平面ディスプレイ用の面取り機及びその面取り加工方法
【課題】平面ディスプレイ用の面取り機及びその面取り加工方法を提供する。
【解決手段】本発明の平面ディスプレイ用の面取り機は、基板ローディングユニットと基板アンローディングユニットとの間に設けられて、基板のコーナー及び辺に対する面取り加工を進行する面取り加工ユニットを含み、面取り加工ユニットは、上面に基板が載置支持される少なくとも一つのステージと、基板の第1辺エッジに対する面取り加工を進行する第1面取り加工用のホイールと、第1面取り加工用のホイールに対して相互離隔配されて基板の第1面両側コーナーに対する面取り加工を進行する第2面取り加工用のホイールとを備えたグラインダーと、を含むことを特徴とする。本発明によれば、面取り加工作業時にかかるタクトタイムを従来よりさらに減少させることができて生産性を向上させうる。
【解決手段】本発明の平面ディスプレイ用の面取り機は、基板ローディングユニットと基板アンローディングユニットとの間に設けられて、基板のコーナー及び辺に対する面取り加工を進行する面取り加工ユニットを含み、面取り加工ユニットは、上面に基板が載置支持される少なくとも一つのステージと、基板の第1辺エッジに対する面取り加工を進行する第1面取り加工用のホイールと、第1面取り加工用のホイールに対して相互離隔配されて基板の第1面両側コーナーに対する面取り加工を進行する第2面取り加工用のホイールとを備えたグラインダーと、を含むことを特徴とする。本発明によれば、面取り加工作業時にかかるタクトタイムを従来よりさらに減少させることができて生産性を向上させうる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、平面ディスプレイ用の面取り機及びその面取り加工方法に係り、より詳細には、面取り加工作業時にかかるタクトタイム(tact time)を従来よりさらに減少させることができて生産性を向上させうる平面ディスプレイ用の面取り機及びその面取り加工方法に関する。
【背景技術】
【0002】
最近、半導体産業のうち電子ディスプレイ産業が急速度に発展しながら平面ディスプレイ(Flat Panel Display、FPD)が登場し始めた。
【0003】
平面ディスプレイ(FPD)は、従前にTVやコンピュータモニターなどにディスプレイ(Display)として主に使われた陰極線管(CRT、Cathode Ray Tube)より薄くて軽い映像表示装置であって、液晶表示装置(LCD、Liquid Crystal Display)、プラズマディスプレイ基板(PDP、Plasma Display Panel)、有機EL(OLED、Organic Light Emitting Diodes)などがある。
【0004】
以下、LCD、PDP及びOLEDなどを含む平面ディスプレイ(FPD)を基板と言って説明する。
【0005】
基板は普通、長方形であり、ガラス材質からなる。したがって、基板の4コーナー(エッジ)に対するコーナー加工(Corner Cut)、そして、基板の短辺及び長辺のエッジに対する短辺エッジ加工(Edge Cut)及び長辺エッジ加工、すなわち、基板のコーナー及び辺に対する面取り式の面取り加工をして始めてガラス自体の鋭さが除去されて、工程間の移送及び操作が容易になり、安全事故を未然に予防することができるが、このような面取り加工のために面取り機が使われる。
【0006】
従来の面取り機のうちには、一つの面取り加工用のホイール(wheel)を通じて基板に対する4コーナー、 短辺エッジ及び長辺エッジをいずれも加工した例がある。しかし、このように一つの面取り加工用のホイールを用いて4コーナー、短辺エッジ及び長辺エッジをいずれも加工する場合には、連続作業が不可能なためにタクトタイムが多くかかる問題点があった。
【0007】
これにより、このような問題点を考慮して、基板に対する4コーナー、短辺エッジ及び長辺エッジを連続的に加工することができる面取り機が開示された。
【0008】
図1は、従来の面取り機に対する概略的な構成図である。
【0009】
この図面に図示されたように、従来の面取り機は、基板に対する面取り加工が進行する面取り加工ユニット20を挟んで両側に配される基板ローディングユニット10と、基板アンローディングユニット30とを備える。
【0010】
面取り加工ユニット20は、基板が載置されるが、基板ローディングユニット10と基板アンローディングユニット30とを連結する仮想の作業ラインに沿って直列に配される第1ステージ21及び第2ステージ22と、第1ステージ21及び第2ステージ22に載置された基板に対するアラインのための第1アラインカメラ25a及び第2アラインカメラ25bと、第1面取り加工用のホイール26a及び第2面取り加工用のホイール26bとを備える。
【0011】
第1アラインカメラ25aと第1面取り加工用のホイール26aは、基板が進行する方向に沿って基板の前面両側のコーナー加工、短辺エッジ加工、そして、後面両側のコーナー加工を担当し、第2アラインカメラ25bと第2面取り加工用のホイール26bは、基板の長辺エッジ加工を担当する。
【0012】
このような構成によって、面取り加工対象の基板が基板ローディングユニット10から第1ステージ21に載置されれば、まず第1アラインカメラ25aによって撮影された映像情報に基づいて第1ステージ21によって基板が定位置にアラインされる。以後、第1ステージ21が、第1面取り加工用のホイール26aに向けて移動するか、それとも第1ステージ21に対して第1面取り加工用のホイール26aが移動する動作に基づいて、基板の進行方向に対して基板の前面両側のコーナー、短辺エッジ、そして、後面両側のコーナーがそれぞれ順次に加工される。
【0013】
その後、別途のピックアップロボット(図示せず)が、第1ステージ21上の基板をピックアップして実質的に90°回転させた後、第2ステージ22上に移す。以後、再び第2ステージ22上で基板の定位置アライン作業が進行した後、第2面取り加工用のホイール26bによって基板の長辺エッジが加工され、最終的に面取り加工が完了した基板は、基板アンローディングユニット40に取り出される。
【0014】
このような従来の面取り機は、第2ステージ22上で基板の長辺エッジを加工する時に、第1ステージ21では基板の前面両側のコーナー、短辺エッジ、そして、後面両側のコーナーを加工することができるために、一つの面取り加工用のホイール(図示せず)を備えた面取り機(図示せず)に比べてはタクトタイムを減少させうる。言い換えれば、面取り加工ユニット20上で第1ステージ21及び第2ステージ22が直列配されるように具現することによって、面取り加工作業をインライン化することができてタクトタイムを減少させうる。
【0015】
ところが、このような従来の面取り機においては、第1ステージ21から第2ステージ22に基板を移送させる場合、必ずピックアップロボットを使わなければならないために第2ステージ22上で基板に対するアライン作業を再び進行しなければならず、このようなピックアップロボットによる移送時間及び第2ステージ22上で基板に対するアライン作業所要時間によって、タクトタイムの減少に多少非効率的であるという問題点がある。
【0016】
また、このような従来の面取り機においては、第1ステージ21及び第2ステージ22、そして、第1面取り加工用のホイール26a及び第2面取り加工用のホイール26bが相互間の直列配置構造を有しているために、何れか一つに故障が発生すれば、全体装備が稼動されることができない問題点があって生産性を低下させる要因となっている。
【0017】
これにより、本出願人は、まだ公開されていないが、基板ローディングユニットと基板アンローディングユニットとを連結する仮想の作業ラインとの交差方向に相互離隔されるように複数のステージを配置することによって、基板に対する面取り加工時、従来に比べてタクトタイムを減らすことができ、かつ複数のステージ(図示せず)及び複数の面取り加工用のホイール(図示せず)のうち何れか一つに故障が発生する場合、全体装備が稼動されることができない従来の面取り機の問題点を改善して生産性を向上させうる平面ディスプレイ用の面取り機を大韓民国特許庁に出願した。
【0018】
ところが、この前出願された技術の場合には、図1に図示された従来技術に比べてそのタクトタイムを著しく減らすことはできるが、基板の4角に対するコーナー加工、短辺エッジ加工及び長辺エッジ加工のために面取り加工用のホイールが動作する過程で不可避に基板が待機しなければならない時間が存在する。
【0019】
すなわち、基板に対する面取り加工は、基板の前面両側のコーナー加工、基板の短辺エッジ加工、基板の後面両側のコーナー加工、基板回転後に基板の長辺エッジ加工の順序で進行するが、コーナー加工からエッジ加工に転換される時またはその逆に転換される時、面取り加工用のホイールが整列されなければならない時間の間に基板が待機しなければならない時間が存在することによって、そのような待機時間を減らすことでタクトタイムをさらに減らす必要がある実情である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0020】
本発明の目的は、面取り加工作業時にかかるタクトタイムを従来よりさらに減少させることができて生産性を向上させうる平面ディスプレイ用の面取り機及びその面取り加工方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0021】
前記目的は、本発明によって、基板ローディングユニット(loading unit)と基板アンローディングユニット(unloading unit)との間に設けられて、前記基板のコーナー及び辺に対する面取り加工を進行する面取り加工ユニットを含み、前記面取り加工ユニットは、上面に基板が載置支持される少なくとも一つのステージと、前記基板の第1辺エッジに対する面取り加工を進行する第1面取り加工用のホイールと、前記第1面取り加工用のホイールに対して相互離隔配されて前記基板の第1面両側コーナーに対する面取り加工を進行する第2面取り加工用のホイールとを備えたグラインダーと、を含むことを特徴とする平面ディスプレイ用の面取り機によって達成される。
【0022】
一方、前記目的は、本発明によって、第1面取り加工用のホイールによって基板の第1辺エッジが面取り加工される段階と、前記第1面取り加工用のホイールに対して相互離隔配された第2面取り加工用のホイールによって前記基板の第1面両側コーナーが面取り加工される段階と、を含むことを特徴とする平面ディスプレイ用の面取り加工方法によっても達成される。
【発明の効果】
【0023】
本発明によれば、面取り加工作業時にかかるタクトタイムを従来よりさらに減少させることができて生産性を向上させうる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0024】
本発明と本発明の動作上の利点及び本発明の実施によって達成される目的を十分に理解するためには、本発明の望ましい実施形態を例示する添付図面及び添付図面に記載の内容を参照しなければならない。
【0025】
以下、添付図面を参照して、本発明の望ましい実施形態を説明することによって、本発明を詳しく説明する。各図面に付された同じ参照符号は、同じ部材を表わす。
【0026】
図2は、面取り加工される部分を説明するための基板の斜視図である。
【0027】
図面の説明に先立って、以下で説明される基板とは、TFT−LCD(Thin Film Transistor−Liquid Crystal Display)基板を意味するが、本発明の権利範囲が、これに限定されるものではないので、プラズマディスプレイ基板(PDP、Plasma Display Panel)、有機EL(OLED、Organic Light Emitting Diodes)、太陽電池(SOLAR CELL)などの平面ディスプレイ(Flat Panel Display、FPD)にも適用可能である。但し、以下では、説明の便宜上、TFT−LCD基板をその例として説明する。
【0028】
参考までに、TFT−LCD基板は、液晶を挟んで上板と下板とが合着された状態の二重に製作され、下板の上面には上板が重畳されていない区間が存在するのが普通である。しかし、図2では、図示及び説明の便宜上、TFT−LCD基板をおおよそ四角板形態に概略的に図示している。
【0029】
この図面を参照する時、本実施形態の面取り機を通じて基板は、4コーナー、すなわち、前面両側のコーナー(拡大A参照)及び後面両側のコーナー(拡大B参照)、そして、両側短辺のエッジ(拡大C参照)及び両側長辺のエッジ(拡大D参照)が面取り加工される。
【0030】
詳しくは後述するが、本実施形態において、面取り加工方法は、基板の短辺エッジ加工、基板の前面両側のコーナー加工、基板の後面両側のコーナー加工、そして、基板の長辺エッジ加工の順序による。しかし、本発明の権利範囲が、これに限定されるものではないので、タクトタイムを減少させることができれば面取り加工の順序は、当該製造社の工程状況に合うように十分に変更可能である。
【0031】
図3は、本発明の一実施形態による平面ディスプレイ用の面取り機に対する概略的な平面図であり、図4及び図5は、それぞれ図3の部分拡大斜視図であり、図6は、ステージの拡大斜視図であり、図7は、図6のステージに対する動作を図示した斜視図であり、図8の(a)は、ターンテーブルの表面に形成された第1真空ホールに対する構成図であり、図8の(b)は、可変テーブルの表面に形成された第2真空ホールに対する構成図であり、図9は、ステージの概略的な側面図であり、図10は、トランスファーの拡大斜視図であり、図11は、図10のトランスファーに対する動作を部分的に図示した斜視図であり、図12は、ステージの上部に設けられたステージ洗浄ユニットの装着状態を図示した斜視図であり、図13は、図12に図示された単位洗浄部の斜視図であり、図14は、図13のA−A線による断面図であり、図15は、基板アンローディングユニットの後尾に配される面取り量の測定ユニットの構成を図示した斜視図であり、図16は、図15に図示された“B”部分を拡大した拡大斜視図であり、図17は、図16に図示された異物除去部を説明するための斜視図であり、図18は、図17の分解斜視図であり、図19は、図17のC−C線による断面図であり、図20は、本発明の一実施形態による平面ディスプレイ用の面取り加工方法のフローチャートであり、図21の(a)ないし図21の(f)は、平面ディスプレイ用の面取り加工方法を段階的に図示した構成図である。
【0032】
これら図面を参照するが、主に図3ないし図5を参照すれば、本発明の一実施形態による平面ディスプレイ用の面取り機は、面取り加工対象の基板がローディングされる基板ローディングユニット210と、基板に対する面取り加工が進行する面取り加工ユニット220と、面取り加工が完了した基板がアンローディングされる基板アンローディングユニット240とを備える。
【0033】
基板ローディングユニット210と基板アンローディングユニット240のすべては、基板を移送させる役割を果たすので、図示されたように、ローラータイプ(roller type)に適用可能である。すなわち、基板ローディングユニット210と基板アンローディングユニット240は、多数の回転軸211、241のそれぞれに基板を回転可能に支持する多数のローラー212、242が結合された構造を有しうる。
【0034】
しかし、本発明の権利範囲が、これに限定されるものではないので、基板ローディングユニット210と基板アンローディングユニット240は、通常のコンベヤータイプ(conveyor type)やステージタイプ(stage type)に代替されても良い。このように、基板ローディングユニット210と基板アンローディングユニット240とがコンベヤータイプやステージタイプに適用される場合には、基板をアップ(up)させるための空気浮上モジュール(図示せず)がともに適用されることが有利である。
【0035】
多数のローラー212、242は、基板にスクラッチが発生しないように柔軟な材質で製作されることが望ましい。そして、多数の回転軸211、241は、その回転速度の制御が容易になるように単一のモータによって一括的にともに回転することができるが、必ずしもそういうことではないので、個別モータによって多数の回転軸211、241のそれぞれが個別的に回転させることもできる。
【0036】
基板ローディングユニット210には、進入される基板に対してアライン作業を進行するアライン部215が設けられている。アライン部215は、相互接近及び離隔される動作によって基板の両側面を加圧することで基板を正しく整列させる役割を果たす。
【0037】
このような基板ローディングユニット210には、基板アンローディングユニット240とは異なって基板が進入される方向に沿って多数の進入感知センサー214がさらに設けられている。多数の進入感知センサー214は、基板の進入位置に基づいて回転軸211の速度を減らすか、停止させるための感知信号を発生させる。
【0038】
基板アンローディングユニット240には、面取り量の測定ユニット250がさらに設けられている。面取り量の測定ユニット250は、面取り加工ユニット220を通じて面取り加工が完了した基板に対する面取り量を測定する役割を果たすが、これについては後述する。
【0039】
面取り量の測定ユニット250によって面取り量が測定された基板に対して、もし、誤って面取りされた場合であるか、面取り量が基準値未満である場合であれば、当該基板は破棄されるか、あるいは面取り加工用のホイール225、227側にフィードバックされて面取り量が補正されて加工が進行しうる。本実施形態では、面取り量の測定ユニット250が基板アンローディングユニット240に設けられているが、場合によって、面取り量の測定ユニット250は、面取り加工ユニット220に設けられることもできる。
【0040】
基板ローディングユニット210と基板アンローディングユニット240には、多数のローラー212、242に対して基板を所定高さほどアップさせる多数のリフトピン213、243が多数のローラー212、242の間にさらに設けられている。
【0041】
このようなリフトピン213、243は、基板ローディングユニット210と面取り加工ユニット220との間の領域、そして、面取り加工ユニット220と基板アンローディングユニット240との間の領域に設けられて、当該位置で基板を移送させるトランスファー400a、400bの動作に連動して動作する。すなわち、リフトピン213、243は、トランスファー400a、400bが、基板ローディングユニット210から面取り加工ユニット220に、あるいは面取り加工ユニット220から基板アンローディングユニット240に基板を移送させる時、アップされる動作を見せる。
【0042】
面取り加工ユニット220の説明に先立って、トランスファー400a、400bについて図10及び図11を参照して先に説明する。
【0043】
トランスファー400a、400bは、基板ローディングユニット210と面取り加工ユニット220との間の領域、そして、面取り加工ユニット220と基板アンローディングユニット240との間の領域に設けられて基板ローディングユニット210上の加工前基板を第1及び第2ステージ300a、300bに、第1及び第2ステージ300a、300b上の加工完了基板を基板アンローディングユニット240に移送させる役割を果たす。
【0044】
本実施形態において、基板ローディングユニット210と面取り加工ユニット220 との間の領域、そして、面取り加工ユニット220と基板アンローディングユニット240との間の領域に設けられているトランスファー400a、400bの構造及び動作はすべて同一である。これにより、図示及び説明の便宜上、トランスファー400a、400bの部構細成に対しては同じ参照符号を付与する。
【0045】
主に図10及び図11を参照する時、トランスファー400a、400bは、基板の両側面で基板を把持する多数の基本把持ユニット410と、多数の基本把持ユニット410とは異なる位置に設けられて基板の移送または停止途中、基板が基本把持ユニット410から離脱して落下することを防止する安全把持ユニット430とを備える。
【0046】
基本把持ユニット410と安全把持ユニット430は、ヘッド部440に結合されている。したがって、後述するX軸駆動部461、Y軸駆動部462及びZ軸駆動部463によってヘッド部440が所望の位置に移動すれば、これとともに基本把持ユニット410と安全把持ユニット430も当該位置に移動させうる。
【0047】
本実施形態において、多数の基本把持ユニット410は、ヘッド部440の両側面(短辺)領域に2個ずつ4個設けられ、安全把持ユニット430は、面取り加工ユニット220あるいは基板アンローディングユニット240に向けたヘッド部440の前面(長辺)領域に1個設けられる。
【0048】
しかし、本発明の権利範囲が、これに限定される必要はないので、ヘッド部440の両側面領域に1個ずつの基本把持ユニット410が設けられるか、あるいはヘッド部440の両側面領域に3個ずつ、あるいはそれ以上個数ずつの基本把持ユニット410が設けられても良い。そして、安全把持ユニット430の場合に、ヘッド部440の前面(長辺)領域にも2個以上設けられることができ、ヘッド部440の前面(長辺)領域と後面(長辺)領域とにすべて設けられることもできる。安全把持ユニット430の個数が多くなれば、大きい基板の垂れを防止できる効果があるので、効率的な構造に適切に選択されることができる。
【0049】
4個の基本把持ユニット410について説明すれば、4個の基本把持ユニット410は、本実施形態でヘッド部440の短辺領域に2個ずつ設けられる。この際、2個ずつの基本把持ユニット410は、一対の連結部411a、411bによってそれぞれ連結されている。
【0050】
