説明するために実施した確認実験で比較する比較例の塗工装置の概略構成を示す概念図である。
【図１３】図１２に示す比較例の塗工装置における三方弁および二方弁の概略構成を示す断面図である。
【図１４】前記実施の形態における洗浄効果確認実験での吐出変化状況の実験結果を表形式で示す図である。
【図１５】前記実施の形態における洗浄効果確認実験での吐出変化状況の実験結果を表形式で示す図である。
【図１６】前記実施の形態における洗浄効果確認実験での塗布状態の実験結果を示すグラフである。
【図１７】前記実施の形態における変形例の塗工装置の多重三方弁機構部の概略構成を示す断面図である。
【図１８】前記実施の形態における洗浄効果確認実験での圧縮空気の導入による吐出状態の実験に係る変形例の塗工装置における洗浄工程の動作を示すタイミングチャートである。
【図１９】前記実施の形態における洗浄効果確認実験での圧縮空気の導入による吐出状態の実験結果を示すグラフである。
【図２０】本発明の他の実施の形態における塗工装置の多重三方弁機構部の概略構成を示す断面図である。
【符号の説明】
【０１１２】
１……プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
２……背面基板
３……前面基板
３１……表示電極対
３３……誘電体層
３４……保護層
５００……塗工装置
５０１……塗工液
５０２……洗浄液
５１１……塗工液タンク
５１２……塗工液経路
５１３……吐出手段
５１４……返送経路としての返送管
５２０……洗浄液供給手段としての洗浄部
５２１……洗浄液タンク
５２２……洗浄液経路としての洗浄管
５２５……圧縮空気供給手段を構成する圧縮空気導入管
５３０……切替手段としての多重三方弁機構部
５４０……制御手段としての制御装置
６００……第１三方弁
６１２……第１流入口
６１３……吐出口
６１４……第１洗浄口
７００……第２三方弁
７１２……流出口
７１３……第２流入口
７１４……第２洗浄口
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗工液を貯溜する塗工液タンクと、この塗工液タンクに接続され前記塗工液を流通する塗工液経路と、この塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を吐出する吐出手段と、前記塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を前記塗工液タンクへ返送する返送経路と、を備えた塗工装置であって、
洗浄液を貯溜する洗浄液タンクと、
この洗浄タンクに接続され前記洗浄液を流通させる洗浄液経路と、
前記塗工液経路に接続され前記塗工液が流入する第１流入口、前記洗浄液経路が接続され前記洗浄液が流入する第１洗浄口、および、前記吐出手段に接続され流入した前記塗工液または前記洗浄液を前記吐出手段へ流出する吐出口を備え、前記第１流入口および前記吐出口が連通する状態と前記第１洗浄口および前記吐出口が連通する状態とに切り替える第１三方弁と、
前記塗工液経路に接続され前記塗工液が流入する第２流入口、前記洗浄液経路が接続され前記洗浄液が流入する第２洗浄口、および、前記返送経路に接続され流入した前記塗工液を前記返送経路へ流出する流出口を備え、前記第２流入口および前記流出口が連通する状態と前記第２洗浄口および前記第２流入口が連通する状態とに切り替える第２三方弁と、
を具備したことを特徴とした塗工装置。
【請求項２】
請求項１に記載の塗工装置であって、
前記第１三方弁および前記第２三方弁は、前記第１流入口および前記第２流入口がそれぞれ接続する前記塗工液経路を介して互いに連通する状態に連結された
ことを特徴とした塗工装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の塗工装置であって、
前記第１三方弁および前記第２三方弁の切り替え状態を制御する制御手段を具備し、
前記制御手段は、
前記第１三方弁の第１流入口を閉塞させるとともに前記第２三方弁を前記第２流入口および前記流出口が連通する状態に切り替え、前記塗工液経路を流通する前記塗工液が前記第２三方弁を介して前記返送経路へ流出する循環状態と、
前記第２三方弁の第２流入口を閉塞させるとともに前記第１三方弁を前記第１流入口および前記吐出口が連通する状態に切り替え、前記塗工液経路を流通する前記塗工液が前記第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出する吐出状態と、
前記第１三方弁を第１流入口が閉塞し前記第１洗浄口および前記吐出口が連通する状態に切り替え、前記洗浄液経路を流通する前記洗浄液が前記第１洗浄口から前記第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出する第１洗浄状態と、
前記第１三方弁を第１流入口が開口して前記第１流入口および前記吐出口が連通する状態に切り替えるとともに、前記第２三方弁を第２流入口が開口して前記第２洗浄口および前記第２流入口が連通する状態に切り替え、前記洗浄液経路を流通する前記洗浄液が前記第２洗浄口から前記第２三方弁内を通って前記塗工液経路を介して前記第１流入口から前記第１三方弁内を通って前記吐出手段へ流出する第２洗浄状態と、に制御する
ことを特徴とした塗工装置。
【請求項４】
塗工液を貯溜する塗工液タンクと、この塗工液タンクに接続され前記塗工液を流通する塗工液経路と、この塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を吐出する吐出手段と、前記塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を前記塗工液タンクへ返送する返送経路と、を備えた塗工装置であって、
洗浄液を貯溜する洗浄液タンクと、
この洗浄タンクに接続され前記洗浄液を流通させる洗浄液経路と、
前記塗工液経路から前記塗工液が流入され前記吐出手段へ流出する状態、および、前記洗浄液経路から前記洗浄液が流入され前記吐出手段へ流出する状態に切り替える第１三方弁と、
前記塗工液経路から前記塗工液が流入され前記返送経路へ流出する状態、および、前記洗浄液経路から前記洗浄液が流入され前記塗工液経路および第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出する状態に切り替える第２三方弁と、
を具備したことを特徴とした塗工装置。
【請求項５】
請求項４に記載の塗工装置であって、
前記第１三方弁および前記第２三方弁の切り替え状態を制御する制御手段を具備し、
前記制御手段は、
前記第１三方弁を前記塗工液経路から前記塗工液が流入しない状態に切替制御するとともに、前記第２三方弁を前記塗工液経路から前記塗工液が流入され前記返送経路へ流出する状態に切替制御し、前記塗工液経路を流通する前記塗工液が前記第２三方弁を介して前記返送経路へ流出する循環状態と、
前記第２三方弁を前記塗工液経路から前記塗工液が流入しない状態に切替制御するとともに、前記第１三方弁を前記塗工液経路から前記塗工液が流入され前記吐出手段へ流出する状態に切替制御し、前記塗工液経路を流通する前記塗工液が前記第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出する吐出状態と、
前記第１三方弁を前記洗浄液経路から前記洗浄液が流入され前記吐出手段へ流出する状態に切り替え、前記洗浄液経路を流通する前記洗浄液が前記第１洗浄口から前記第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出する第１洗浄状態と、
前記第２三方弁を前記洗浄液経路から前記洗浄液が流入され前記塗工液経路および第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出する状態に切り替え、前記洗浄液経路を流通する前記洗浄液が前記第２三方弁、前記塗工液経路および前記第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出する第２洗浄状態と、に制御する
ことを特徴とした塗工装置。
【請求項６】
請求項３または請求項５に記載の塗工装置であって、
前記制御手段は、前記塗工液経路を流通する前記塗工液を前記吐出手段から吐出させる吐出状態が所定回数実施された後に、前記第１洗浄状態および前記第２洗浄状態を実施する制御をする
ことを特徴とした塗工装置。
【請求項７】
請求項３または請求項５に記載の塗工装置であって、
前記制御手段は、前記塗工液経路を流通する前記塗工液を前記吐出手段から吐出させる吐出状態が所定時間実施された後に、前記第１洗浄状態および前記第２洗浄状態を実施する制御をする
ことを特徴とした塗工装置。
【請求項８】
請求項１ないし請求項７のいずれかに記載の塗工装置であって、