一対の連結部411a、411bは、ヘッド部440の側面に形成されて一対の連結部411a、411bの移動を案内する一対の案内部412a、412bに移動可能に収容結合されている。本実施形態の場合、案内部412a、412bは一対になっているが、案内部412a、412bは図面のように分離されないで一体型に貫通された構造を有することもある。
【0051】
トランスファー400a、400bには、所定の制御信号によって一対の連結部411a、411bが一対の案内部412a、412bによって案内されながら、相互接近及び離隔されるように一対の連結部412a、412bを駆動させる駆動部413がさらに備えられる。駆動部413に対しては詳しく図示していないが、駆動部413は、モータと、モータによって正・逆転するが、一対の連結部411a、411bに相異なる方向のネジ山を有して連結されるボールスクリュー軸として具現可能である。
【0052】
これにより、駆動部413のモータに電源が印加されてボールスクリュー軸が正転すれば、例えば、図11の点線のように2個ずつの基本把持ユニット410は、一対の連結部411a、411bによって相互接近されることができ、反対にボールスクリュー軸が逆転すれば、2個ずつの基本把持ユニット410は一対の連結部411a、411bによって相互離隔されることができる。このように、4個の基本把持ユニット410が、相互接近及び離隔されることによって多様なサイズの基板に共に適用できる利点がある。
【0053】
1個の安全把持ユニット430の構造について説明すれば、安全把持ユニット430の装着のために固定ロッド431と、回動支持部433とが備えられる。
【0054】
固定ロッド431は、ヘッド部440に固定されるように設けられる、いわゆるブラケットのような構成であって、固定ロッド431は、垂直ロード431aと、垂直ロード431aの端部で垂直ロード431aに横に形成される水平ロード431bとを備える。
【0055】
回動支持部433は、水平ロード431bの端部で安全把持ユニット430を支持するが、回動支持部433は、水平ロード431bに対して安全把持ユニット430を回動可能に支持する。回動支持部433の回動動作は、前述した制御信号によって基本把持ユニット410が動作する時に連動して動作する。すなわち、図11の点線のように、基本把持ユニット410が動作して実質的に基板の両側面及び下面一部を支持する場合、回動支持部433の回動動作に基づいて安全把持ユニット430をして基板の前面及び下面一部を支持して基板の移送または停止途中、基板が落下する現象を防止する。
【0056】
このように、実質的に基板を単純に把持するか、あるいは安定的に把持するために設けられる基本把持ユニット410と安全把持ユニット430は、すべてが当該位置で基板の側面に接触された状態で基板の下面を部分的に支えて支持できるように‘L’状に製作される。しかし、この形状に本発明の権利範囲が限定されない。
【0057】
そして、基本把持ユニット410と安全把持ユニット430は、すべて基板に接触されながら基板を把持するために、基板に接触される過程で基板にスクラッチ(scratch)を発生させる恐れがある。
【0058】
これにより、本実施形態では、基板にスクラッチの発生が防止されるように基本把持ユニット410と安全把持ユニット430のすべてをMD−PA材質で製作している。しかし、MD−PA材質ではないとしても基板に損傷を与えない材質でありながら、一定の剛性を保有することができれば基本把持ユニット410と安全把持ユニット430とが異なる材質で製作されても良い。
【0059】
一方、前にも記述したように、多様なサイズの基板をいずれも把持できるように、特に、基本把持ユニット410は、相互接近及び離隔可能に設けられるが、それ以外にもトランスファー400a、400bのその自体は、基板ローディングユニット210上の基板を第1及び第2ステージ300a、300bに、第1及び第2ステージ300a、300b上の基板を基板アンローディングユニット240に移送させるためにX軸、Y軸及びZ軸に移動可能に設けられる。
【0060】
このために、本実施形態のトランスファー400a、400bは、基板ローディングユニット210と基板アンローディングユニット240とを繋ぐ仮想のX軸に沿って基本把持ユニット410と安全把持ユニット430とが結合されたヘッド部440を駆動させるX軸駆動部461と、X軸に交差されるY軸に沿ってヘッド部440を駆動させるY軸駆動部462と、ヘッド部440を上下方向であるZ軸に沿って駆動させるZ軸駆動部463とをさらに備える。
【0061】
X軸駆動部461、Y軸駆動部462及びZ軸駆動部463は、線形移動制御が容易なリニアモータによって具現可能であるが、場合によって、シリンダーやモータ、ボールスクリュー組合わせなどの構造によって具現されることもある。
【0062】
一方、面取り加工ユニット220は、実質的に基板ローディングユニット10から提供された基板の4コーナー、基板の短辺エッジ及び基板の長辺エッジに対する面取り加工を進行する部分である(図2参照)。
【0063】
前にも記述したように、本実施形態の場合には、基板の両側短辺のエッジ加工、基板の前面両側のコーナー加工、基板の後面両側のコーナー加工、そして、基板の両側長辺のエッジ加工の順序で面取り加工が進行するので、これの順序に基づいて説明する。
【0064】
前にも記述したように、面取り加工方法のうちには、コーナー加工からエッジ加工に転換されるか、またはその逆に転換される状況が存在するが、この場合に、従来のように面取り加工用のホイール(図示せず)が整列されなければならないなどの理由で基板が面取り加工を連続的に進行することができずにしばらくの間に待機しなければならないとすれば、それほどタクトタイムが増加するしかない。これにより、本実施形態では、たとえ短い時間であるとしても面取り加工が連続的に進行することができずに基板が待機しなければならない時間的なロス(loss)発生を根本的に遮断することによって、従来よりタクトタイムをさらに減らして生産性を向上させるようにしている。
【0065】
このために、本実施形態の面取り加工ユニット220は、上面に基板が載置支持される2個の第1及び第2ステージ300a、300bと、X軸に沿って相互離隔して配される第1及び第2面取り加工用のホイール225、227を備えたグラインダー221とを含む。
【0066】
面取り加工ユニット220の一構成であるステージ300a、300bについて主に図6ないし図9を参照して説明する。本実施形態において、ステージ300a、300bは、図3及び図4に図示されたように、Y軸に沿って2個の第1及び第2ステージ300a、300bに設けられる。第1及び第2ステージ300a、300bは、グラインダー221の残りの構成とともに面取り加工作業をそれぞれ並列的に進行するために、それほどタクトタイムが減少して生産性が向上する。
【0067】
しかし、本発明の権利範囲が、これに限定されるものではないので、一つのステージのみが備えられることもでき、あるいは3個以上のステージが備えられることもある。但し、3個以上のステージが備えられる場合、これらがY軸に沿って並列配置構造を有するならば、それで十分である。
【0068】
前述したトランスファー400a、400bと同様に、第1及び第2ステージ300a、300bもその位置のみが相異なっているだけで構造及び動作はすべて同一である。これにより、図示及び説明の便宜上、第1及び第2ステージ300a、300bの細部構成に対しては同じ参照符号を付与する。
【0069】
第1及び第2ステージ300a、300bについて説明すれば、本実施形態の第1及び第2ステージ300a、300bは、多様なサイズの基板に混用して適用可能である構造を有している。
【0070】
すなわち、従来の面取り機に開示されたステージ(図示せず)は、上面に載置された基板を真空で吸着する単純なブロック状の構造であり、その上面の面積が一定に定められた大きさを有するために、一種の基板のみを吸着して支持するしかなかった。したがって、このような従来のステージの適用された面取り機は、多様なサイズの基板に混用して適用することができなくて、先に面取り加工した基板とそのサイズが異なる基板とを面取り加工するためにはステージ(図示せず)を取り替えなければならず、このような取り替え時間によって、タクトタイムが増加して生産性が低下する短所があった。しかし、本実施形態の第1及び第2ステージ300a、300bは、必要によって、その上面の全体面積が調節されることができるために、多様なサイズの基板に混用して適用可能である構造を有する。
【0071】
このために、本実施形態の面取り機に適用される第1及び第2ステージ300a、300bのそれぞれは、基板を吸着して回転させるターンテーブル310と、ターンテーブル310の外郭に配されてターンテーブル310とともに基板を吸着して支持し、多様なサイズの基板のすべてに対応できるようにターンテーブル310に対して接近及び離隔可能な多数の可変テーブル320とを備える。
【0072】
図6及び図7に図示されたように、ターンテーブル310は、第1及び第2ステージ300a、300bの中央領域に1個設けられ、可変テーブル320は、ターンテーブル310の外郭で相互対称に4個設けられる。4個の可変テーブル320は、2個ずつ対を成してターンテーブル310に対して接近及び離隔される。
【0073】
4個の可変テーブル320が、2個ずつ対を成した状態でターンテーブル310に対して接近及び離隔されるようにテーブル駆動部330がさらに設けられる。
【0074】
図7を参照すれば、テーブル駆動部330は、2個ずつ対を成した可変テーブル320をそれぞれ連結する一対の連結ブロック331a、331bと、一対の連結ブロック331a、331bにそれぞれ回転可能に結合されて正・逆転時、一対の連結ブロック331a、331bを相互接近及び離隔させるボールスクリュー軸332と、ボールスクリュー軸332を正・逆転させる駆動モータ333とを含む。
【0075】
一対の連結ブロック331a、331bは、それぞれ四角のブロック構造を有するが、その上面には一つずつの可変テーブル320を支持するブロック支持部334がさらに設けられる。ブロック支持部334は、一対の連結ブロック331a、331bの一つ当り2個ずつ設けられて2個の可変テーブル320を支持する。本実施形態では、図示及び説明の便宜上、ブロック支持部334に対してはすべて同じ参照符号を付与している。
【0076】
ボールスクリュー軸332は、外面にネジ山が形成されたものであって、一対の連結ブロック331a、331bを連結しているが、一対の連結ブロック331a、331bが連結されるボールスクリュー軸332の当該領域のネジ山は相互反対方向に加工される。
【0077】
このように、ボールスクリュー軸332の外面に形成されたネジ山が相互反対方向に加工されており、反対方向に加工されたネジ山に一対の連結ブロック331a、331bがそれぞれ螺合されることによって、例えば、ボールスクリュー軸332が正転されれば、一対の連結ブロック331a、331bは、図6のように相互離隔されながら、可変テーブル320を開けて大きい基板が吸着可能にすることもでき、反対にボールスクリュー軸332が逆転されれば、一対の連結ブロック331a、331bは、図7のように相互接近されながら、可変テーブル320を狭めて小さな基板が吸着可能にすることもできる。
【0078】
駆動モータ333は、ボールスクリュー軸332を正・逆転させるための動力を発生させる部分である。本実施形態では、単一、すなわち、1個の駆動モータ333としてボールスクリュー軸332を正・逆転させている。このように、単一の駆動モータ333のみでも可変テーブル320を駆動させることができるために、それほど構成が簡素化されて設置及び維持補修が簡便になり、また、それほどコストを減らしうる利点がある。
【0079】
ターンテーブル310は、その上面がおおよそ円状を有し、4個の可変テーブル320は、一部分が切開されたおおよそ長方状を有する。しかし、本発明の権利範囲が、これに限定されるものではないので、ターンテーブル310及び可変テーブル320の形状は、適切に変更されることもある。
【0080】
例えば、少なくともターンテーブル310の上面は、楕円状を含めて多角状になっても良い。また、可変テーブル320は、必ずしも4個が備えられる必要はないので、可変テーブル320はターンテーブル310の外郭で相互対称に2個設けられることもできる。このような場合でも、テーブル駆動部330の構成及びそれによる動作は同様に具現可能である。
【0081】
前述したように、面取り加工対象の基板サイズが大きい場合には、ターンテーブル310と可変テーブル320との全体吸着面積が広くなるように、図6のようにターンテーブル310に対して4個の可変テーブル320が離隔されなければならず、面取り加工対象の基板サイズが小さければ、図7のようにターンテーブル310に対して4個の可変テーブル320が接近されなければならない。この際、図7のように4個の可変テーブル320がターンテーブル310に対して接近される時、4個の可変テーブル320の側面がターンテーブル310に衝突されればならないために、可変テーブル320の側面には切開部321が形成されている。本実施形態において、切開部321は、ターンテーブル310の外面に対応するアーク(arc)状を有することができるが、必ずしもそういうことではない。
【0082】
ターンテーブル310と可変テーブル320との表面には、図8に図示されたように、基板を吸着して支持するために多数の第1及び第2真空ホール315、325がそれぞれ形成されている。第1及び第2真空ホール315、325は、それぞれターンテーブル310と可変テーブル320との厚さを貫通する形態に設けられる。
【0083】
このような第1及び第2真空ホール315、325のみでも、基板を吸着して支持するには事実上十分である。しかし、本実施形態の場合、ターンテーブル310と可変テーブル320との表面には、ターンテーブル310と可変テーブル320との表面から下方に一定深さほど陷沒された状態で一定の形状のラインを成して基板に対する真空吸着面積を倍加させる第1及び第2真空吸着ライン溝315a、325aがさらに形成されている。すなわち、第1及び第2真空ホール315、325に真空吸引力が発生すれば、真空吸引力は第1及び第2真空吸着ライン溝315a、325aを通じてさらに広くなった領域で作用しながら、基板を吸着させることができるために基板に対する真空吸着面積が高くなることができる。本実施形態において、第1及び第2真空吸着ライン溝315a、325aは、第1及び第2真空ホール315、325の一つ当り一つずつ設けられているが、必ずしもそういうことではない。
【0084】
本実施形態において、ターンテーブル310に形成された第1真空吸着ライン溝315aは、図8の(a)に図示されたように、ピザ(pizza)状に、可変テーブル320に形成された第2真空吸着ライン溝325aは、図8の(b)に図示されたように、ハングル‘¬’状に形成されることができるが、本発明の権利範囲が、これに限定されるものではない。図8の(a)及び図8の(b)に図示されたターンテーブル310と可変テーブル320との表面でハッチングされていない部分がハッチングされた部分に比べて陷沒されたことを意味する。
【0085】
前にも記述したように、可変テーブル320は4個が設けられるために、もし、4個の可変テーブル320に形成される真空圧が互いに格段に異なれば、基板が安定的に支持されることができないか、あるいは一側に歪んだ状態になることもできる。したがって、4個の可変テーブル320、少なくとも2個ずつ対を成した可変テーブル320に提供される真空圧は実質的に均一になる必要がある。また、基板が中央に整列されるために、すなわち、中央を基準に対称に配されるために真空を対称にオン/オフ(on/off)することが効率的である。
【0086】
図8の(b)を参照する時、可変テーブル320の表面に形成された第2真空ホール325には、個別的に真空のオン/オフが制御されるように多数の真空配管326a、326b、326cが連結されており、多数の真空配管326a、326b、326cは、多数の中間配管327a、327b、327cと連結されている。
【0087】
この際、真空配管326a、326b、326cは、中間配管327a、327b、327cのそれぞれの一ラインから隣となった一対の可変テーブル320に相互対称に分岐されている。すなわち、例えば、参照符号327aの中間配管は一つのラインを成すが、参照符号327aの中間配管から分岐された2個のラインである真空配管326aは、それぞれ隣となった一対の可変テーブル320の第2真空ホール325に向けている。このような方式で配管を構成することで少なくとも2個ずつ対を成した可変テーブル320に提供される真空圧は中央を基準に対称的に均一になることができ、したがって、基板に対する吸着効率を高めうる。
【0088】
一方、第1及び第2真空ホール315、325、特に、第2真空ホール325を通じて均一な真空圧が形成されるとしても可変テーブル320の平坦度が正しく合わなければ、基板との間に間隙が発生するために基板の吸着効率が落ちるしかなくて真空の損失を誘発させる。
【0089】
これにより、本実施形態では、簡単な方法でも連結ブロック331a、331bに対する可変テーブル320の平坦度を調節できるように、平坦度調節部340をさらに設けている。
【0090】
平坦度調節部340は、図9に図示されたように、両端部のネジ山が相互反対方向に加工された状態で両端部が可変テーブル320と連結ブロック331a、331bとに螺合される多数の調節ボルト341と、連結ブロック331a、331bに結合されて一端部が可変テーブル320に接触支持される多数の接触支持ボルト342とを備える。
【0091】
このような構成によって、もし、可変テーブル320の平坦度を調節しなければならない場合であれば、まず多数の接触支持ボルト342を緩めて接触支持ボルト342の一端部が可変テーブル320から平坦度調節のために要求される位置まで離隔させた後で、当該位置にある調節ボルト341を締めるか緩める。調節ボルト341の両端部は、反対方向のネジ山が形成されており、反対方向のネジ山は、それぞれ可変テーブル320と連結ブロック331a、331bとに連結されているために調節ボルト341を締めるか緩めれば、可変テーブル320が連結ブロック331a、331bに対して下降するか上昇される。したがって、このような操作を通じて可変テーブル320の平坦度を調節すれば良く、可変テーブル320の平坦度が調節されれば、再び接触支持ボルト342を締めて接触支持ボルト342の一端部が可変テーブル320に接触支持されることによって、可変テーブル320が任意に傾く現象を予防すれば良い。
【0092】
一方、グラインダー221は、第1及び第2ステージ300a、300bに吸着支持された基板に対して実質的な面取り加工を進行する部分である。
【0093】
本実施形態の場合、Y軸に沿って2個の第1及び第2ステージ300a、300bが設けられているので、装備の簡素化のためにグラインダー221は共有グラインダーとして適用される。このように、グラインダー221が共有グラインダーで適用されることによって、グラインダー221に設けられた2個ずつのアラインカメラ223、第1面取り加工用のホイール225及び第2面取り加工用のホイール227は、第1及び第2ステージ300a、300b側に選択的に移動しながら、第1及び第2ステージ300a、300bとともに基板に対する面取り加工作業を進行する。
【0094】
しかし、本発明の権利範囲が、これに限定されるものではないので、グラインダー221が必ずしも共有グラインダーである必要はない。すなわち、第1及び第2ステージ300a、300bごとに第1及び第2ステージ300a、300bにそれぞれ対応する2個ずつのアラインカメラ223、第1面取り加工用のホイール225及び第2面取り加工用のホイール227が専用で備えられるように構成しても良い。
【0095】
グラインダー221は、第1及び第2ステージ300a、300bに載置された基板のアライン作業のためのアラインカメラ223と、第1及び第2ステージ300a、300bに載置された基板に対する面取り加工を進行するが、X軸に沿って相互離隔して配される第1及び第2面取り加工用のホイール225、227とを備える。
【0096】
アラインカメラ223は、基板のある一辺に形成された2個のアラインマーク(align mark)を撮影するために2個設けられる。すなわち、少なくとも2個のアラインマークを撮影して始めて基板に対するアライン作業が可能であり、それに基づいて第1面取り加工用のホイール225、そして、第2面取り加工用のホイール227の間隔が決定されることができるために、本実施形態では、2個のアラインカメラ223が設けられる。
【0097】
第1面取り加工用のホイール225は、基板の両側短辺エッジに対する面取り加工及び基板の後面コーナー加工を進行し、第2面取り加工用のホイール227は、基板の前面コーナー加工及び基板の両側長辺エッジに対する面取り加工を進行するために、アラインカメラ223と同様に2個ずつ設けられる。
【0098】
第1及び第2面取り加工用のホイール225、227の構造について説明すれば、図5に図示されたように、第1及び第2面取り加工用のホイール225、227は、Z軸に沿って外周面の一領域が相互重畳して配されて基板の4コーナー、基板の短辺エッジ及び基板の長辺エッジをいずれも加工する多数の第1ないし第4マルチホイール225a〜225d、227a〜227d(multi wheel)で適用される。言い換えれば、第1面取り加工用のホイール225は、4個の第1ないし第4マルチホイール225a〜225dの組合わせによって、そして、第2面取り加工用のホイール227は、4個の第1ないし第4マルチホイール227a〜227dの組合わせによって設けられる。第1及び第2面取り加工用のホイール225、227は、それぞれホイール回転用のハウジング231、232によって回転可能に結合されている。ホイール回転用のハウジング231、232は、第1及び第2面取り加工用のホイール225、227を支持する役割以外にもモータなどを用いて第1及び第2面取り加工用のホイール225、227を回転させる役割を兼ねる。
【0099】
このような構成で、基板の短辺エッジに対する面取り加工は、第1面取り加工用のホイール225の第1及び第3マルチホイール225a、225cと、第2及び第4マルチホイール225b、225dとの間の領域で進行し、基板の後面コーナー加工は、第1面取り加工用のホイール225の第3及び第4マルチホイール225c、225dの傾斜表面領域で進行する。そして、基板の前面コーナー加工は、第2面取り加工用のホイール227の第3及び第4マルチホイール227c、227dの傾斜表面領域で進行し、基板の長辺エッジに対する面取り加工は、第2面取り加工用のホイール227の第1及び第3マルチホイール227a、227cと、第2及び第4マルチホイール227b、227dとの間の領域で進行する。
【0100】
一方、本実施形態のグラインダー221は、共有グラインダーであるので、アラインカメラ223、第1面取り加工用のホイール225及び第2面取り加工用のホイール227は、第1ステージ300aとともに第1ステージ300a上の基板に対する面取り加工作業も進行しなければならず、第2ステージ300bとともに第2ステージ300b上の基板に対する面取り加工作業も進行しなければならない。
【0101】
したがって、アラインカメラ223、第1面取り加工用のホイール225及び第2面取り加工用のホイール227は、Y軸に沿って移動が可能ではなければならない。このために、カメラ移動支持部224、第1ホイール移動支持部226及び第2ホイール移動支持部228が備えられる。
【0102】
カメラ移動支持部224は、2個のアラインカメラ223がY軸に沿って個別あるいは集団に移動可能に2個のアラインカメラ223を移動可能に支持し、第1ホイール移動支持部226は、2個の第1面取り加工用のホイール225がY軸に沿って個別あるいは集団に移動可能に2個の第1面取り加工用のホイール225を移動可能に支持し、第2ホイール移動支持部228は、2個の第2面取り加工用のホイール227がY軸に沿って個別あるいは集団に移動可能に2個の第2面取り加工用のホイール227を移動可能に支持する。
【0103】
本実施形態において、カメラ移動支持部224、第1ホイール移動支持部226及び第2ホイール移動支持部228は、リニアモータとして具現可能であるが、必ずしもそういうことではない。それだけではなく、図面を見れば、カメラ移動支持部224、第1ホイール移動支持部226及び第2ホイール移動支持部228がそれぞれ個別的に図示されているが、これらは一胴体で相互連結されることもできる。
【0104】
2個のアラインカメラ223は、カメラ移動支持部224によってY軸に移動すれば、それで十分である。しかし、第1及び第2面取り加工用のホイール225、227は、第1及び第2ホイール移動支持部226、228によってY軸に移動するだけではなく、基板の4コーナー加工、そして、短辺及び長辺エッジ加工のためにZ軸にも昇降が可能ではなければならない。
【0105】
このために、本実施形態のグラインダー221には、第1ホイール移動支持部226に結合されて2個の第1面取り加工用のホイール225をZ軸に昇降させる第1ホイール昇降部226aと、第2ホイール移動支持部228に結合されて2個の第2面取り加工用のホイール227をZ軸に昇降させる第2ホイール昇降部228aとがさらに設けられる。第1ホイール昇降部226aと第2ホイール昇降部228aは、シリンダーで適用可能であるが、これもリニアモータやモータとボールスクリューとの組合わせによって適用されることもできる。
【0106】
一方、本実施形態の場合、面取り加工ユニット220を通じて基板の4コーナー加工、基板の短辺エッジ加工及び基板の長辺エッジ加工作業が進行する時、基板の4コーナー加工、基板の短辺エッジ加工及び基板の長辺エッジ加工作業が実質的に待機時間なしに連続的に進行するように、グラインダー221の動作を制御する制御部(図示せず)をさらに備える。
【0107】
言い換えれば、制御部は、第1及び第2面取り加工用のホイール225、227のうち何れか一つが基板のエッジ加工作業をする時、第1及び第2面取り加工用のホイール225、227のうち他の一つが基板の両側コーナー加工作業のための作業位置に、または第1及び第2面取り加工用のホイール225、227のうち何れか一つが基板の両側コーナー加工作業をする時、第1及び第2面取り加工用のホイール225、227のうち他の一つが基板のエッジ加工作業のための作業位置にあらかじめ移動して待機できるように、第1及び第2面取り加工用のホイール225、227のX軸、Y軸及びZ軸動作を制御するが、このような一連の制御動作については下記の面取り加工方法に含ませてともに説明する。
【0108】
一方、面取り加工が完了した基板を基板アンローディングユニット240に移送させた後、ステージ300a、300bは、前述した作業を再び反復するために基板ローディングユニット210の方向に移動する。ところで、加工対象の基板が載置されるステージ300a、300bの上部には、面取り加工時に発生した異物が残存することができるために基板が載置されるステージ300a、300bの上部を洗浄した後、次の基板をローディングしなければならない。これは、洗浄をしないで新たな基板がステージ300a、300bにローディングされる場合、ステージ300a、300bに残存する異物によって基板が汚染されることができるためである。
【0109】
したがって、本実施形態の面取り機は、面取り加工ユニット220と基板アンローディングユニット240との間に設けられてステージ300a、300bの表面を洗浄するステージ洗浄ユニット530(図3及び図5参照)と、ステージ300a、300bの表面に洗浄流体を噴射するステージ洗浄ユニット530の作動を制御する制御部(図示せず)をさらに含み、これにより、今後面取り加工される基板のステージ300a、300bに残存する異物による汚染を防止できる。
【0110】
ここで、制御部は、面取り加工が完了した基板を基板アンローディングユニット240に移送させ、そして、基板を支持していないステージ300a、300bがまた新たな基板をローディングするために基板ローディングユニット210に移動する時、ステージ洗浄ユニット530を作動させてステージ300a、300bの表面に残存可能な異物を除去させ、またステージ300a、300bがステージ洗浄ユニット530の噴射領域を通過すれば、ステージ洗浄ユニット530の作動を停止させるようにステージ洗浄ユニット530の作動を制御する。
【0111】
本実施形態のステージ洗浄ユニット530は、図3及び図5に図示されたように、第1及び第2ステージ300a、300bの移動ラインにそれぞれ配される二対の単位洗浄部531a、531bと、ステージ300a、300bの移動方向の横方向に配され、二対の単位洗浄部531a、531bが結合されるユニットフレーム545とを備える。
【0112】
但し、二対の単位洗浄部531a、531bは、実質的に同一の構成を有するために、以下では、第1ステージ300aの上部に配される一対の単位洗浄部531aについてのみ説明する。
【0113】
一対の単位洗浄部531aは、図12ないし図14に詳しく図示されたように、移動ラインに沿って移動可能に配される第1ステージ300aの上部に配されて第1ステージ300aの上面方向に洗浄のための洗浄流体を噴射する。この際、一対の単位洗浄部531aは、偏平に設けられる第1ステージ300aの上面に残存する異物が外側に離脱されることができるように相互対称される角度で傾いて設けられる。
【0114】
言い換えれば、洗浄流体の噴射方向が、第1ステージ300aの上面の面方向と傾くようにすることによって、第1ステージ300aの上面に残存する異物が洗浄流体の押す力によって外側に離脱されることができるようにする。第1ステージ300aの上面とは、前述したターンテーブル310及び多数の可変テーブル320の上面を示す。
【0115】
したがって、単位洗浄部531aが、洗浄流体の噴射方向を調節してステージ570aに残存する異物を最大限効率的に除去できるように単位洗浄部531aは、ユニットフレーム545に対して多方向に回動可能に設けられる。
【0116】
このような単位洗浄部531aの具体的な構成について説明すれば、本実施形態の単位洗浄部531aは、第1ステージ300aに洗浄流体を噴射する噴射口が設けられている噴射胴体部532と、噴射胴体部532が、ユニットフレーム545に対して多方向に回動可能に噴射胴体部532をユニットフレーム545に結合させる回動結合部540とを備える。
【0117】
噴射胴体部532は、回動結合部540に対して回動可能に結合される回動部材533と、回動部材533と実質的に並んで回動部材533に結合され、上端部から内側方向に洗浄流体が移動する移動空間534sが陷沒形成されている噴射部材534と、噴射部材534の上面に結合されて噴射部材534の内部を外部と遮蔽する遮蔽部材535とを備える。
【0118】
ここで、噴射部材534と遮蔽部材535とを結合させれば、その先端部に移動空間534sと連通されるスリット状の噴射口534hが設けられるが、このような噴射口534hを通じて洗浄流体が第1ステージ300aの上面に斜めに噴射されて第1ステージ300aの異物をきれいに除去することができる。
【0119】
まず回動部材533は、図13及び図14に図示されたように、回動結合部540に対して‘θ1’方向に回動可能に結合される。したがって、噴射部材534の噴射口534hを通じて噴射される洗浄流体の噴射方向を調節することができる。すなわち、洗浄流体が、第1ステージ300aに残存する異物を外側に押し出すように第1ステージ300aに対する噴射部材534の傾斜角度を容易に調節することができる。
【0120】
遮蔽部材535は、噴射部材534の内側部分を保護するため、すなわち、外部の異物が洗浄流体が移動する噴射部材534の内側に侵透することを防止するため、噴射部材534の上面に結合される。また、遮蔽部材535は、噴射部材534の内側に設けられる構造を保護しながらも、結合及び分離が容易で噴射部材534の内側構造に対する維持補修を容易にできる長所がある。
【0121】
一方、このような噴射胴体部532が結合される回動結合部540は、ユニットフレーム545に締結されるフレーム締結部材541と、回動部材533が軸中心に回動可能に回動部材533に結合される回動結合部材542と、フレーム締結部材541及び回動結合部材542の間に結合され、回動結合部材542をフレーム締結部材541に対して相対回動させる連結部材543とを備える。
【0122】
このような回動結合部540の構造によって、前述したように、噴射胴体部532は、‘θ1’方向に回動できるだけではなく、フレーム締結部材541に対して回動結合部材542が‘θ2’方向に相対回動することで噴射胴体部532の全体が回動結合部540に対して‘θ2’方向に相対回動することができる。したがって、第1ステージ300aに対する単位洗浄部531aの傾斜角度を適切に調節することによって、第1ステージ300a上に残存する異物をより効果的に除去することができる。
【0123】
一方、前述した第1ステージ300aの洗浄作業は、工程を一時的に中断させて進行することではなく、工程中に進行する。すなわち、面取り加工された基板が基板アンローディングユニット540に移送されて基板が積載されていない第1ステージ300aは、今後の作業のために移動ラインに沿って再び基板ローディングユニット110の方向に移動するが、この際、ステージ洗浄ユニット530が動作して第1ステージ300a上に残存する異物を除去する。したがって、基板に対する面取り加工工程のタクトタイムを短縮させることができ、これにより、全体的な生産性を向上させうる長所がある。
【0124】
一方、本実施形態では、ステージ300a、300bの数に対応する対ほどの単位洗浄部531a、531bがユニットフレーム545に結合されると上述したが、ユニットフレームに一対の単位洗浄部が移動可能に結合されることによって、交番的に移動する複数のステージに対する洗浄作業を進行することもできる。
【0125】
一方、図3及び図5、そして、図15ないし図19を参照すれば、本実施形態の面取り機で基板アンローディングユニット240には、面取り加工された基板の面取り量を測定するための面取り量の測定ユニット630が設けられている。これは、基板を面取り加工する時、既定の面取り量の基準内で面取り加工がなされなければならないが、例えば、既定の基準を超えるか、超えないように基板が面取り加工されることができるので、面取り量の測定ユニット630によって基板の面取り量を正確に測定して、これを面取り加工用のホイール126側にフィードバックされて面取り量を補正することによって、今後面取り加工される基板の面取り加工を正確にするためである。
【0126】
ところが、前述したように、従来技術による面取り機の場合、面取り量の測定ユニット(図示せず)が、面取り加工ユニット20(図1参照)に設けられて面取り加工とともに面取り量を測定して来たために全体的なタクトタイムを増加させる問題点があった。すなわち、従来には、面取り加工ユニット20に設けられた面取り量の測定ユニットによって面取り量が測定されるために、面取り加工作業に対するタクトタイムが増加するだけではなく、面取り量の測定のために基板が停止される別途の時間が割り当てられねばならない問題点があった。
【0127】
したがって、本実施形態の面取り機は、このようなタクトタイムの増加問題を解消するために、面取り加工が完了した基板が外部にアンローディングされる基板アンローディングユニット240のローラーに沿って基板が移送される時、基板の面取り量を測定できるように基板アンローディングユニット130の上下部に面取り量の測定ユニット630が設けられている。以下では、このような面取り量の測定ユニット630の構成について詳しく説明する。
【0128】
図3及び図5、そして、図15ないし図19を参照する時、本実施形態の面取り量の測定ユニット630は、基板アンローディングユニット240の上部及び下部にそれぞれ配されて基板の短辺エッジ部分の面取り量を測定する測定部631と、基板アンローディングユニット240の長手方向の横方向に設けられて測定部631が移動可能に結合される測定支持フレーム633と、測定部631が搭載されて測定支持フレーム633の長手方向に沿って移動することによって、基板に対する測定部631の位置を調節させる移動フレーム635と、移動フレーム635上で測定部631を昇降させて測定部631が基板アンローディングユニット240に対して接近及び離隔可能にする昇降駆動部637とを備える。
【0129】
本実施形態において、測定部631は、基板の一側短辺のエッジ部分の面取り量を測定するために基板アンローディングユニット130の上部及び下部に一対設けられ、全体的に基板の両側短辺のエッジ部分の面取り量を測定するために二対が設けられる。
【0130】
測定部631は、昇降駆動部637によって移動フレーム635上で昇降することができて基板アンローディングユニット640のローラー242に沿って移送される基板の両側短辺のエッジ部分に接近するか離隔される。また、測定部631が結合された移動フレーム635は、測定支持フレーム633の長手方向に沿って摺動可能で基板のサイズによって左右方向への位置調節が可能であり、これにより、測定部631が相互異なるサイズを有する多数の基板に対する面取り量の測定を柔軟にさせる。
【0131】
ここで、昇降駆動部637は、測定部631が移動フレーム635の高さ方向に沿ってリニアモーション(linear motion)に移動できるようにリニアモータで設けられることができる。また、移動フレーム635も測定支持フレーム633に対してリニアモーションに移動できるように移動フレーム635を駆動させる別途の移動駆動部638が測定支持フレーム633上に装着されることもある。
【0132】
本実施形態の測定部631は、基板の面取り量を正確に測定するために面取り加工された基板の両側短辺のエッジ部分を連続的に撮影するラインスキャンカメラ631(line scan camera)が適用される。したがって、基板の面取り量及び面取り状態などを正確に測定できる長所がある。
【0133】
但し、本実施形態では、測定部631としてラインスキャンカメラ631が適用されるが、それ以外にもエリアカメラ(area camera)などが適用されて基板の面取り量及び面取り状態などを測定することもできる。エリアカメラは、ラインスキャンカメラとは異なって面取り加工された基板の両側短辺のエッジ部分のうち一部分を撮影して基板の面取り量を測定するカメラとしてラインスキャンカメラと同様に基板の面取り量及び面取り状態などを正確に測定できる。
【0134】
一方、本実施形態の平面ディスプレイ用の面取り機は、面取り量の測定ユニットの測定部631によって面取り加工された基板の面取り量を測定した後、該測定された値に基づいて面取り加工用のホイール225、227の面取り量を補正して、今後加工される基板の面取り量を再調整できるように、面取り加工用のホイール225、227を制御する制御部(図示せず)をさらに備える。
【0135】
言い換えれば、測定部631が、撮影によって面取り加工された基板の面取り量を測定したが、例えば、基板の面取り加工された部分が既定の基準よりさらに加工されたか不十分に加工された場合、制御部は、測定された面取り量の情報に基づいて面取り量を補正するために面取り加工用のホイール225、227の位置を再調整する。より詳しく説明すれば、例えば、基板の面取り加工された部分が既定の基準よりさらに加工された場合、制御部は、面取り加工用のホイール225、227の間隔を狭めて今後面取り加工される基板は不十分に面取り加工させ、例えば、基板の面取り加工された部分が既定の基準より不十分に加工された場合、制御部は、面取り量を補正するために面取り加工用のホイール225、227の間隔を広げて今後面取り加工される基板は測定部631によって面取り量の測定された基板に比べてさらに面取り加工させる。
【0136】
一方、本実施形態の面取り量の測定ユニット630は、基板の面取り量を測定するのに先立って、基板の面取り加工された部分に残存する異物を除去するための異物除去部640をさらに含む。このような異物除去部640によって基板の両側短辺のエッジ部分に残存する異物を除去することができて測定部631でより正確な面取り量を測定できる。
【0137】
本実施形態の異物除去部640は、図16ないし図19に図示されたように、移動フレーム635に結合され、面取り量が測定される基板の両側短辺のエッジ部分が通過可能に一側が開放されたトンネル部分641sに設けられ、基板ローディングユニット210の方向に向ける一面から内側方向に異物除去のための異物除去用の作業流体が移動する移動空間642s(図19参照)が陷沒形成されている異物除去胴体641と、異物除去胴体641に設けられ、移動空間642sを通過した異物除去用の作業流体を基板の長辺または短辺に向けて噴射させる噴射部材642と、噴射部材642が設けられた異物除去胴体641の一面に着脱可能に結合されて異物除去胴体641の内部を外部と遮蔽する遮蔽部材643とを備える。
【0138】
ここで、移動空間642sを移動した異物除去用の作業流体は、噴射部材642と遮蔽部材643との結合部分に形成される、すなわち、噴射部材642と遮蔽部材643とが離隔して結合されて設けられる噴射出口642hを通じて噴射される。噴射出口642hは、異物除去用の作業流体が、斜めに噴射されて基板の異物を効果的に除去できるように異物除去胴体641の上端と下端とを繋ぐ仮想の線に傾いて設けられる。
【0139】
異物除去胴体641は、移動フレーム635に固定結合されて測定支持フレーム633に対する移動フレーム635の摺動時のように移動することができる。したがって、基板のサイズによって基板の両側に置かれた異物除去胴体641の位置を調節することができ、これにより、基板が異物除去胴体641のトンネル部分641sを過ぎって測定部631の間を通過させうる。
【0140】
一対の噴射部材642は、トンネル部分641sが設けられた異物除去胴体641の一面に相互対向されるように設けられ、遮蔽部材643と隣接した一面は傾いて設けられている。したがって、基板の両側短辺のエッジ部分、すなわち、面取り加工された部分に向けて異物除去用のガスを噴射して基板の両側短辺のエッジ部分から異物を除去することができ、これにより、測定部631が基板から正確な面取り量を測定させうる。
【0141】
遮蔽部材643は、異物除去胴体641の内側に配される流体移動管(図示せず)を保護するために、異物除去胴体641の一面に着脱可能に結合される。このような遮蔽部材643は、異物除去胴体641の内側に設けられる構造を保護しながらも、結合及び分離が容易で異物除去胴体641の内側構造に対する維持補修を容易にできる長所がある。
【0142】
このような構成を有する面取り機を用いて基板に対して面取り加工を進行する一連の方法について図20及び図21を参照して説明する。
【0143】
まず、面取り加工対象の基板が、基板ローディングユニット210上のローラー212を通じて移送される。ローラー212の回転によって移送される基板は、進入感知センサー214の信号に基づいて回転軸211の動作が停止されることによって作業位置に停止される。引き続き、アライン部215が基板の両側面を加圧して基板をアラインさせれば、リフトピン213が基板をアップさせる。
【0144】