前記塗工液タンクは、無機粉粒物を溶剤中に分散した無機物含有スラリを前記塗工液として貯溜する
ことを特徴とした塗工装置。
【請求項９】
請求項８に記載の塗工装置であって、
前記洗浄液は、前記塗工液の溶剤と同質の溶剤を主要成分として含有する
ことを特徴とした塗工装置。
【請求項１０】
請求項１ないし請求項９のいずれかに記載の塗工装置であって、
前記洗浄液経路は、圧縮空気を前記第１三方弁および前記第２三方弁へ導入する圧縮空気供給手段を備えた
ことを特徴とした塗工装置。
【請求項１１】
塗工液を貯溜する塗工液タンクと、この塗工液タンクに接続され前記塗工液を流通する塗工液経路と、この塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を吐出する吐出手段と、前記塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を前記塗工液タンクへ返送する返送経路と、前記塗工液経路、前記吐出手段および前記返送経路が接続されそれぞれの接続状態を切り替える切替手段を備えた塗工装置を用いた塗工方法であって、
前記塗工装置に、洗浄液を供給する洗浄液供給手段を設けるとともに、前記塗工液経路、前記吐出手段および前記洗浄液供給手段が接続しそれぞれの接続状態を切り替える第１三方弁と前記塗工液経路、前記返送経路および前記洗浄液供給手段が接続しそれぞれの接続状態を切り替える第２三方弁とにて前記切替手段を構成し、
前記切替手段に接続し前記切替手段に洗浄液を流入させる洗浄液経路を前記塗工装置に設け、
前記塗工液経路を流通する前記塗工液を前記第２三方弁を介して前記返送経路へ流通させ前記塗工液を循環させる循環工程と、
前記塗工液経路を流通する前記塗工液を前記第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出させ前記塗工液を前記吐出手段から吐出させる吐出工程と、
前記洗浄液経路から前記洗浄液を前記第１三方弁へ供給させこの第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出させ前記洗浄液を前記吐出手段から吐出させる第１洗浄工程と、
前記洗浄液経路から前記洗浄液を前記第２三方弁へ供給させ、この第２三方弁から前記塗工液経路を介して前記第１三方弁へ流入させこの第１三方弁から前記吐出手段へ流出させ前記洗浄液を前記吐出手段から吐出させる第２洗浄工程と、を実施する
ことを特徴とする塗工方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の塗工方法であって、
前記第１洗浄工程および前記第２洗浄工程は、前記洗浄液経路から前記洗浄液とともに圧縮空気を供給させる
ことを特徴とする塗工方法。
【請求項１３】
請求項１１または請求項１２に記載の塗工方法であって、
前記第１洗浄工程および第２洗浄工程は、前記洗浄液経路から前記洗浄液を供給した後に、圧縮空気を供給させる
ことを特徴とする塗工方法。
【請求項１４】
放電空間を介して対向配置された一対の基板と、これら一対の基板のうち一方の基板の内面上に形成された複数の電極対と、これら電極対上を被覆する誘電体層と、この誘電体層上を被覆する保護層とを備えたプラズマディスプレイパネルを製造するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
塗工液を貯溜する塗工液タンクと、この塗工液タンクに接続され前記塗工液を流通する塗工液経路と、この塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を吐出する吐出手段と、前記塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を前記塗工液タンクへ返送する返送経路と、洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記塗工液経路、前記吐出手段および前記洗浄液供給手段が接続しそれぞれの接続状態を切り替える第１三方弁と、前記塗工液経路、前記返送経路および前記洗浄液供給手段が接続しそれぞれの接続状態を切り替える第２三方弁と、を備えた塗工装置を用い、
酸化マグネシウム粉体を溶剤に分散させた前記塗工液を、前記第１三方弁および前記第２三方弁の切り替えにより前記吐出手段から吐出させ前記誘電体層上に塗布し、前記保護層となる塗膜を形成する塗布工程と、