基板がアップされれば、トランスファー400aが、X軸駆動部461、Y軸駆動部462及びZ軸駆動部463によってX軸、Y軸及びZ軸に沿って動きながら、基本把持ユニット410と安全把持ユニット430とに基板を把持する。すなわち、基本把持ユニット410が動作して基板の両側面及び下面一部を支持し、引き続き回動支持部433の駆動によって安全把持ユニット430が動作して基板の前面及び下面一部を支持する。基本把持ユニット410と安全把持ユニット430とによって基板が把持されれば、X軸駆動部461、Y軸駆動部462及びZ軸駆動部463によってX軸、Y軸及びZ軸に沿って動きながら、トランスファー400aは把持された基板を第1ステージ300aの上面に配置させた後、基本把持ユニット410と安全把持ユニット430との動作を解除して基板を第1ステージ300aの上面にローディングさせる。第1ステージ300aの上面に上げられた基板は、第1ステージ300aを成すターンテーブル261及び可変テーブル263の表面に形成された真空ホールを通じて真空吸引力が提供されるにことによってターンテーブル261及び可変テーブル263の表面で吸着支持される。
【0145】
このように、基板が第1ステージ300aの上面で吸着支持されれば、第1ステージ300aはX軸方向に移動する。X軸方向に移動した基板は、図21の(a)のようにアラインカメラ223によってアラインマークが撮像されながら、アライン作業が進行する(S11)。アライン作業が進行するうちに第1面取り加工用のホイール225は、基板の両側短辺のエッジ加工のための作業位置にあらかじめ移動して待機する。この場合、第2面取り加工用のホイール227は、第2ステージ300b側で他の基板に対する面取り加工作業をしていると見て、図21の(a)では点線処理している。
【0146】
アライン作業が完了すれば、図21の(b)に図示されたように、第1ステージ300aは、基板を第1面取り加工用のホイール225側に前進させる。この際、第1面取り加工用のホイール225は、基板の両側短辺のエッジ加工のための作業位置にあらかじめ移動して待機している状態であるので、基板は止まらずに第1ステージ300aによって前進し続けて第1面取り加工用のホイール225を成す第1及び第3マルチホイール225a、225c、そして、第2及び第4マルチホイール225b、225dの間の領域を過ぎるようになり、これにより、基板の両側短辺のエッジに対する面取り加工が完了する(S12)。
【0147】
このように、第1面取り加工用のホイール225によって基板の両側短辺のエッジに対する面取り加工が進行する間に、第2面取り加工用のホイール227は、第1ステージ300aの移動経路上に移動するが、この場合、第2面取り加工用のホイール227は、基板の前面両側のコーナー加工のための作業位置にあらかじめ移動して待機する。
【0148】
したがって、第1面取り加工用のホイール225を過ぎって両側短辺のエッジ加工が完了した基板は、止まらずに第1ステージ300aによって前進し続けて図21の(c)のように作業位置にあらかじめ待機していた第2面取り加工用のホイール227の第3及び第4マルチホイール227c、227dに接触されることによって、その前面両側のコーナーに対して面取り加工が進行する(S13)。
【0149】
このように、基板の前面両側のコーナーに対して面取り加工が進行する間に、第1面取り加工用のホイール225は、基板の後面両側のコーナー加工のための作業位置にあらかじめ移動して待機する。
【0150】
前面両側のコーナーに対して面取り加工が完了した基板は、止まらずに第1ステージ300aによって反対に後進して、図21の(d)のように作業位置にあらかじめ待機していた第1面取り加工用のホイール225の第3及び第4マルチホイール225c、225dに接触されることによって、その後面両側のコーナーに対して面取り加工が進行する(S14)。
【0151】
次に、基板の両側長辺のエッジに対する面取り加工のために、図21の(e)のように第1ステージ300a上で基板が回転される(S15)。基板の回転は、第1ステージ300aを成すターンテーブル261によって遂行される。この場合、第1面取り加工用のホイール225は、第2ステージ300b側で他の基板に対する面取り加工作業をしていると見て、図21の(e)及び図21の(f)では点線処理している。
【0152】
このように、両側長辺のエッジに対する面取り加工のために基板が回転する間に、第2面取り加工用のホイール227は、基板の両側長辺のエッジ加工のための作業位置にあらかじめ移動して待機する。
【0153】
その後、回転が完了した基板は、その即時、第1ステージ300aによって前進して、図21の(f)のように第2面取り加工用のホイール227を成す第1及び第3マルチホイール227a、227c、そして、第2及び第4マルチホイール227b、227dの間の領域を過ぎるようになり、これにより、基板の両側長辺のエッジに対する面取り加工が完了する(S16)。
【0154】
面取り加工が完了した基板は、面取り加工ユニット220と基板アンローディングユニット240との間の領域に設けられているトランスファー400bの動作に起因して基板アンローディングユニット240上に移送されて取り出される。この際、トランスファー400bは、基本把持ユニット410と安全把持ユニット430とに基板を把持した状態で基板を移送させるために安全な移送が保障される。
【0155】
基板アンローディングユニット240に移送された面取り加工された基板は、基板アンローディングユニット240上のローラー242を通じて一方向に移送される。この際、基板は、面取り量の測定ユニット630を過ぎるようになる。言い換えれば、基板は、面取り量の測定ユニット630の異物除去部640を通過し、基板の面取り加工された部分、すなわち、基板の両側短辺のエッジ部分にある異物が除去され、引き続き基板アンローディングユニット240の上下部に配される測定部631によって基板の面取り量が測定される。以後、測定部631によって測定された値に基づいて制御部は面取り量を補正するために面取り加工用のホイール625の位置を選択的に再調節する。すなわち、既定の基準どおりに基板が面取り加工されて、それによる面取り量が測定された場合には、面取り加工用のホイール225、227の位置をそのまま維持させ、一方、既定の基準に比べてさらに多い面取り量が測定されるかさらに少ない面取り量が測定される場合に、制御部は測定された面取り量の値に基づいて面取り加工用のホイール225、227の間隔をさらに広げるか狭めるように再調節する。したがって、面取り加工用のホイール225、227によって面取り加工される基板は、このように測定された面取り量に基づいて面取り量が補正されながら面取り加工されることができる。すなわち、加工された基板の面取り量がフィードバック(feedback)されて既定の基準どおりに面取りされるように面取り加工用のホイール225、227の面取り量が補正される。
【0156】
一方、基板アンローディングユニット240に基板が移送されて基板を積載していない第1ステージ300aは、前述した工程を再遂行するために基板ローディングユニット210の方向に移動する。ところが、この際、面取り加工作業によって発生した異物が、第1ステージ300aの上面に残存することができるために基板が載置される第1ステージ300aの上面を洗浄しななければならない。
【0157】
したがって、本実施形態では、面取り加工ユニット220と基板アンローディングユニット240との間にステージ洗浄ユニット530が設けられて基板ローディングユニット210の方向に移動する第1ステージ300aの表面に洗浄のための洗浄流体を均一に噴射することができ、これにより、第1ステージ300aの表面に残存する異物を除去することができる。ここで、ステージ洗浄ユニット530の一対の単位洗浄部531aは、ユニットフレーム545に対して傾いて設けられて第1ステージ300a上に残存する異物を効果的に容易に除去することができる。また、このような洗浄作業が面取り加工工程中になされるために全体的な作業効率が向上する。
【0158】
一方、前記の説明で適用された基板よりそのサイズが大きい基板やあるいは小さな基板を前述した面取り機に適用するためには、基板を支持する第1及び第2ステージ300a、300bの上面全体面積が調節される必要がある。すなわち、大きい基板に対する面取り加工のためには、第1及び第2ステージ300a、300bの上面全体面積が大きくならなければならず、小さな基板に対する面取り加工のためには、第1及び第2ステージ300a、300bの上面全体面積が小くならなければならない。これについて図6及び図7を参照して説明すれば、駆動モータ333によってボールスクリュー軸332が正転されれば、一対の連結ブロック331a、331bは、図6のように相互離隔されながら、可変テーブル320を開けて大きい基板が吸着可能にすることもでき、反対に駆動モータ333によってボールスクリュー軸332が逆転されれば、一対の連結ブロック331a、331bは、図7のように相互接近されながら、可変テーブル320を狭めて小さな基板が吸着可能にすることもできる。
【0159】
このように、基板の両側短辺のエッジ加工、基板の前面コーナー加工、基板の後面コーナー加工、そして、基板の両側長辺の加工作業のうちある一作業が進行する前に、X軸に沿って相互離隔されるように第1及び第2面取り加工用のホイール225、227があらかじめ作業位置に移動して待機しているために、従来のように不可避に基板が止まって待機する時間を減らしうる。すなわち、本実施形態によれば、基板を支持した第1及び第2ステージ300a、300bは、従来のように一定時間止める必要なしにインライン(In−Line)化された作業ラインに沿って連続して移動しながら、基板に対する面取り加工作業を進行させることができるために、従来よりタクトタイムをさらに減少させて生産性を向上させうる。
【0160】
図22は、本発明の他の実施形態による平面ディスプレイ用の面取り加工方法のフローチャートである。
【0161】
面取り加工方法は、前述した実施形態と異なって、図22の順序によることもできる。すなわち、アライン作業が進行すれば(S21)、まず第1面取り加工用のホイール225によって基板の前面両側のコーナーに対する面取り加工が進行し(S22)、引き続き第2面取り加工用のホイール227によって基板の両側短辺に対する面取り加工(S23)、そして、第1面取り加工用のホイール225によって基板の後面両側のコーナーに対する面取り加工が進行し(S24)、基板が回転されれば(S25)、最終的に基板の両側長辺に対する面取り加工が進行する(S26)順序によることもできる。
【0162】
前述した実施形態では、基板の短辺を先に加工して長辺を加工すると説明したが、長辺を先に加工した後、基板を回転させて短辺を加工する形態になっても良い。
【0163】
前述した実施形態では、第1及び第2面取り加工用のホイールが、基板ローディングユニットと基板アンローディングユニットとを連結する仮想の作業ラインに沿って相互離隔配されているが、第1及び第2面取り加工用のホイールは、基板ローディングユニットと基板アンローディングユニットとを連結する仮想の作業ラインとの交差方向に相互離隔配されることもできる。
【0164】
このように、本発明は、前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の思想及び範囲を外れずに多様に修正及び変形できるということは、当業者に自明なものである。したがって、そのような修正例または変形例は、本発明の特許請求の範囲に属すると言わなければならない。
【産業上の利用可能性】
【0165】
本発明は、平面ディスプレイ用の面取り機及びその面取り加工方法に関連の技術分野に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【0166】
【図1】従来の面取り機に対する概略的な構成図である。
【図2】面取り加工される部分を説明するための基板の斜視図である。
【図3】本発明の一実施形態による平面ディスプレイ用の面取り機に対する概略的な平面図である。
【図4】それぞれ図3の部分拡大斜視図である。
【図5】それぞれ図3の部分拡大斜視図である。
【図6】ステージの拡大斜視図である。
【図7】図6のステージに対する動作を図示した斜視図である。
【図8】(a)は、ターンテーブルの表面に形成された第1真空ホールに対する構成図であり、(b)は、可変テーブルの表面に形成された第2真空ホールに対する構成図である。
【図9】ステージの概略的な側面図である。
【図10】トランスファーの拡大斜視図である。
【図11】図10のトランスファーに対する動作を部分的に図示した斜視図である。
【図12】ステージの上部に設けられたステージ洗浄ユニットの装着状態を図示した斜視図である。
【図13】図12に図示された単位洗浄部の斜視図である。
【図14】図13のA−A線による断面図である。
【図15】基板アンローディングユニットの後尾に配される面取り量の測定ユニットの構成を図示した斜視図である。
【図16】図15に図示された“B”部分を拡大した拡大斜視図である。
【図17】図16に図示された異物除去部を説明するための斜視図である。
【図18】図17の分解斜視図である。
【図19】図17のC−C線による断面図である。
【図20】本発明の一実施形態による平面ディスプレイ用の面取り加工方法のフローチャートである。
【図21】(a)ないし(f)は、平面ディスプレイ用の面取り加工方法を段階的に図示した構成図である。
【図22】本発明の他の実施形態による平面ディスプレイ用の面取り加工方法のフローチャートである。
【技術分野】
【0001】
本発明は、平面ディスプレイ用の面取り機及びその面取り加工方法に係り、より詳細には、面取り加工作業時にかかるタクトタイム(tact time)を従来よりさらに減少させることができて生産性を向上させうる平面ディスプレイ用の面取り機及びその面取り加工方法に関する。
【背景技術】
【0002】
最近、半導体産業のうち電子ディスプレイ産業が急速度に発展しながら平面ディスプレイ(Flat Panel Display、FPD)が登場し始めた。
【0003】
平面ディスプレイ(FPD)は、従前にTVやコンピュータモニターなどにディスプレイ(Display)として主に使われた陰極線管(CRT、Cathode Ray Tube)より薄くて軽い映像表示装置であって、液晶表示装置(LCD、Liquid Crystal Display)、プラズマディスプレイ基板(PDP、Plasma Display Panel)、有機EL(OLED、Organic Light Emitting Diodes)などがある。
【0004】
以下、LCD、PDP及びOLEDなどを含む平面ディスプレイ(FPD)を基板と言って説明する。
【0005】
基板は普通、長方形であり、ガラス材質からなる。したがって、基板の4コーナー(エッジ)に対するコーナー加工(Corner Cut)、そして、基板の短辺及び長辺のエッジに対する短辺エッジ加工(Edge Cut)及び長辺エッジ加工、すなわち、基板のコーナー及び辺に対する面取り式の面取り加工をして始めてガラス自体の鋭さが除去されて、工程間の移送及び操作が容易になり、安全事故を未然に予防することができるが、このような面取り加工のために面取り機が使われる。
【0006】
従来の面取り機のうちには、一つの面取り加工用のホイール(wheel)を通じて基板に対する4コーナー、 短辺エッジ及び長辺エッジをいずれも加工した例がある。しかし、このように一つの面取り加工用のホイールを用いて4コーナー、短辺エッジ及び長辺エッジをいずれも加工する場合には、連続作業が不可能なためにタクトタイムが多くかかる問題点があった。
【0007】
これにより、このような問題点を考慮して、基板に対する4コーナー、短辺エッジ及び長辺エッジを連続的に加工することができる面取り機が開示された。
【0008】
図1は、従来の面取り機に対する概略的な構成図である。
【0009】
この図面に図示されたように、従来の面取り機は、基板に対する面取り加工が進行する面取り加工ユニット20を挟んで両側に配される基板ローディングユニット10と、基板アンローディングユニット30とを備える。
【0010】
面取り加工ユニット20は、基板が載置されるが、基板ローディングユニット10と基板アンローディングユニット30とを連結する仮想の作業ラインに沿って直列に配される第1ステージ21及び第2ステージ22と、第1ステージ21及び第2ステージ22に載置された基板に対するアラインのための第1アラインカメラ25a及び第2アラインカメラ25bと、第1面取り加工用のホイール26a及び第2面取り加工用のホイール26bとを備える。
【0011】
第1アラインカメラ25aと第1面取り加工用のホイール26aは、基板が進行する方向に沿って基板の前面両側のコーナー加工、短辺エッジ加工、そして、後面両側のコーナー加工を担当し、第2アラインカメラ25bと第2面取り加工用のホイール26bは、基板の長辺エッジ加工を担当する。
【0012】
このような構成によって、面取り加工対象の基板が基板ローディングユニット10から第1ステージ21に載置されれば、まず第1アラインカメラ25aによって撮影された映像情報に基づいて第1ステージ21によって基板が定位置にアラインされる。以後、第1ステージ21が、第1面取り加工用のホイール26aに向けて移動するか、それとも第1ステージ21に対して第1面取り加工用のホイール26aが移動する動作に基づいて、基板の進行方向に対して基板の前面両側のコーナー、短辺エッジ、そして、後面両側のコーナーがそれぞれ順次に加工される。
【0013】
その後、別途のピックアップロボット(図示せず)が、第1ステージ21上の基板をピックアップして実質的に90°回転させた後、第2ステージ22上に移す。以後、再び第2ステージ22上で基板の定位置アライン作業が進行した後、第2面取り加工用のホイール26bによって基板の長辺エッジが加工され、最終的に面取り加工が完了した基板は、基板アンローディングユニット40に取り出される。
【0014】
このような従来の面取り機は、第2ステージ22上で基板の長辺エッジを加工する時に、第1ステージ21では基板の前面両側のコーナー、短辺エッジ、そして、後面両側のコーナーを加工することができるために、一つの面取り加工用のホイール(図示せず)を備えた面取り機(図示せず)に比べてはタクトタイムを減少させうる。言い換えれば、面取り加工ユニット20上で第1ステージ21及び第2ステージ22が直列配されるように具現することによって、面取り加工作業をインライン化することができてタクトタイムを減少させうる。
【0015】
ところが、このような従来の面取り機においては、第1ステージ21から第2ステージ22に基板を移送させる場合、必ずピックアップロボットを使わなければならないために第2ステージ22上で基板に対するアライン作業を再び進行しなければならず、このようなピックアップロボットによる移送時間及び第2ステージ22上で基板に対するアライン作業所要時間によって、タクトタイムの減少に多少非効率的であるという問題点がある。
【0016】
また、このような従来の面取り機においては、第1ステージ21及び第2ステージ22、そして、第1面取り加工用のホイール26a及び第2面取り加工用のホイール26bが相互間の直列配置構造を有しているために、何れか一つに故障が発生すれば、全体装備が稼動されることができない問題点があって生産性を低下させる要因となっている。
【0017】
これにより、本出願人は、まだ公開されていないが、基板ローディングユニットと基板アンローディングユニットとを連結する仮想の作業ラインとの交差方向に相互離隔されるように複数のステージを配置することによって、基板に対する面取り加工時、従来に比べてタクトタイムを減らすことができ、かつ複数のステージ(図示せず)及び複数の面取り加工用のホイール(図示せず)のうち何れか一つに故障が発生する場合、全体装備が稼動されることができない従来の面取り機の問題点を改善して生産性を向上させうる平面ディスプレイ用の面取り機を大韓民国特許庁に出願した。
【0018】
ところが、この前出願された技術の場合には、図1に図示された従来技術に比べてそのタクトタイムを著しく減らすことはできるが、基板の4角に対するコーナー加工、短辺エッジ加工及び長辺エッジ加工のために面取り加工用のホイールが動作する過程で不可避に基板が待機しなければならない時間が存在する。
【0019】
すなわち、基板に対する面取り加工は、基板の前面両側のコーナー加工、基板の短辺エッジ加工、基板の後面両側のコーナー加工、基板回転後に基板の長辺エッジ加工の順序で進行するが、コーナー加工からエッジ加工に転換される時またはその逆に転換される時、面取り加工用のホイールが整列されなければならない時間の間に基板が待機しなければならない時間が存在することによって、そのような待機時間を減らすことでタクトタイムをさらに減らす必要がある実情である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0020】
本発明の目的は、面取り加工作業時にかかるタクトタイムを従来よりさらに減少させることができて生産性を向上させうる平面ディスプレイ用の面取り機及びその面取り加工方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0021】
前記目的は、本発明によって、基板ローディングユニット(loading unit)と基板アンローディングユニット(unloading unit)との間に設けられて、前記基板のコーナー及び辺に対する面取り加工を進行する面取り加工ユニットを含み、前記面取り加工ユニットは、上面に基板が載置支持される少なくとも一つのステージと、前記基板の第1辺エッジに対する面取り加工を進行する第1面取り加工用のホイールと、前記第1面取り加工用のホイールに対して相互離隔配されて前記基板の第1面両側コーナーに対する面取り加工を進行する第2面取り加工用のホイールとを備えたグラインダーと、を含むことを特徴とする平面ディスプレイ用の面取り機によって達成される。
【0022】
一方、前記目的は、本発明によって、第1面取り加工用のホイールによって基板の第1辺エッジが面取り加工される段階と、前記第1面取り加工用のホイールに対して相互離隔配された第2面取り加工用のホイールによって前記基板の第1面両側コーナーが面取り加工される段階と、を含むことを特徴とする平面ディスプレイ用の面取り加工方法によっても達成される。
【発明の効果】
【0023】
本発明によれば、面取り加工作業時にかかるタクトタイムを従来よりさらに減少させることができて生産性を向上させうる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0024】
本発明と本発明の動作上の利点及び本発明の実施によって達成される目的を十分に理解するためには、本発明の望ましい実施形態を例示する添付図面及び添付図面に記載の内容を参照しなければならない。
【0025】
以下、添付図面を参照して、本発明の望ましい実施形態を説明することによって、本発明を詳しく説明する。各図面に付された同じ参照符号は、同じ部材を表わす。
【0026】
図2は、面取り加工される部分を説明するための基板の斜視図である。
【0027】
図面の説明に先立って、以下で説明される基板とは、TFT−LCD(Thin Film Transistor−Liquid Crystal Display)基板を意味するが、本発明の権利範囲が、これに限定されるものではないので、プラズマディスプレイ基板(PDP、Plasma Display Panel)、有機EL(OLED、Organic Light Emitting Diodes)、太陽電池(SOLAR CELL)などの平面ディスプレイ(Flat Panel Display、FPD)にも適用可能である。但し、以下では、説明の便宜上、TFT−LCD基板をその例として説明する。
【0028】
参考までに、TFT−LCD基板は、液晶を挟んで上板と下板とが合着された状態の二重に製作され、下板の上面には上板が重畳されていない区間が存在するのが普通である。しかし、図2では、図示及び説明の便宜上、TFT−LCD基板をおおよそ四角板形態に概略的に図示している。
【0029】
この図面を参照する時、本実施形態の面取り機を通じて基板は、4コーナー、すなわち、前面両側のコーナー(拡大A参照)及び後面両側のコーナー(拡大B参照)、そして、両側短辺のエッジ(拡大C参照)及び両側長辺のエッジ(拡大D参照)が面取り加工される。
【0030】
詳しくは後述するが、本実施形態において、面取り加工方法は、基板の短辺エッジ加工、基板の前面両側のコーナー加工、基板の後面両側のコーナー加工、そして、基板の長辺エッジ加工の順序による。しかし、本発明の権利範囲が、これに限定されるものではないので、タクトタイムを減少させることができれば面取り加工の順序は、当該製造社の工程状況に合うように十分に変更可能である。
【0031】
図3は、本発明の一実施形態による平面ディスプレイ用の面取り機に対する概略的な平面図であり、図4及び図5は、それぞれ図3の部分拡大斜視図であり、図6は、ステージの拡大斜視図であり、図7は、図6のステージに対する動作を図示した斜視図であり、図8の(a)は、ターンテーブルの表面に形成された第1真空ホールに対する構成図であり、図8の(b)は、可変テーブルの表面に形成された第2真空ホールに対する構成図であり、図9は、ステージの概略的な側面図であり、図10は、トランスファーの拡大斜視図であり、図11は、図10のトランスファーに対する動作を部分的に図示した斜視図であり、図12は、ステージの上部に設けられたステージ洗浄ユニットの装着状態を図示した斜視図であり、図13は、図12に図示された単位洗浄部の斜視図であり、図14は、図13のA−A線による断面図であり、図15は、基板アンローディングユニットの後尾に配される面取り量の測定ユニットの構成を図示した斜視図であり、図16は、図15に図示された“B”部分を拡大した拡大斜視図であり、図17は、図16に図示された異物除去部を説明するための斜視図であり、図18は、図17の分解斜視図であり、図19は、図17のC−C線による断面図であり、図20は、本発明の一実施形態による平面ディスプレイ用の面取り加工方法のフローチャートであり、図21の(a)ないし図21の(f)は、平面ディスプレイ用の面取り加工方法を段階的に図示した構成図である。
【0032】
これら図面を参照するが、主に図3ないし図5を参照すれば、本発明の一実施形態による平面ディスプレイ用の面取り機は、面取り加工対象の基板がローディングされる基板ローディングユニット210と、基板に対する面取り加工が進行する面取り加工ユニット220と、面取り加工が完了した基板がアンローディングされる基板アンローディングユニット240とを備える。
【0033】
基板ローディングユニット210と基板アンローディングユニット240のすべては、基板を移送させる役割を果たすので、図示されたように、ローラータイプ(roller type)に適用可能である。すなわち、基板ローディングユニット210と基板アンローディングユニット240は、多数の回転軸211、241のそれぞれに基板を回転可能に支持する多数のローラー212、242が結合された構造を有しうる。
【0034】
しかし、本発明の権利範囲が、これに限定されるものではないので、基板ローディングユニット210と基板アンローディングユニット240は、通常のコンベヤータイプ(conveyor type)やステージタイプ(stage type)に代替されても良い。このように、基板ローディングユニット210と基板アンローディングユニット240とがコンベヤータイプやステージタイプに適用される場合には、基板をアップ(up)させるための空気浮上モジュール(図示せず)がともに適用されることが有利である。
【0035】
多数のローラー212、242は、基板にスクラッチが発生しないように柔軟な材質で製作されることが望ましい。そして、多数の回転軸211、241は、その回転速度の制御が容易になるように単一のモータによって一括的にともに回転することができるが、必ずしもそういうことではないので、個別モータによって多数の回転軸211、241のそれぞれが個別的に回転させることもできる。
【0036】
基板ローディングユニット210には、進入される基板に対してアライン作業を進行するアライン部215が設けられている。アライン部215は、相互接近及び離隔される動作によって基板の両側面を加圧することで基板を正しく整列させる役割を果たす。
【0037】
このような基板ローディングユニット210には、基板アンローディングユニット240とは異なって基板が進入される方向に沿って多数の進入感知センサー214がさらに設けられている。多数の進入感知センサー214は、基板の進入位置に基づいて回転軸211の速度を減らすか、停止させるための感知信号を発生させる。
【0038】
基板アンローディングユニット240には、面取り量の測定ユニット250がさらに設けられている。面取り量の測定ユニット250は、面取り加工ユニット220を通じて面取り加工が完了した基板に対する面取り量を測定する役割を果たすが、これについては後述する。
【0039】
面取り量の測定ユニット250によって面取り量が測定された基板に対して、もし、誤って面取りされた場合であるか、面取り量が基準値未満である場合であれば、当該基板は破棄されるか、あるいは面取り加工用のホイール225、227側にフィードバックされて面取り量が補正されて加工が進行しうる。本実施形態では、面取り量の測定ユニット250が基板アンローディングユニット240に設けられているが、場合によって、面取り量の測定ユニット250は、面取り加工ユニット220に設けられることもできる。
【0040】
基板ローディングユニット210と基板アンローディングユニット240には、多数のローラー212、242に対して基板を所定高さほどアップさせる多数のリフトピン213、243が多数のローラー212、242の間にさらに設けられている。
【0041】
このようなリフトピン213、243は、基板ローディングユニット210と面取り加工ユニット220との間の領域、そして、面取り加工ユニット220と基板アンローディングユニット240との間の領域に設けられて、当該位置で基板を移送させるトランスファー400a、400bの動作に連動して動作する。すなわち、リフトピン213、243は、トランスファー400a、400bが、基板ローディングユニット210から面取り加工ユニット220に、あるいは面取り加工ユニット220から基板アンローディングユニット240に基板を移送させる時、アップされる動作を見せる。
【0042】
面取り加工ユニット220の説明に先立って、トランスファー400a、400bについて図10及び図11を参照して先に説明する。
【0043】
トランスファー400a、400bは、基板ローディングユニット210と面取り加工ユニット220との間の領域、そして、面取り加工ユニット220と基板アンローディングユニット240との間の領域に設けられて基板ローディングユニット210上の加工前基板を第1及び第2ステージ300a、300bに、第1及び第2ステージ300a、300b上の加工完了基板を基板アンローディングユニット240に移送させる役割を果たす。
【0044】
本実施形態において、基板ローディングユニット210と面取り加工ユニット220 との間の領域、そして、面取り加工ユニット220と基板アンローディングユニット240との間の領域に設けられているトランスファー400a、400bの構造及び動作はすべて同一である。これにより、図示及び説明の便宜上、トランスファー400a、400bの部構細成に対しては同じ参照符号を付与する。
【0045】
主に図10及び図11を参照する時、トランスファー400a、400bは、基板の両側面で基板を把持する多数の基本把持ユニット410と、多数の基本把持ユニット410とは異なる位置に設けられて基板の移送または停止途中、基板が基本把持ユニット410から離脱して落下することを防止する安全把持ユニット430とを備える。
【0046】
基本把持ユニット410と安全把持ユニット430は、ヘッド部440に結合されている。したがって、後述するX軸駆動部461、Y軸駆動部462及びZ軸駆動部463によってヘッド部440が所望の位置に移動すれば、これとともに基本把持ユニット410と安全把持ユニット430も当該位置に移動させうる。
【0047】
本実施形態において、多数の基本把持ユニット410は、ヘッド部440の両側面(短辺)領域に2個ずつ4個設けられ、安全把持ユニット430は、面取り加工ユニット220あるいは基板アンローディングユニット240に向けたヘッド部440の前面(長辺)領域に1個設けられる。
【0048】
しかし、本発明の権利範囲が、これに限定される必要はないので、ヘッド部440の両側面領域に1個ずつの基本把持ユニット410が設けられるか、あるいはヘッド部440の両側面領域に3個ずつ、あるいはそれ以上個数ずつの基本把持ユニット410が設けられても良い。そして、安全把持ユニット430の場合に、ヘッド部440の前面(長辺)領域にも2個以上設けられることができ、ヘッド部440の前面(長辺)領域と後面(長辺)領域とにすべて設けられることもできる。安全把持ユニット430の個数が多くなれば、大きい基板の垂れを防止できる効果があるので、効率的な構造に適切に選択されることができる。
【0049】
4個の基本把持ユニット410について説明すれば、4個の基本把持ユニット410は、本実施形態でヘッド部440の短辺領域に2個ずつ設けられる。この際、2個ずつの基本把持ユニット410は、一対の連結部411a、411bによってそれぞれ連結されている。
【0050】
一対の連結部411a、411bは、ヘッド部440の側面に形成されて一対の連結部411a、411bの移動を案内する一対の案内部412a、412bに移動可能に収容結合されている。本実施形態の場合、案内部412a、412bは一対になっているが、案内部412a、412bは図面のように分離されないで一体型に貫通された構造を有することもある。
【0051】
トランスファー400a、400bには、所定の制御信号によって一対の連結部411a、411bが一対の案内部412a、412bによって案内されながら、相互接近及び離隔されるように一対の連結部412a、412bを駆動させる駆動部413がさらに備えられる。駆動部413に対しては詳しく図示していないが、駆動部413は、モータと、モータによって正・逆転するが、一対の連結部411a、411bに相異なる方向のネジ山を有して連結されるボールスクリュー軸として具現可能である。
【0052】
これにより、駆動部413のモータに電源が印加されてボールスクリュー軸が正転すれば、例えば、図11の点線のように2個ずつの基本把持ユニット410は、一対の連結部411a、411bによって相互接近されることができ、反対にボールスクリュー軸が逆転すれば、2個ずつの基本把持ユニット410は一対の連結部411a、411bによって相互離隔されることができる。このように、4個の基本把持ユニット410が、相互接近及び離隔されることによって多様なサイズの基板に共に適用できる利点がある。
【0053】
1個の安全把持ユニット430の構造について説明すれば、安全把持ユニット430の装着のために固定ロッド431と、回動支持部433とが備えられる。
【0054】
固定ロッド431は、ヘッド部440に固定されるように設けられる、いわゆるブラケットのような構成であって、固定ロッド431は、垂直ロード431aと、垂直ロード431aの端部で垂直ロード431aに横に形成される水平ロード431bとを備える。
【0055】
回動支持部433は、水平ロード431bの端部で安全把持ユニット430を支持するが、回動支持部433は、水平ロード431bに対して安全把持ユニット430を回動可能に支持する。回動支持部433の回動動作は、前述した制御信号によって基本把持ユニット410が動作する時に連動して動作する。すなわち、図11の点線のように、基本把持ユニット410が動作して実質的に基板の両側面及び下面一部を支持する場合、回動支持部433の回動動作に基づいて安全把持ユニット430をして基板の前面及び下面一部を支持して基板の移送または停止途中、基板が落下する現象を防止する。
【0056】
このように、実質的に基板を単純に把持するか、あるいは安定的に把持するために設けられる基本把持ユニット410と安全把持ユニット430は、すべてが当該位置で基板の側面に接触された状態で基板の下面を部分的に支えて支持できるように‘L’状に製作される。しかし、この形状に本発明の権利範囲が限定されない。
【0057】
そして、基本把持ユニット410と安全把持ユニット430は、すべて基板に接触されながら基板を把持するために、基板に接触される過程で基板にスクラッチ(scratch)を発生させる恐れがある。
【0058】
これにより、本実施形態では、基板にスクラッチの発生が防止されるように基本把持ユニット410と安全把持ユニット430のすべてをMD−PA材質で製作している。しかし、MD−PA材質ではないとしても基板に損傷を与えない材質でありながら、一定の剛性を保有することができれば基本把持ユニット410と安全把持ユニット430とが異なる材質で製作されても良い。
【0059】
一方、前にも記述したように、多様なサイズの基板をいずれも把持できるように、特に、基本把持ユニット410は、相互接近及び離隔可能に設けられるが、それ以外にもトランスファー400a、400bのその自体は、基板ローディングユニット210上の基板を第1及び第2ステージ300a、300bに、第1及び第2ステージ300a、300b上の基板を基板アンローディングユニット240に移送させるためにX軸、Y軸及びZ軸に移動可能に設けられる。
【0060】
このために、本実施形態のトランスファー400a、400bは、基板ローディングユニット210と基板アンローディングユニット240とを繋ぐ仮想のX軸に沿って基本把持ユニット410と安全把持ユニット430とが結合されたヘッド部440を駆動させるX軸駆動部461と、X軸に交差されるY軸に沿ってヘッド部440を駆動させるY軸駆動部462と、ヘッド部440を上下方向であるZ軸に沿って駆動させるZ軸駆動部463とをさらに備える。
【0061】
X軸駆動部461、Y軸駆動部462及びZ軸駆動部463は、線形移動制御が容易なリニアモータによって具現可能であるが、場合によって、シリンダーやモータ、ボールスクリュー組合わせなどの構造によって具現されることもある。
【0062】
一方、面取り加工ユニット220は、実質的に基板ローディングユニット10から提供された基板の4コーナー、基板の短辺エッジ及び基板の長辺エッジに対する面取り加工を進行する部分である(図2参照)。
【0063】
前にも記述したように、本実施形態の場合には、基板の両側短辺のエッジ加工、基板の前面両側のコーナー加工、基板の後面両側のコーナー加工、そして、基板の両側長辺のエッジ加工の順序で面取り加工が進行するので、これの順序に基づいて説明する。
【0064】
前にも記述したように、面取り加工方法のうちには、コーナー加工からエッジ加工に転換されるか、またはその逆に転換される状況が存在するが、この場合に、従来のように面取り加工用のホイール(図示せず)が整列されなければならないなどの理由で基板が面取り加工を連続的に進行することができずにしばらくの間に待機しなければならないとすれば、それほどタクトタイムが増加するしかない。これにより、本実施形態では、たとえ短い時間であるとしても面取り加工が連続的に進行することができずに基板が待機しなければならない時間的なロス(loss)発生を根本的に遮断することによって、従来よりタクトタイムをさらに減らして生産性を向上させるようにしている。
【0065】
このために、本実施形態の面取り加工ユニット220は、上面に基板が載置支持される2個の第1及び第2ステージ300a、300bと、X軸に沿って相互離隔して配される第1及び第2面取り加工用のホイール225、227を備えたグラインダー221とを含む。
【0066】
面取り加工ユニット220の一構成であるステージ300a、300bについて主に図6ないし図9を参照して説明する。本実施形態において、ステージ300a、300bは、図3及び図4に図示されたように、Y軸に沿って2個の第1及び第2ステージ300a、300bに設けられる。第1及び第2ステージ300a、300bは、グラインダー221の残りの構成とともに面取り加工作業をそれぞれ並列的に進行するために、それほどタクトタイムが減少して生産性が向上する。
【0067】
しかし、本発明の権利範囲が、これに限定されるものではないので、一つのステージのみが備えられることもでき、あるいは3個以上のステージが備えられることもある。但し、3個以上のステージが備えられる場合、これらがY軸に沿って並列配置構造を有するならば、それで十分である。
【0068】
前述したトランスファー400a、400bと同様に、第1及び第2ステージ300a、300bもその位置のみが相異なっているだけで構造及び動作はすべて同一である。これにより、図示及び説明の便宜上、第1及び第2ステージ300a、300bの細部構成に対しては同じ参照符号を付与する。
【0069】
第1及び第2ステージ300a、300bについて説明すれば、本実施形態の第1及び第2ステージ300a、300bは、多様なサイズの基板に混用して適用可能である構造を有している。
【0070】
すなわち、従来の面取り機に開示されたステージ(図示せず)は、上面に載置された基板を真空で吸着する単純なブロック状の構造であり、その上面の面積が一定に定められた大きさを有するために、一種の基板のみを吸着して支持するしかなかった。したがって、このような従来のステージの適用された面取り機は、多様なサイズの基板に混用して適用することができなくて、先に面取り加工した基板とそのサイズが異なる基板とを面取り加工するためにはステージ(図示せず)を取り替えなければならず、このような取り替え時間によって、タクトタイムが増加して生産性が低下する短所があった。しかし、本実施形態の第1及び第2ステージ300a、300bは、必要によって、その上面の全体面積が調節されることができるために、多様なサイズの基板に混用して適用可能である構造を有する。
【0071】
このために、本実施形態の面取り機に適用される第1及び第2ステージ300a、300bのそれぞれは、基板を吸着して回転させるターンテーブル310と、ターンテーブル310の外郭に配されてターンテーブル310とともに基板を吸着して支持し、多様なサイズの基板のすべてに対応できるようにターンテーブル310に対して接近及び離隔可能な多数の可変テーブル320とを備える。
【0072】
図6及び図7に図示されたように、ターンテーブル310は、第1及び第2ステージ300a、300bの中央領域に1個設けられ、可変テーブル320は、ターンテーブル310の外郭で相互対称に4個設けられる。4個の可変テーブル320は、2個ずつ対を成してターンテーブル310に対して接近及び離隔される。
【0073】
4個の可変テーブル320が、2個ずつ対を成した状態でターンテーブル310に対して接近及び離隔されるようにテーブル駆動部330がさらに設けられる。
【0074】
図7を参照すれば、テーブル駆動部330は、2個ずつ対を成した可変テーブル320をそれぞれ連結する一対の連結ブロック331a、331bと、一対の連結ブロック331a、331bにそれぞれ回転可能に結合されて正・逆転時、一対の連結ブロック331a、331bを相互接近及び離隔させるボールスクリュー軸332と、ボールスクリュー軸332を正・逆転させる駆動モータ333とを含む。
【0075】