前記洗浄液供給手段から前記洗浄液を前記第１三方弁へ供給させこの第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出させ前記洗浄液を前記吐出手段から吐出させる第１洗浄工程と、
前記洗浄液経路から前記洗浄液を前記第２三方弁へ供給させ、この第２三方弁から前記塗工液経路を介して前記第１三方弁へ流入させこの第１三方弁から前記吐出手段へ流出させ前記洗浄液を前記吐出手段から吐出させる第２洗浄工程と、を実施する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１】
塗工液を貯溜する塗工液タンクと、この塗工液タンクに接続され前記塗工液を流通する塗工液経路と、この塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を吐出する吐出手段と、前記塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を前記塗工液タンクへ返送する返送経路と、を備えた塗工装置であって、
洗浄液を貯溜する洗浄液タンクと、
この洗浄タンクに接続され前記洗浄液を流通させる洗浄液経路と、
前記塗工液経路に接続され前記塗工液が流入する第１流入口、前記洗浄液経路が接続され前記洗浄液が流入する第１洗浄口、および、前記吐出手段に接続され流入した前記塗工液または前記洗浄液を前記吐出手段へ流出する吐出口を備え、前記第１流入口および前記吐出口が連通する状態と前記第１洗浄口および前記吐出口が連通する状態とに切り替える第１三方弁と、
前記塗工液経路に接続され前記塗工液が流入する第２流入口、前記洗浄液経路が接続され前記洗浄液が流入する第２洗浄口、および、前記返送経路に接続され流入した前記塗工液を前記返送経路へ流出する流出口を備え、前記第２流入口および前記流出口が連通する状態と前記第２洗浄口および前記第２流入口が連通する状態とに切り替える第２三方弁と、
を具備したことを特徴とした塗工装置。
【請求項２】
請求項１に記載の塗工装置であって、
前記第１三方弁および前記第２三方弁は、前記第１流入口および前記第２流入口がそれぞれ接続する前記塗工液経路を介して互いに連通する状態に連結された
ことを特徴とした塗工装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の塗工装置であって、
前記第１三方弁および前記第２三方弁の切り替え状態を制御する制御手段を具備し、
前記制御手段は、
前記第１三方弁の第１流入口を閉塞させるとともに前記第２三方弁を前記第２流入口および前記流出口が連通する状態に切り替え、前記塗工液経路を流通する前記塗工液が前記第２三方弁を介して前記返送経路へ流出する循環状態と、
前記第２三方弁の第２流入口を閉塞させるとともに前記第１三方弁を前記第１流入口および前記吐出口が連通する状態に切り替え、前記塗工液経路を流通する前記塗工液が前記第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出する吐出状態と、
前記第１三方弁を第１流入口が閉塞し前記第１洗浄口および前記吐出口が連通する状態に切り替え、前記洗浄液経路を流通する前記洗浄液が前記第１洗浄口から前記第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出する第１洗浄状態と、
前記第１三方弁を第１流入口が開口して前記第１流入口および前記吐出口が連通する状態に切り替えるとともに、前記第２三方弁を第２流入口が開口して前記第２洗浄口および前記第２流入口が連通する状態に切り替え、前記洗浄液経路を流通する前記洗浄液が前記第２洗浄口から前記第２三方弁内を通って前記塗工液経路を介して前記第１流入口から前記第１三方弁内を通って前記吐出手段へ流出する第２洗浄状態と、に制御する
ことを特徴とした塗工装置。
【請求項４】
塗工液を貯溜する塗工液タンクと、この塗工液タンクに接続され前記塗工液を流通する塗工液経路と、この塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を吐出する吐出手段と、前記塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を前記塗工液タンクへ返送する返送経路と、を備えた塗工装置であって、
洗浄液を貯溜する洗浄液タンクと、
この洗浄タンクに接続され前記洗浄液を流通させる洗浄液経路と、