一対の連結ブロック331a、331bは、それぞれ四角のブロック構造を有するが、その上面には一つずつの可変テーブル320を支持するブロック支持部334がさらに設けられる。ブロック支持部334は、一対の連結ブロック331a、331bの一つ当り2個ずつ設けられて2個の可変テーブル320を支持する。本実施形態では、図示及び説明の便宜上、ブロック支持部334に対してはすべて同じ参照符号を付与している。
【0076】
ボールスクリュー軸332は、外面にネジ山が形成されたものであって、一対の連結ブロック331a、331bを連結しているが、一対の連結ブロック331a、331bが連結されるボールスクリュー軸332の当該領域のネジ山は相互反対方向に加工される。
【0077】
このように、ボールスクリュー軸332の外面に形成されたネジ山が相互反対方向に加工されており、反対方向に加工されたネジ山に一対の連結ブロック331a、331bがそれぞれ螺合されることによって、例えば、ボールスクリュー軸332が正転されれば、一対の連結ブロック331a、331bは、図6のように相互離隔されながら、可変テーブル320を開けて大きい基板が吸着可能にすることもでき、反対にボールスクリュー軸332が逆転されれば、一対の連結ブロック331a、331bは、図7のように相互接近されながら、可変テーブル320を狭めて小さな基板が吸着可能にすることもできる。
【0078】
駆動モータ333は、ボールスクリュー軸332を正・逆転させるための動力を発生させる部分である。本実施形態では、単一、すなわち、1個の駆動モータ333としてボールスクリュー軸332を正・逆転させている。このように、単一の駆動モータ333のみでも可変テーブル320を駆動させることができるために、それほど構成が簡素化されて設置及び維持補修が簡便になり、また、それほどコストを減らしうる利点がある。
【0079】
ターンテーブル310は、その上面がおおよそ円状を有し、4個の可変テーブル320は、一部分が切開されたおおよそ長方状を有する。しかし、本発明の権利範囲が、これに限定されるものではないので、ターンテーブル310及び可変テーブル320の形状は、適切に変更されることもある。
【0080】
例えば、少なくともターンテーブル310の上面は、楕円状を含めて多角状になっても良い。また、可変テーブル320は、必ずしも4個が備えられる必要はないので、可変テーブル320はターンテーブル310の外郭で相互対称に2個設けられることもできる。このような場合でも、テーブル駆動部330の構成及びそれによる動作は同様に具現可能である。
【0081】
前述したように、面取り加工対象の基板サイズが大きい場合には、ターンテーブル310と可変テーブル320との全体吸着面積が広くなるように、図6のようにターンテーブル310に対して4個の可変テーブル320が離隔されなければならず、面取り加工対象の基板サイズが小さければ、図7のようにターンテーブル310に対して4個の可変テーブル320が接近されなければならない。この際、図7のように4個の可変テーブル320がターンテーブル310に対して接近される時、4個の可変テーブル320の側面がターンテーブル310に衝突されればならないために、可変テーブル320の側面には切開部321が形成されている。本実施形態において、切開部321は、ターンテーブル310の外面に対応するアーク(arc)状を有することができるが、必ずしもそういうことではない。
【0082】
ターンテーブル310と可変テーブル320との表面には、図8に図示されたように、基板を吸着して支持するために多数の第1及び第2真空ホール315、325がそれぞれ形成されている。第1及び第2真空ホール315、325は、それぞれターンテーブル310と可変テーブル320との厚さを貫通する形態に設けられる。
【0083】
このような第1及び第2真空ホール315、325のみでも、基板を吸着して支持するには事実上十分である。しかし、本実施形態の場合、ターンテーブル310と可変テーブル320との表面には、ターンテーブル310と可変テーブル320との表面から下方に一定深さほど陷沒された状態で一定の形状のラインを成して基板に対する真空吸着面積を倍加させる第1及び第2真空吸着ライン溝315a、325aがさらに形成されている。すなわち、第1及び第2真空ホール315、325に真空吸引力が発生すれば、真空吸引力は第1及び第2真空吸着ライン溝315a、325aを通じてさらに広くなった領域で作用しながら、基板を吸着させることができるために基板に対する真空吸着面積が高くなることができる。本実施形態において、第1及び第2真空吸着ライン溝315a、325aは、第1及び第2真空ホール315、325の一つ当り一つずつ設けられているが、必ずしもそういうことではない。
【0084】
本実施形態において、ターンテーブル310に形成された第1真空吸着ライン溝315aは、図8の(a)に図示されたように、ピザ(pizza)状に、可変テーブル320に形成された第2真空吸着ライン溝325aは、図8の(b)に図示されたように、ハングル‘¬’状に形成されることができるが、本発明の権利範囲が、これに限定されるものではない。図8の(a)及び図8の(b)に図示されたターンテーブル310と可変テーブル320との表面でハッチングされていない部分がハッチングされた部分に比べて陷沒されたことを意味する。
【0085】
前にも記述したように、可変テーブル320は4個が設けられるために、もし、4個の可変テーブル320に形成される真空圧が互いに格段に異なれば、基板が安定的に支持されることができないか、あるいは一側に歪んだ状態になることもできる。したがって、4個の可変テーブル320、少なくとも2個ずつ対を成した可変テーブル320に提供される真空圧は実質的に均一になる必要がある。また、基板が中央に整列されるために、すなわち、中央を基準に対称に配されるために真空を対称にオン/オフ(on/off)することが効率的である。
【0086】
図8の(b)を参照する時、可変テーブル320の表面に形成された第2真空ホール325には、個別的に真空のオン/オフが制御されるように多数の真空配管326a、326b、326cが連結されており、多数の真空配管326a、326b、326cは、多数の中間配管327a、327b、327cと連結されている。
【0087】
この際、真空配管326a、326b、326cは、中間配管327a、327b、327cのそれぞれの一ラインから隣となった一対の可変テーブル320に相互対称に分岐されている。すなわち、例えば、参照符号327aの中間配管は一つのラインを成すが、参照符号327aの中間配管から分岐された2個のラインである真空配管326aは、それぞれ隣となった一対の可変テーブル320の第2真空ホール325に向けている。このような方式で配管を構成することで少なくとも2個ずつ対を成した可変テーブル320に提供される真空圧は中央を基準に対称的に均一になることができ、したがって、基板に対する吸着効率を高めうる。
【0088】
一方、第1及び第2真空ホール315、325、特に、第2真空ホール325を通じて均一な真空圧が形成されるとしても可変テーブル320の平坦度が正しく合わなければ、基板との間に間隙が発生するために基板の吸着効率が落ちるしかなくて真空の損失を誘発させる。
【0089】
これにより、本実施形態では、簡単な方法でも連結ブロック331a、331bに対する可変テーブル320の平坦度を調節できるように、平坦度調節部340をさらに設けている。
【0090】
平坦度調節部340は、図9に図示されたように、両端部のネジ山が相互反対方向に加工された状態で両端部が可変テーブル320と連結ブロック331a、331bとに螺合される多数の調節ボルト341と、連結ブロック331a、331bに結合されて一端部が可変テーブル320に接触支持される多数の接触支持ボルト342とを備える。
【0091】
このような構成によって、もし、可変テーブル320の平坦度を調節しなければならない場合であれば、まず多数の接触支持ボルト342を緩めて接触支持ボルト342の一端部が可変テーブル320から平坦度調節のために要求される位置まで離隔させた後で、当該位置にある調節ボルト341を締めるか緩める。調節ボルト341の両端部は、反対方向のネジ山が形成されており、反対方向のネジ山は、それぞれ可変テーブル320と連結ブロック331a、331bとに連結されているために調節ボルト341を締めるか緩めれば、可変テーブル320が連結ブロック331a、331bに対して下降するか上昇される。したがって、このような操作を通じて可変テーブル320の平坦度を調節すれば良く、可変テーブル320の平坦度が調節されれば、再び接触支持ボルト342を締めて接触支持ボルト342の一端部が可変テーブル320に接触支持されることによって、可変テーブル320が任意に傾く現象を予防すれば良い。
【0092】
一方、グラインダー221は、第1及び第2ステージ300a、300bに吸着支持された基板に対して実質的な面取り加工を進行する部分である。
【0093】
本実施形態の場合、Y軸に沿って2個の第1及び第2ステージ300a、300bが設けられているので、装備の簡素化のためにグラインダー221は共有グラインダーとして適用される。このように、グラインダー221が共有グラインダーで適用されることによって、グラインダー221に設けられた2個ずつのアラインカメラ223、第1面取り加工用のホイール225及び第2面取り加工用のホイール227は、第1及び第2ステージ300a、300b側に選択的に移動しながら、第1及び第2ステージ300a、300bとともに基板に対する面取り加工作業を進行する。
【0094】
しかし、本発明の権利範囲が、これに限定されるものではないので、グラインダー221が必ずしも共有グラインダーである必要はない。すなわち、第1及び第2ステージ300a、300bごとに第1及び第2ステージ300a、300bにそれぞれ対応する2個ずつのアラインカメラ223、第1面取り加工用のホイール225及び第2面取り加工用のホイール227が専用で備えられるように構成しても良い。
【0095】
グラインダー221は、第1及び第2ステージ300a、300bに載置された基板のアライン作業のためのアラインカメラ223と、第1及び第2ステージ300a、300bに載置された基板に対する面取り加工を進行するが、X軸に沿って相互離隔して配される第1及び第2面取り加工用のホイール225、227とを備える。
【0096】
アラインカメラ223は、基板のある一辺に形成された2個のアラインマーク(align mark)を撮影するために2個設けられる。すなわち、少なくとも2個のアラインマークを撮影して始めて基板に対するアライン作業が可能であり、それに基づいて第1面取り加工用のホイール225、そして、第2面取り加工用のホイール227の間隔が決定されることができるために、本実施形態では、2個のアラインカメラ223が設けられる。
【0097】
第1面取り加工用のホイール225は、基板の両側短辺エッジに対する面取り加工及び基板の後面コーナー加工を進行し、第2面取り加工用のホイール227は、基板の前面コーナー加工及び基板の両側長辺エッジに対する面取り加工を進行するために、アラインカメラ223と同様に2個ずつ設けられる。
【0098】
第1及び第2面取り加工用のホイール225、227の構造について説明すれば、図5に図示されたように、第1及び第2面取り加工用のホイール225、227は、Z軸に沿って外周面の一領域が相互重畳して配されて基板の4コーナー、基板の短辺エッジ及び基板の長辺エッジをいずれも加工する多数の第1ないし第4マルチホイール225a〜225d、227a〜227d(multi wheel)で適用される。言い換えれば、第1面取り加工用のホイール225は、4個の第1ないし第4マルチホイール225a〜225dの組合わせによって、そして、第2面取り加工用のホイール227は、4個の第1ないし第4マルチホイール227a〜227dの組合わせによって設けられる。第1及び第2面取り加工用のホイール225、227は、それぞれホイール回転用のハウジング231、232によって回転可能に結合されている。ホイール回転用のハウジング231、232は、第1及び第2面取り加工用のホイール225、227を支持する役割以外にもモータなどを用いて第1及び第2面取り加工用のホイール225、227を回転させる役割を兼ねる。
【0099】
このような構成で、基板の短辺エッジに対する面取り加工は、第1面取り加工用のホイール225の第1及び第3マルチホイール225a、225cと、第2及び第4マルチホイール225b、225dとの間の領域で進行し、基板の後面コーナー加工は、第1面取り加工用のホイール225の第3及び第4マルチホイール225c、225dの傾斜表面領域で進行する。そして、基板の前面コーナー加工は、第2面取り加工用のホイール227の第3及び第4マルチホイール227c、227dの傾斜表面領域で進行し、基板の長辺エッジに対する面取り加工は、第2面取り加工用のホイール227の第1及び第3マルチホイール227a、227cと、第2及び第4マルチホイール227b、227dとの間の領域で進行する。
【0100】
一方、本実施形態のグラインダー221は、共有グラインダーであるので、アラインカメラ223、第1面取り加工用のホイール225及び第2面取り加工用のホイール227は、第1ステージ300aとともに第1ステージ300a上の基板に対する面取り加工作業も進行しなければならず、第2ステージ300bとともに第2ステージ300b上の基板に対する面取り加工作業も進行しなければならない。
【0101】
したがって、アラインカメラ223、第1面取り加工用のホイール225及び第2面取り加工用のホイール227は、Y軸に沿って移動が可能ではなければならない。このために、カメラ移動支持部224、第1ホイール移動支持部226及び第2ホイール移動支持部228が備えられる。
【0102】
カメラ移動支持部224は、2個のアラインカメラ223がY軸に沿って個別あるいは集団に移動可能に2個のアラインカメラ223を移動可能に支持し、第1ホイール移動支持部226は、2個の第1面取り加工用のホイール225がY軸に沿って個別あるいは集団に移動可能に2個の第1面取り加工用のホイール225を移動可能に支持し、第2ホイール移動支持部228は、2個の第2面取り加工用のホイール227がY軸に沿って個別あるいは集団に移動可能に2個の第2面取り加工用のホイール227を移動可能に支持する。
【0103】
本実施形態において、カメラ移動支持部224、第1ホイール移動支持部226及び第2ホイール移動支持部228は、リニアモータとして具現可能であるが、必ずしもそういうことではない。それだけではなく、図面を見れば、カメラ移動支持部224、第1ホイール移動支持部226及び第2ホイール移動支持部228がそれぞれ個別的に図示されているが、これらは一胴体で相互連結されることもできる。
【0104】
2個のアラインカメラ223は、カメラ移動支持部224によってY軸に移動すれば、それで十分である。しかし、第1及び第2面取り加工用のホイール225、227は、第1及び第2ホイール移動支持部226、228によってY軸に移動するだけではなく、基板の4コーナー加工、そして、短辺及び長辺エッジ加工のためにZ軸にも昇降が可能ではなければならない。
【0105】
このために、本実施形態のグラインダー221には、第1ホイール移動支持部226に結合されて2個の第1面取り加工用のホイール225をZ軸に昇降させる第1ホイール昇降部226aと、第2ホイール移動支持部228に結合されて2個の第2面取り加工用のホイール227をZ軸に昇降させる第2ホイール昇降部228aとがさらに設けられる。第1ホイール昇降部226aと第2ホイール昇降部228aは、シリンダーで適用可能であるが、これもリニアモータやモータとボールスクリューとの組合わせによって適用されることもできる。
【0106】
一方、本実施形態の場合、面取り加工ユニット220を通じて基板の4コーナー加工、基板の短辺エッジ加工及び基板の長辺エッジ加工作業が進行する時、基板の4コーナー加工、基板の短辺エッジ加工及び基板の長辺エッジ加工作業が実質的に待機時間なしに連続的に進行するように、グラインダー221の動作を制御する制御部(図示せず)をさらに備える。
【0107】
言い換えれば、制御部は、第1及び第2面取り加工用のホイール225、227のうち何れか一つが基板のエッジ加工作業をする時、第1及び第2面取り加工用のホイール225、227のうち他の一つが基板の両側コーナー加工作業のための作業位置に、または第1及び第2面取り加工用のホイール225、227のうち何れか一つが基板の両側コーナー加工作業をする時、第1及び第2面取り加工用のホイール225、227のうち他の一つが基板のエッジ加工作業のための作業位置にあらかじめ移動して待機できるように、第1及び第2面取り加工用のホイール225、227のX軸、Y軸及びZ軸動作を制御するが、このような一連の制御動作については下記の面取り加工方法に含ませてともに説明する。
【0108】
一方、面取り加工が完了した基板を基板アンローディングユニット240に移送させた後、ステージ300a、300bは、前述した作業を再び反復するために基板ローディングユニット210の方向に移動する。ところで、加工対象の基板が載置されるステージ300a、300bの上部には、面取り加工時に発生した異物が残存することができるために基板が載置されるステージ300a、300bの上部を洗浄した後、次の基板をローディングしなければならない。これは、洗浄をしないで新たな基板がステージ300a、300bにローディングされる場合、ステージ300a、300bに残存する異物によって基板が汚染されることができるためである。
【0109】
したがって、本実施形態の面取り機は、面取り加工ユニット220と基板アンローディングユニット240との間に設けられてステージ300a、300bの表面を洗浄するステージ洗浄ユニット530(図3及び図5参照)と、ステージ300a、300bの表面に洗浄流体を噴射するステージ洗浄ユニット530の作動を制御する制御部(図示せず)をさらに含み、これにより、今後面取り加工される基板のステージ300a、300bに残存する異物による汚染を防止できる。
【0110】
ここで、制御部は、面取り加工が完了した基板を基板アンローディングユニット240に移送させ、そして、基板を支持していないステージ300a、300bがまた新たな基板をローディングするために基板ローディングユニット210に移動する時、ステージ洗浄ユニット530を作動させてステージ300a、300bの表面に残存可能な異物を除去させ、またステージ300a、300bがステージ洗浄ユニット530の噴射領域を通過すれば、ステージ洗浄ユニット530の作動を停止させるようにステージ洗浄ユニット530の作動を制御する。
【0111】
本実施形態のステージ洗浄ユニット530は、図3及び図5に図示されたように、第1及び第2ステージ300a、300bの移動ラインにそれぞれ配される二対の単位洗浄部531a、531bと、ステージ300a、300bの移動方向の横方向に配され、二対の単位洗浄部531a、531bが結合されるユニットフレーム545とを備える。
【0112】
但し、二対の単位洗浄部531a、531bは、実質的に同一の構成を有するために、以下では、第1ステージ300aの上部に配される一対の単位洗浄部531aについてのみ説明する。
【0113】
一対の単位洗浄部531aは、図12ないし図14に詳しく図示されたように、移動ラインに沿って移動可能に配される第1ステージ300aの上部に配されて第1ステージ300aの上面方向に洗浄のための洗浄流体を噴射する。この際、一対の単位洗浄部531aは、偏平に設けられる第1ステージ300aの上面に残存する異物が外側に離脱されることができるように相互対称される角度で傾いて設けられる。
【0114】
言い換えれば、洗浄流体の噴射方向が、第1ステージ300aの上面の面方向と傾くようにすることによって、第1ステージ300aの上面に残存する異物が洗浄流体の押す力によって外側に離脱されることができるようにする。第1ステージ300aの上面とは、前述したターンテーブル310及び多数の可変テーブル320の上面を示す。
【0115】
したがって、単位洗浄部531aが、洗浄流体の噴射方向を調節してステージ570aに残存する異物を最大限効率的に除去できるように単位洗浄部531aは、ユニットフレーム545に対して多方向に回動可能に設けられる。
【0116】
このような単位洗浄部531aの具体的な構成について説明すれば、本実施形態の単位洗浄部531aは、第1ステージ300aに洗浄流体を噴射する噴射口が設けられている噴射胴体部532と、噴射胴体部532が、ユニットフレーム545に対して多方向に回動可能に噴射胴体部532をユニットフレーム545に結合させる回動結合部540とを備える。
【0117】
噴射胴体部532は、回動結合部540に対して回動可能に結合される回動部材533と、回動部材533と実質的に並んで回動部材533に結合され、上端部から内側方向に洗浄流体が移動する移動空間534sが陷沒形成されている噴射部材534と、噴射部材534の上面に結合されて噴射部材534の内部を外部と遮蔽する遮蔽部材535とを備える。
【0118】
ここで、噴射部材534と遮蔽部材535とを結合させれば、その先端部に移動空間534sと連通されるスリット状の噴射口534hが設けられるが、このような噴射口534hを通じて洗浄流体が第1ステージ300aの上面に斜めに噴射されて第1ステージ300aの異物をきれいに除去することができる。
【0119】
まず回動部材533は、図13及び図14に図示されたように、回動結合部540に対して‘θ1’方向に回動可能に結合される。したがって、噴射部材534の噴射口534hを通じて噴射される洗浄流体の噴射方向を調節することができる。すなわち、洗浄流体が、第1ステージ300aに残存する異物を外側に押し出すように第1ステージ300aに対する噴射部材534の傾斜角度を容易に調節することができる。
【0120】