前記塗工液経路から前記塗工液が流入され前記吐出手段へ流出する状態、および、前記洗浄液経路から前記洗浄液が流入され前記吐出手段へ流出する状態に切り替える第１三方弁と、
前記塗工液経路から前記塗工液が流入され前記返送経路へ流出する状態、および、前記洗浄液経路から前記洗浄液が流入され前記塗工液経路および第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出する状態に切り替える第２三方弁と、
を具備したことを特徴とした塗工装置。
【請求項５】
請求項４に記載の塗工装置であって、
前記第１三方弁および前記第２三方弁の切り替え状態を制御する制御手段を具備し、
前記制御手段は、
前記第１三方弁を前記塗工液経路から前記塗工液が流入しない状態に切替制御するとともに、前記第２三方弁を前記塗工液経路から前記塗工液が流入され前記返送経路へ流出する状態に切替制御し、前記塗工液経路を流通する前記塗工液が前記第２三方弁を介して前記返送経路へ流出する循環状態と、
前記第２三方弁を前記塗工液経路から前記塗工液が流入しない状態に切替制御するとともに、前記第１三方弁を前記塗工液経路から前記塗工液が流入され前記吐出手段へ流出する状態に切替制御し、前記塗工液経路を流通する前記塗工液が前記第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出する吐出状態と、
前記第１三方弁を前記洗浄液経路から前記洗浄液が流入され前記吐出手段へ流出する状態に切り替え、前記洗浄液経路を流通する前記洗浄液が前記第１洗浄口から前記第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出する第１洗浄状態と、
前記第２三方弁を前記洗浄液経路から前記洗浄液が流入され前記塗工液経路および第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出する状態に切り替え、前記洗浄液経路を流通する前記洗浄液が前記第２三方弁、前記塗工液経路および前記第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出する第２洗浄状態と、に制御する
ことを特徴とした塗工装置。
【請求項６】
請求項３または請求項５に記載の塗工装置であって、
前記制御手段は、前記塗工液経路を流通する前記塗工液を前記吐出手段から吐出させる吐出状態が所定回数実施された後に、前記第１洗浄状態および前記第２洗浄状態を実施する制御をする
ことを特徴とした塗工装置。
【請求項７】
請求項３または請求項５に記載の塗工装置であって、
前記制御手段は、前記塗工液経路を流通する前記塗工液を前記吐出手段から吐出させる吐出状態が所定時間実施された後に、前記第１洗浄状態および前記第２洗浄状態を実施する制御をする
ことを特徴とした塗工装置。
【請求項８】
請求項１ないし請求項７のいずれかに記載の塗工装置であって、
前記塗工液タンクは、無機粉粒物を溶剤中に分散した無機物含有スラリを前記塗工液として貯溜する
ことを特徴とした塗工装置。
【請求項９】
請求項８に記載の塗工装置であって、
前記洗浄液は、前記塗工液の溶剤と同質の溶剤を主要成分として含有する
ことを特徴とした塗工装置。
【請求項１０】
請求項１ないし請求項９のいずれかに記載の塗工装置であって、
前記洗浄液経路は、圧縮空気を前記第１三方弁および前記第２三方弁へ導入する圧縮空気供給手段を備えた
ことを特徴とした塗工装置。
【請求項１１】
塗工液を貯溜する塗工液タンクと、この塗工液タンクに接続され前記塗工液を流通する塗工液経路と、この塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を吐出する吐出手段と、前記塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を前記塗工液タンクへ返送する返送経路と、前記塗工液経路、前記吐出手段および前記返送経路が接続されそれぞれの接続状態を切り替える切替手段を備えた塗工装置を用いた塗工方法であって、
前記塗工装置に、洗浄液を供給する洗浄液供給手段を設けるとともに、前記塗工液経路、前記吐出手段および前記洗浄液供給手段が接続しそれぞれの接続状態を切り替える第１三方弁と前記塗工液経路、前記返送経路および前記洗浄液供給手段が接続しそれぞれの接続状態を切り替える第２三方弁とにて前記切替手段を構成し、
前記切替手段に接続し前記切替手段に洗浄液を流入させる洗浄液経路を前記塗工装置に設け、
前記塗工液経路を流通する前記塗工液を前記第２三方弁を介して前記返送経路へ流通させ前記塗工液を循環させる循環工程と、
前記塗工液経路を流通する前記塗工液を前記第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出させ前記塗工液を前記吐出手段から吐出させる吐出工程と、
前記洗浄液経路から前記洗浄液を前記第１三方弁へ供給させこの第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出させ前記洗浄液を前記吐出手段から吐出させる第１洗浄工程と、
前記洗浄液経路から前記洗浄液を前記第２三方弁へ供給させ、この第２三方弁から前記塗工液経路を介して前記第１三方弁へ流入させこの第１三方弁から前記吐出手段へ流出させ前記洗浄液を前記吐出手段から吐出させる第２洗浄工程と、を実施する
ことを特徴とする塗工方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の塗工方法であって、
前記第１洗浄工程および前記第２洗浄工程は、前記洗浄液経路から前記洗浄液とともに圧縮空気を供給させる
ことを特徴とする塗工方法。
【請求項１３】
請求項１１または請求項１２に記載の塗工方法であって、
前記第１洗浄工程および第２洗浄工程は、前記洗浄液経路から前記洗浄液を供給した後に、圧縮空気を供給させる
ことを特徴とする塗工方法。
【請求項１４】
放電空間を介して対向配置された一対の基板と、これら一対の基板のうち一方の基板の内面上に形成された複数の電極対と、これら電極対上を被覆する誘電体層と、この誘電体層上を被覆する保護層とを備えたプラズマディスプレイパネルを製造するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
塗工液を貯溜する塗工液タンクと、この塗工液タンクに接続され前記塗工液を流通する塗工液経路と、この塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を吐出する吐出手段と、前記塗工液経路に接続され前記流通する塗工液を前記塗工液タンクへ返送する返送経路と、洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記塗工液経路、前記吐出手段および前記洗浄液供給手段が接続しそれぞれの接続状態を切り替える第１三方弁と、前記塗工液経路、前記返送経路および前記洗浄液供給手段が接続しそれぞれの接続状態を切り替える第２三方弁と、を備えた塗工装置を用い、
酸化マグネシウム粉体を溶剤に分散させた前記塗工液を、前記第１三方弁および前記第２三方弁の切り替えにより前記吐出手段から吐出させ前記誘電体層上に塗布し、前記保護層となる塗膜を形成する塗布工程と、
前記洗浄液供給手段から前記洗浄液を前記第１三方弁へ供給させこの第１三方弁を介して前記吐出手段へ流出させ前記洗浄液を前記吐出手段から吐出させる第１洗浄工程と、
前記洗浄液経路から前記洗浄液を前記第２三方弁へ供給させ、この第２三方弁から前記塗工液経路を介して前記第１三方弁へ流入させこの第１三方弁から前記吐出手段へ流出させ前記洗浄液を前記吐出手段から吐出させる第２洗浄工程と、を実施する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【公開番号】特開２００７−１１１５７９（Ｐ２００７−１１１５７９Ａ）
【公開日】平成１９年５月１０日（２００７．５．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−３０２５６１（Ｐ２００５−３０２５６１）
【出願日】平成１７年１０月１８日（２００５．１０．１８）
【出願人】（０００００５０１６）パイオニア株式会社 (3,620)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年５月１０日（２００７．５．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年１０月１８日（２００５．１０．１８）
【出願人】（０００００５０１６）パイオニア株式会社 (3,620)
【Ｆターム（参考）】
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