遮蔽部材535は、噴射部材534の内側部分を保護するため、すなわち、外部の異物が洗浄流体が移動する噴射部材534の内側に侵透することを防止するため、噴射部材534の上面に結合される。また、遮蔽部材535は、噴射部材534の内側に設けられる構造を保護しながらも、結合及び分離が容易で噴射部材534の内側構造に対する維持補修を容易にできる長所がある。
【0121】
一方、このような噴射胴体部532が結合される回動結合部540は、ユニットフレーム545に締結されるフレーム締結部材541と、回動部材533が軸中心に回動可能に回動部材533に結合される回動結合部材542と、フレーム締結部材541及び回動結合部材542の間に結合され、回動結合部材542をフレーム締結部材541に対して相対回動させる連結部材543とを備える。
【0122】
このような回動結合部540の構造によって、前述したように、噴射胴体部532は、‘θ1’方向に回動できるだけではなく、フレーム締結部材541に対して回動結合部材542が‘θ2’方向に相対回動することで噴射胴体部532の全体が回動結合部540に対して‘θ2’方向に相対回動することができる。したがって、第1ステージ300aに対する単位洗浄部531aの傾斜角度を適切に調節することによって、第1ステージ300a上に残存する異物をより効果的に除去することができる。
【0123】
一方、前述した第1ステージ300aの洗浄作業は、工程を一時的に中断させて進行することではなく、工程中に進行する。すなわち、面取り加工された基板が基板アンローディングユニット540に移送されて基板が積載されていない第1ステージ300aは、今後の作業のために移動ラインに沿って再び基板ローディングユニット110の方向に移動するが、この際、ステージ洗浄ユニット530が動作して第1ステージ300a上に残存する異物を除去する。したがって、基板に対する面取り加工工程のタクトタイムを短縮させることができ、これにより、全体的な生産性を向上させうる長所がある。
【0124】
一方、本実施形態では、ステージ300a、300bの数に対応する対ほどの単位洗浄部531a、531bがユニットフレーム545に結合されると上述したが、ユニットフレームに一対の単位洗浄部が移動可能に結合されることによって、交番的に移動する複数のステージに対する洗浄作業を進行することもできる。
【0125】
一方、図3及び図5、そして、図15ないし図19を参照すれば、本実施形態の面取り機で基板アンローディングユニット240には、面取り加工された基板の面取り量を測定するための面取り量の測定ユニット630が設けられている。これは、基板を面取り加工する時、既定の面取り量の基準内で面取り加工がなされなければならないが、例えば、既定の基準を超えるか、超えないように基板が面取り加工されることができるので、面取り量の測定ユニット630によって基板の面取り量を正確に測定して、これを面取り加工用のホイール126側にフィードバックされて面取り量を補正することによって、今後面取り加工される基板の面取り加工を正確にするためである。
【0126】
ところが、前述したように、従来技術による面取り機の場合、面取り量の測定ユニット(図示せず)が、面取り加工ユニット20(図1参照)に設けられて面取り加工とともに面取り量を測定して来たために全体的なタクトタイムを増加させる問題点があった。すなわち、従来には、面取り加工ユニット20に設けられた面取り量の測定ユニットによって面取り量が測定されるために、面取り加工作業に対するタクトタイムが増加するだけではなく、面取り量の測定のために基板が停止される別途の時間が割り当てられねばならない問題点があった。
【0127】
したがって、本実施形態の面取り機は、このようなタクトタイムの増加問題を解消するために、面取り加工が完了した基板が外部にアンローディングされる基板アンローディングユニット240のローラーに沿って基板が移送される時、基板の面取り量を測定できるように基板アンローディングユニット130の上下部に面取り量の測定ユニット630が設けられている。以下では、このような面取り量の測定ユニット630の構成について詳しく説明する。
【0128】
図3及び図5、そして、図15ないし図19を参照する時、本実施形態の面取り量の測定ユニット630は、基板アンローディングユニット240の上部及び下部にそれぞれ配されて基板の短辺エッジ部分の面取り量を測定する測定部631と、基板アンローディングユニット240の長手方向の横方向に設けられて測定部631が移動可能に結合される測定支持フレーム633と、測定部631が搭載されて測定支持フレーム633の長手方向に沿って移動することによって、基板に対する測定部631の位置を調節させる移動フレーム635と、移動フレーム635上で測定部631を昇降させて測定部631が基板アンローディングユニット240に対して接近及び離隔可能にする昇降駆動部637とを備える。
【0129】
本実施形態において、測定部631は、基板の一側短辺のエッジ部分の面取り量を測定するために基板アンローディングユニット130の上部及び下部に一対設けられ、全体的に基板の両側短辺のエッジ部分の面取り量を測定するために二対が設けられる。
【0130】
測定部631は、昇降駆動部637によって移動フレーム635上で昇降することができて基板アンローディングユニット640のローラー242に沿って移送される基板の両側短辺のエッジ部分に接近するか離隔される。また、測定部631が結合された移動フレーム635は、測定支持フレーム633の長手方向に沿って摺動可能で基板のサイズによって左右方向への位置調節が可能であり、これにより、測定部631が相互異なるサイズを有する多数の基板に対する面取り量の測定を柔軟にさせる。
【0131】
ここで、昇降駆動部637は、測定部631が移動フレーム635の高さ方向に沿ってリニアモーション(linear motion)に移動できるようにリニアモータで設けられることができる。また、移動フレーム635も測定支持フレーム633に対してリニアモーションに移動できるように移動フレーム635を駆動させる別途の移動駆動部638が測定支持フレーム633上に装着されることもある。
【0132】
本実施形態の測定部631は、基板の面取り量を正確に測定するために面取り加工された基板の両側短辺のエッジ部分を連続的に撮影するラインスキャンカメラ631(line scan camera)が適用される。したがって、基板の面取り量及び面取り状態などを正確に測定できる長所がある。
【0133】
但し、本実施形態では、測定部631としてラインスキャンカメラ631が適用されるが、それ以外にもエリアカメラ(area camera)などが適用されて基板の面取り量及び面取り状態などを測定することもできる。エリアカメラは、ラインスキャンカメラとは異なって面取り加工された基板の両側短辺のエッジ部分のうち一部分を撮影して基板の面取り量を測定するカメラとしてラインスキャンカメラと同様に基板の面取り量及び面取り状態などを正確に測定できる。
【0134】
一方、本実施形態の平面ディスプレイ用の面取り機は、面取り量の測定ユニットの測定部631によって面取り加工された基板の面取り量を測定した後、該測定された値に基づいて面取り加工用のホイール225、227の面取り量を補正して、今後加工される基板の面取り量を再調整できるように、面取り加工用のホイール225、227を制御する制御部(図示せず)をさらに備える。
【0135】
言い換えれば、測定部631が、撮影によって面取り加工された基板の面取り量を測定したが、例えば、基板の面取り加工された部分が既定の基準よりさらに加工されたか不十分に加工された場合、制御部は、測定された面取り量の情報に基づいて面取り量を補正するために面取り加工用のホイール225、227の位置を再調整する。より詳しく説明すれば、例えば、基板の面取り加工された部分が既定の基準よりさらに加工された場合、制御部は、面取り加工用のホイール225、227の間隔を狭めて今後面取り加工される基板は不十分に面取り加工させ、例えば、基板の面取り加工された部分が既定の基準より不十分に加工された場合、制御部は、面取り量を補正するために面取り加工用のホイール225、227の間隔を広げて今後面取り加工される基板は測定部631によって面取り量の測定された基板に比べてさらに面取り加工させる。
【0136】
一方、本実施形態の面取り量の測定ユニット630は、基板の面取り量を測定するのに先立って、基板の面取り加工された部分に残存する異物を除去するための異物除去部640をさらに含む。このような異物除去部640によって基板の両側短辺のエッジ部分に残存する異物を除去することができて測定部631でより正確な面取り量を測定できる。
【0137】
本実施形態の異物除去部640は、図16ないし図19に図示されたように、移動フレーム635に結合され、面取り量が測定される基板の両側短辺のエッジ部分が通過可能に一側が開放されたトンネル部分641sに設けられ、基板ローディングユニット210の方向に向ける一面から内側方向に異物除去のための異物除去用の作業流体が移動する移動空間642s(図19参照)が陷沒形成されている異物除去胴体641と、異物除去胴体641に設けられ、移動空間642sを通過した異物除去用の作業流体を基板の長辺または短辺に向けて噴射させる噴射部材642と、噴射部材642が設けられた異物除去胴体641の一面に着脱可能に結合されて異物除去胴体641の内部を外部と遮蔽する遮蔽部材643とを備える。
【0138】
ここで、移動空間642sを移動した異物除去用の作業流体は、噴射部材642と遮蔽部材643との結合部分に形成される、すなわち、噴射部材642と遮蔽部材643とが離隔して結合されて設けられる噴射出口642hを通じて噴射される。噴射出口642hは、異物除去用の作業流体が、斜めに噴射されて基板の異物を効果的に除去できるように異物除去胴体641の上端と下端とを繋ぐ仮想の線に傾いて設けられる。
【0139】
異物除去胴体641は、移動フレーム635に固定結合されて測定支持フレーム633に対する移動フレーム635の摺動時のように移動することができる。したがって、基板のサイズによって基板の両側に置かれた異物除去胴体641の位置を調節することができ、これにより、基板が異物除去胴体641のトンネル部分641sを過ぎって測定部631の間を通過させうる。
【0140】
一対の噴射部材642は、トンネル部分641sが設けられた異物除去胴体641の一面に相互対向されるように設けられ、遮蔽部材643と隣接した一面は傾いて設けられている。したがって、基板の両側短辺のエッジ部分、すなわち、面取り加工された部分に向けて異物除去用のガスを噴射して基板の両側短辺のエッジ部分から異物を除去することができ、これにより、測定部631が基板から正確な面取り量を測定させうる。
【0141】
遮蔽部材643は、異物除去胴体641の内側に配される流体移動管(図示せず)を保護するために、異物除去胴体641の一面に着脱可能に結合される。このような遮蔽部材643は、異物除去胴体641の内側に設けられる構造を保護しながらも、結合及び分離が容易で異物除去胴体641の内側構造に対する維持補修を容易にできる長所がある。
【0142】
このような構成を有する面取り機を用いて基板に対して面取り加工を進行する一連の方法について図20及び図21を参照して説明する。
【0143】
まず、面取り加工対象の基板が、基板ローディングユニット210上のローラー212を通じて移送される。ローラー212の回転によって移送される基板は、進入感知センサー214の信号に基づいて回転軸211の動作が停止されることによって作業位置に停止される。引き続き、アライン部215が基板の両側面を加圧して基板をアラインさせれば、リフトピン213が基板をアップさせる。
【0144】
基板がアップされれば、トランスファー400aが、X軸駆動部461、Y軸駆動部462及びZ軸駆動部463によってX軸、Y軸及びZ軸に沿って動きながら、基本把持ユニット410と安全把持ユニット430とに基板を把持する。すなわち、基本把持ユニット410が動作して基板の両側面及び下面一部を支持し、引き続き回動支持部433の駆動によって安全把持ユニット430が動作して基板の前面及び下面一部を支持する。基本把持ユニット410と安全把持ユニット430とによって基板が把持されれば、X軸駆動部461、Y軸駆動部462及びZ軸駆動部463によってX軸、Y軸及びZ軸に沿って動きながら、トランスファー400aは把持された基板を第1ステージ300aの上面に配置させた後、基本把持ユニット410と安全把持ユニット430との動作を解除して基板を第1ステージ300aの上面にローディングさせる。第1ステージ300aの上面に上げられた基板は、第1ステージ300aを成すターンテーブル261及び可変テーブル263の表面に形成された真空ホールを通じて真空吸引力が提供されるにことによってターンテーブル261及び可変テーブル263の表面で吸着支持される。
【0145】
このように、基板が第1ステージ300aの上面で吸着支持されれば、第1ステージ300aはX軸方向に移動する。X軸方向に移動した基板は、図21の(a)のようにアラインカメラ223によってアラインマークが撮像されながら、アライン作業が進行する(S11)。アライン作業が進行するうちに第1面取り加工用のホイール225は、基板の両側短辺のエッジ加工のための作業位置にあらかじめ移動して待機する。この場合、第2面取り加工用のホイール227は、第2ステージ300b側で他の基板に対する面取り加工作業をしていると見て、図21の(a)では点線処理している。
【0146】
アライン作業が完了すれば、図21の(b)に図示されたように、第1ステージ300aは、基板を第1面取り加工用のホイール225側に前進させる。この際、第1面取り加工用のホイール225は、基板の両側短辺のエッジ加工のための作業位置にあらかじめ移動して待機している状態であるので、基板は止まらずに第1ステージ300aによって前進し続けて第1面取り加工用のホイール225を成す第1及び第3マルチホイール225a、225c、そして、第2及び第4マルチホイール225b、225dの間の領域を過ぎるようになり、これにより、基板の両側短辺のエッジに対する面取り加工が完了する(S12)。
【0147】
このように、第1面取り加工用のホイール225によって基板の両側短辺のエッジに対する面取り加工が進行する間に、第2面取り加工用のホイール227は、第1ステージ300aの移動経路上に移動するが、この場合、第2面取り加工用のホイール227は、基板の前面両側のコーナー加工のための作業位置にあらかじめ移動して待機する。
【0148】
したがって、第1面取り加工用のホイール225を過ぎって両側短辺のエッジ加工が完了した基板は、止まらずに第1ステージ300aによって前進し続けて図21の(c)のように作業位置にあらかじめ待機していた第2面取り加工用のホイール227の第3及び第4マルチホイール227c、227dに接触されることによって、その前面両側のコーナーに対して面取り加工が進行する(S13)。
【0149】
このように、基板の前面両側のコーナーに対して面取り加工が進行する間に、第1面取り加工用のホイール225は、基板の後面両側のコーナー加工のための作業位置にあらかじめ移動して待機する。
【0150】
前面両側のコーナーに対して面取り加工が完了した基板は、止まらずに第1ステージ300aによって反対に後進して、図21の(d)のように作業位置にあらかじめ待機していた第1面取り加工用のホイール225の第3及び第4マルチホイール225c、225dに接触されることによって、その後面両側のコーナーに対して面取り加工が進行する(S14)。
【0151】
次に、基板の両側長辺のエッジに対する面取り加工のために、図21の(e)のように第1ステージ300a上で基板が回転される(S15)。基板の回転は、第1ステージ300aを成すターンテーブル261によって遂行される。この場合、第1面取り加工用のホイール225は、第2ステージ300b側で他の基板に対する面取り加工作業をしていると見て、図21の(e)及び図21の(f)では点線処理している。
【0152】
このように、両側長辺のエッジに対する面取り加工のために基板が回転する間に、第2面取り加工用のホイール227は、基板の両側長辺のエッジ加工のための作業位置にあらかじめ移動して待機する。
【0153】
その後、回転が完了した基板は、その即時、第1ステージ300aによって前進して、図21の(f)のように第2面取り加工用のホイール227を成す第1及び第3マルチホイール227a、227c、そして、第2及び第4マルチホイール227b、227dの間の領域を過ぎるようになり、これにより、基板の両側長辺のエッジに対する面取り加工が完了する(S16)。
【0154】
面取り加工が完了した基板は、面取り加工ユニット220と基板アンローディングユニット240との間の領域に設けられているトランスファー400bの動作に起因して基板アンローディングユニット240上に移送されて取り出される。この際、トランスファー400bは、基本把持ユニット410と安全把持ユニット430とに基板を把持した状態で基板を移送させるために安全な移送が保障される。
【0155】
基板アンローディングユニット240に移送された面取り加工された基板は、基板アンローディングユニット240上のローラー242を通じて一方向に移送される。この際、基板は、面取り量の測定ユニット630を過ぎるようになる。言い換えれば、基板は、面取り量の測定ユニット630の異物除去部640を通過し、基板の面取り加工された部分、すなわち、基板の両側短辺のエッジ部分にある異物が除去され、引き続き基板アンローディングユニット240の上下部に配される測定部631によって基板の面取り量が測定される。以後、測定部631によって測定された値に基づいて制御部は面取り量を補正するために面取り加工用のホイール625の位置を選択的に再調節する。すなわち、既定の基準どおりに基板が面取り加工されて、それによる面取り量が測定された場合には、面取り加工用のホイール225、227の位置をそのまま維持させ、一方、既定の基準に比べてさらに多い面取り量が測定されるかさらに少ない面取り量が測定される場合に、制御部は測定された面取り量の値に基づいて面取り加工用のホイール225、227の間隔をさらに広げるか狭めるように再調節する。したがって、面取り加工用のホイール225、227によって面取り加工される基板は、このように測定された面取り量に基づいて面取り量が補正されながら面取り加工されることができる。すなわち、加工された基板の面取り量がフィードバック(feedback)されて既定の基準どおりに面取りされるように面取り加工用のホイール225、227の面取り量が補正される。
【0156】
一方、基板アンローディングユニット240に基板が移送されて基板を積載していない第1ステージ300aは、前述した工程を再遂行するために基板ローディングユニット210の方向に移動する。ところが、この際、面取り加工作業によって発生した異物が、第1ステージ300aの上面に残存することができるために基板が載置される第1ステージ300aの上面を洗浄しななければならない。
【0157】
したがって、本実施形態では、面取り加工ユニット220と基板アンローディングユニット240との間にステージ洗浄ユニット530が設けられて基板ローディングユニット210の方向に移動する第1ステージ300aの表面に洗浄のための洗浄流体を均一に噴射することができ、これにより、第1ステージ300aの表面に残存する異物を除去することができる。ここで、ステージ洗浄ユニット530の一対の単位洗浄部531aは、ユニットフレーム545に対して傾いて設けられて第1ステージ300a上に残存する異物を効果的に容易に除去することができる。また、このような洗浄作業が面取り加工工程中になされるために全体的な作業効率が向上する。
【0158】
一方、前記の説明で適用された基板よりそのサイズが大きい基板やあるいは小さな基板を前述した面取り機に適用するためには、基板を支持する第1及び第2ステージ300a、300bの上面全体面積が調節される必要がある。すなわち、大きい基板に対する面取り加工のためには、第1及び第2ステージ300a、300bの上面全体面積が大きくならなければならず、小さな基板に対する面取り加工のためには、第1及び第2ステージ300a、300bの上面全体面積が小くならなければならない。これについて図6及び図7を参照して説明すれば、駆動モータ333によってボールスクリュー軸332が正転されれば、一対の連結ブロック331a、331bは、図6のように相互離隔されながら、可変テーブル320を開けて大きい基板が吸着可能にすることもでき、反対に駆動モータ333によってボールスクリュー軸332が逆転されれば、一対の連結ブロック331a、331bは、図7のように相互接近されながら、可変テーブル320を狭めて小さな基板が吸着可能にすることもできる。
【0159】
このように、基板の両側短辺のエッジ加工、基板の前面コーナー加工、基板の後面コーナー加工、そして、基板の両側長辺の加工作業のうちある一作業が進行する前に、X軸に沿って相互離隔されるように第1及び第2面取り加工用のホイール225、227があらかじめ作業位置に移動して待機しているために、従来のように不可避に基板が止まって待機する時間を減らしうる。すなわち、本実施形態によれば、基板を支持した第1及び第2ステージ300a、300bは、従来のように一定時間止める必要なしにインライン(In−Line)化された作業ラインに沿って連続して移動しながら、基板に対する面取り加工作業を進行させることができるために、従来よりタクトタイムをさらに減少させて生産性を向上させうる。
【0160】
図22は、本発明の他の実施形態による平面ディスプレイ用の面取り加工方法のフローチャートである。
【0161】
面取り加工方法は、前述した実施形態と異なって、図22の順序によることもできる。すなわち、アライン作業が進行すれば(S21)、まず第1面取り加工用のホイール225によって基板の前面両側のコーナーに対する面取り加工が進行し(S22)、引き続き第2面取り加工用のホイール227によって基板の両側短辺に対する面取り加工(S23)、そして、第1面取り加工用のホイール225によって基板の後面両側のコーナーに対する面取り加工が進行し(S24)、基板が回転されれば(S25)、最終的に基板の両側長辺に対する面取り加工が進行する(S26)順序によることもできる。
【0162】
前述した実施形態では、基板の短辺を先に加工して長辺を加工すると説明したが、長辺を先に加工した後、基板を回転させて短辺を加工する形態になっても良い。
【0163】
前述した実施形態では、第1及び第2面取り加工用のホイールが、基板ローディングユニットと基板アンローディングユニットとを連結する仮想の作業ラインに沿って相互離隔配されているが、第1及び第2面取り加工用のホイールは、基板ローディングユニットと基板アンローディングユニットとを連結する仮想の作業ラインとの交差方向に相互離隔配されることもできる。
【0164】
このように、本発明は、前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の思想及び範囲を外れずに多様に修正及び変形できるということは、当業者に自明なものである。したがって、そのような修正例または変形例は、本発明の特許請求の範囲に属すると言わなければならない。
【産業上の利用可能性】
【0165】
本発明は、平面ディスプレイ用の面取り機及びその面取り加工方法に関連の技術分野に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【0166】
【図1】従来の面取り機に対する概略的な構成図である。
【図2】面取り加工される部分を説明するための基板の斜視図である。
【図3】本発明の一実施形態による平面ディスプレイ用の面取り機に対する概略的な平面図である。
【図4】それぞれ図3の部分拡大斜視図である。
【図5】それぞれ図3の部分拡大斜視図である。
【図6】ステージの拡大斜視図である。
【図7】図6のステージに対する動作を図示した斜視図である。
【図8】(a)は、ターンテーブルの表面に形成された第1真空ホールに対する構成図であり、(b)は、可変テーブルの表面に形成された第2真空ホールに対する構成図である。
【図9】ステージの概略的な側面図である。
【図10】トランスファーの拡大斜視図である。
【図11】図10のトランスファーに対する動作を部分的に図示した斜視図である。
【図12】ステージの上部に設けられたステージ洗浄ユニットの装着状態を図示した斜視図である。
【図13】図12に図示された単位洗浄部の斜視図である。
【図14】図13のA−A線による断面図である。
【図15】基板アンローディングユニットの後尾に配される面取り量の測定ユニットの構成を図示した斜視図である。
【図16】図15に図示された“B”部分を拡大した拡大斜視図である。
【図17】図16に図示された異物除去部を説明するための斜視図である。
【図18】図17の分解斜視図である。
【図19】図17のC−C線による断面図である。
【図20】本発明の一実施形態による平面ディスプレイ用の面取り加工方法のフローチャートである。
【図21】(a)ないし(f)は、平面ディスプレイ用の面取り加工方法を段階的に図示した構成図である。
【図22】本発明の他の実施形態による平面ディスプレイ用の面取り加工方法のフローチャートである。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板ローディングユニットと基板アンローディングユニットとの間に設けられて、前記基板のコーナー及び辺に対する面取り加工を進行する面取り加工ユニットを含み、
前記面取り加工ユニットは、
上面に基板が載置支持される少なくとも一つのステージと、
前記基板の第1辺エッジに対する面取り加工を進行する第1面取り加工用のホイールと、前記第1面取り加工用のホイールに対して相互離隔配されて前記基板の第1面両側コーナーに対する面取り加工を進行する第2面取り加工用のホイールとを備えたグラインダーと、を含むことを特徴とする平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項2】
前記第1面取り加工用のホイールと前記第2面取り加工用のホイールは、
前記基板ローディングユニットと前記基板アンローディングユニットとを連結する仮想の作業ラインに沿って相互離隔配されることを特徴とする請求項1に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項3】
前記第1面取り加工用のホイールによる前記第1辺エッジに対する面取り加工時、前記第2面取り加工用のホイールが、前記基板の第1面両側コーナーの面取り加工のための作業位置に移動するように前記第2面取り加工用のホイールを制御する制御部をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項4】
前記第1面取り加工用のホイールは、
前記基板の第2面両側コーナーに対する面取り加工を進行し、
前記第2面取り加工用のホイールは、
前記基板の第2辺エッジに対する面取り加工を進行し、
前記制御部は、
前記第1面取り加工用のホイールによる前記第2面両側コーナーに対する面取り加工時、前記第2面取り加工用のホイールが、前記第2辺エッジの面取り加工のための作業位置に移動するように前記第2面取り加工用のホイールを制御することを特徴とする請求項3に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項5】
前記基板の第1辺及び第2辺は、前記基板の両側短辺及び両側長辺であり、
前記基板の第1面及び第2面は、前記基板の前面両側のコーナー及び後面両側のコーナーであり、
前記2個の第1面取り加工用のホイールと前記2個の第2面取り加工用のホイールのそれぞれは、Z軸に沿って外周面の一領域が相互重畳して配されて前記基板の前面両側のコーナー、前記基板の後面両側のコーナー、前記基板の短辺エッジ及び前記基板の長辺エッジをいずれも加工する多数のマルチホイールによって設けられることを特徴とする請求項4に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項6】
前記グラインダーは、
前記ステージに載置された前記基板のアライン作業のためのアラインカメラをさらに含み、
前記少なくとも一つのステージは、
前記基板ローディングユニットと前記基板アンローディングユニットとを連結する仮想の作業ラインであるX軸に横に配される仮想のY軸に沿って設けられる二つの第1及び第2ステージであり、
前記グラインダーは、
前記第1及び第2ステージのそれぞれに共有される共有グラインダーであり、
前記アラインカメラ、前記第1面取り加工用のホイール、そして、前記第2面取り加工用のホイールは、前記ステージの一つに対して2個ずつ設けられることを特徴とする請求項1に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項7】
前記グラインダーは、
前記2個のアラインカメラが、前記Y軸に沿って個別あるいは集団に移動可能に前記2個のアラインカメラを移動可能に支持するカメラ移動支持部と、
前記2個の第1面取り加工用のホイールが、前記Y軸に沿って個別あるいは集団に移動可能に前記2個の第1面取り加工用のホイールを移動可能に支持する第1ホイール移動支持部と、
前記2個の第2面取り加工用のホイールが、前記Y軸に沿って個別あるいは集団に移動可能に前記2個の第2面取り加工用のホイールを移動可能に支持する第2ホイール移動支持部と、をさらに含むことを特徴とする請求項6に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項8】
前記グラインダーは、
前記第1ホイール移動支持部に結合されて、前記2個の第1面取り加工用のホイールをZ軸に昇降させる第1ホイール昇降部と、
前記第2ホイール移動支持部に結合されて、前記2個の第2面取り加工用のホイールをZ軸に昇降させる第2ホイール昇降部と、をさらに含むことを特徴とする請求項7に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項9】
前記少なくとも一つのステージは、
前記基板を吸着して回転させる少なくとも一つのターンテーブルと、
前記ターンテーブルに対して接近及び離隔可能に前記ターンテーブルの外郭に配され、前記基板のサイズによって既定の前記ターンテーブルに対する相対的な位置で前記ターンテーブルとともに前記基板を吸着支持する多数の可変テーブルと、を含むことを特徴とする請求項1に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項10】
前記少なくとも一つのターンテーブルは、
中央領域に1個設けられ、
前記多数の可変テーブルは、
前記ターンテーブルの外郭で相互対称に4個設けられることを特徴とする請求項9に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項11】
前記可変テーブルの側面には、
前記可変テーブルの前記ターンテーブルへの接近時に、前記ターンテーブルへの衝突を防止させる切開部が形成されていることを特徴とする請求項10に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項12】
前記ターンテーブルの表面には、
前記基板を真空吸着する多数の第1真空ホールが形成されており、
前記可変テーブルの表面には、
前記基板を真空吸着するが、多数の真空配管によって個別的に真空のオン/オフが制御される多数の第2真空ホールが形成されていることを特徴とする請求項9に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項13】
前記多数の真空配管と連結される中間配管をさらに含み、
前記多数の真空配管は、
前記中間配管のそれぞれの一ラインから隣となった一対の可変テーブルに相互対称に分岐されることを特徴とする請求項12に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項14】
前記第1及び第2真空ホールの周辺に設けられ、前記ターンテーブル及び前記可変テーブルの表面から下方に一定深さほど陷沒された状態で一定の形状のラインを成して前記基板に対する真空吸着面積を倍加させる第1及び第2真空吸着ライン溝をさらに含むことを特徴とする請求項12に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項15】
前記第1及び第2真空吸着ライン溝は、
前記第1及び第2真空ホールの一つ当り一つずつ設けられることを特徴とする請求項14に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項16】
前記4個の可変テーブルを前記ターンテーブルに対して接近及び離隔させるテーブル駆動部をさらに含むことを特徴とする請求項10に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項17】
前記テーブル駆動部は、
2個ずつ対を成した可変テーブルをそれぞれ連結する一対の連結ブロックと、
前記一対の連結ブロックにそれぞれ回転可能に結合されて正・逆転時、前記一対の連結ブロックを相互接近及び離隔させるボールスクリュー軸と、
前記ボールスクリュー軸を正・逆転させる単一の駆動モータと、を含むことを特徴とする請求項16に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項18】
前記可変テーブルと前記連結ブロックとに設けられて、前記連結ブロックに対する前記可変テーブルの平坦度を調節する平坦度調節部をさらに含むことを特徴とする請求項17に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項19】
前記平坦度調節部は、
両端部のネジ山が相互反対方向に加工された状態で両端部が前記可変テーブルと前記連結ブロックとに螺合される多数の調節ボルトと、
前記可変テーブルと前記連結ブロックとのうち何れか一つに結合されて一端部が他の一つに接触支持される多数の接触支持ボルトと、を含むことを特徴とする請求項18に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項20】
前記少なくとも一つのステージは、
前記基板ローディングユニットと前記基板アンローディングユニットとを連結する仮想のX軸の横方向に沿って複数個設けられることを特徴とする請求項9に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項21】
前記基板ローディングユニットと前記面取り加工ユニットとの間の領域、そして、前記面取り加工ユニットと前記基板アンローディングユニットとの間の領域にそれぞれ設けられてX軸、Y軸及びZ軸に移動しながら前記基板を移送するトランスファーをさらに含み、
前記トランスファーは、
相互離隔及び接近可能に設けられて、前記基板の両側面で前記基板を把持する多数の基本把持ユニットと、
前記基板の移送または停止途中、前記基板が前記基本把持ユニットから離脱して落下することを防止するように、前記基本把持ユニットの相互離隔及び接近方向に交差される方向で前記基板を把持する少なくとも一つの安全把持ユニットと、を含むことを特徴とする請求項1に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項22】
前記トランスファーは、
前記多数の基本把持ユニットと前記少なくとも一つの安全把持ユニットとが結合されるヘッド部をさらに含み、
前記多数の基本把持ユニットは、
前記ヘッド部の両側面領域に設けられ、
前記少なくとも一つの安全把持ユニットは、
前記面取り加工ユニットに向けた前記ヘッド部の前面領域に設けられることを特徴とする請求項21に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項23】
前記多数の基本把持ユニットは、
前記ヘッド部の両側面領域に2個ずつ4個設けられ、
前記少なくとも一つの安全把持ユニットは、1個設けられることを特徴とする請求項22に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項24】
前記トランスファーは、
前記2個ずつの基本把持ユニットをそれぞれ連結する一対の連結部と、
前記ヘッド部に設けられて、前記一対の連結部の移動を案内する一対の案内部と、
前記一対の連結部が、前記一対の案内部によって案内されながら相互接近及び離隔されるように前記一対の連結部を駆動させる駆動部と、をさらに含むことを特徴とする請求項23に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項25】
前記トランスファーは、
前記ヘッド部に連結される固定ロッドと、
前記固定ロッドに対して前記安全把持ユニットを回動可能に支持する回動支持部と、をさらに含むことを特徴とする請求項23に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項26】
前記多数の基本把持ユニットと前記少なくとも一つの安全把持ユニットは、
前記基板の側面に接触された状態で前記基板の下面を部分的に支えて支持できるように‘L’状を有することを特徴とする請求項21に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項27】
前記多数の基本把持ユニットと前記少なくとも一つの安全把持ユニットは、
前記基板にスクラッチの発生が防止されるようにMD−PA材質で製作可能であることを特徴とする請求項21に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項28】
前記トランスファーは、
前記基板ローディングユニットと前記基板アンローディングユニットとを繋ぐ仮想のX軸に沿って前記多数の基本把持ユニットと前記少なくとも一つの安全把持ユニットとを駆動させるX軸駆動部と、
前記X軸に交差されるY軸に沿って前記多数の基本把持ユニットと前記少なくとも一つの安全把持ユニットとを駆動させるY軸駆動部と、
前記多数の基本把持ユニットと前記少なくとも一つの安全把持ユニットとを上下方向であるZ軸に沿って駆動させるZ軸駆動部と、をさらに含むことを特徴とする請求項21に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項29】
前記面取り加工ユニットの隣接した領域に設けられ、新たな基板をローディングするために、前記基板ローディングユニット方向に移動する前記ステージの表面に前記ステージの洗浄のための洗浄流体を噴射するステージ洗浄ユニットをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項30】
前記ステージ洗浄ユニットは、
前記ステージの移動方向の横方向に沿って設けられるユニットフレームと、
前記ステージの上部領域で前記ユニットフレームに着脱可能に結合されて、前記ステージの表面に前記洗浄流体を噴射する少なくとも一つの単位洗浄部と、を含むことを特徴とする請求項29に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項31】
前記単位洗浄部から前記ステージの表面に噴射される前記洗浄流体が、前記ステージの内側から外側方向に噴射されるように、前記単位洗浄部は、ユニットフレームに傾いて結合されることを特徴とする請求項30に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項32】
前記単位洗浄部は、
前記ステージの一つ当り一対ずつ設けられるように前記ユニットフレームに結合され、
前記ステージにそれぞれ設けられる一対の前記単位洗浄部は、相互対称傾斜度を有するように前記ユニットフレームに傾いて結合されることを特徴とする請求項31に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項33】
前記単位洗浄部は、
前記ステージの表面に前記洗浄流体を噴射する噴射口が設けられている噴射胴体部と、
前記噴射胴体部が、前記ユニットフレームに対して回動可能に前記噴射胴体部を前記ユニットフレームに結合させる回動結合部と、を含むことを特徴とする請求項30に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項34】
前記噴射胴体部は、
前記回動結合部に対して回動可能に結合される回動部材と、
前記回動部材と実質的に平行な方向を有するように前記回動部材に結合され、上端部から内側方向に前記洗浄流体が移動する移動空間が陷沒形成されている噴射部材と、を含むことを特徴とする請求項33に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項35】
前記噴射胴体部は、
前記噴射部材の上端部に結合されて、前記噴射部材の内部を外部と遮蔽する遮蔽部材をさらに含み、
前記噴射口は、前記噴射部材の先端部と前記遮蔽部材の先端部とが相互離隔して結合されてスリット状に設けられることを特徴とする請求項34に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項36】
前記回動結合部は、
前記ユニットフレームに結合されるフレーム締結部材と、
前記回動部材が軸中心に回動可能に前記回動部材に結合される回動結合部材と、
前記回動部材の長手方向の横方向に設けられ、前記回動結合部材を前記フレーム締結部材に対して相対回動可能に前記フレーム締結部材及び前記回動結合部材の間を連結させる連結部材と、を含むことを特徴とする請求項34に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項37】
前記ステージ洗浄ユニットは、
前記面取り加工ユニットと前記基板アンローディングユニットとの間に設けられることを特徴とする請求項29に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項38】
面取り加工が完了した前記基板が前記基板アンローディングユニットに移送されて、前記ステージが前記基板ローディングユニット方向に移動する時、前記ステージ洗浄ユニットから前記洗浄流体が噴射されるように、前記ステージ洗浄ユニットの動作を制御する制御部をさらに含むことを特徴とする請求項29に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項39】
前記基板アンローディングユニットに設けられて、面取り加工が完了した基板に対する面取り量を測定する面取り量の測定ユニットをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項40】
前記面取り量の測定ユニットは、
前記基板アンローディングユニットの上部及び下部にそれぞれ設けられ、前記基板アンローディングユニットによって移送される前記基板の長辺または短辺の面取り量を測定する少なくとも一対の測定部を含むことを特徴とする請求項39に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項41】
前記少なくとも一対の測定部は、
前記基板アンローディングユニットによって移送される前記基板の相互平行な一対の長辺または一対の短辺を連続的に撮影する二対の撮影カメラであることを特徴とする請求項40に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項42】
前記撮影カメラは、
ラインスキャンカメラ及びエリアカメラのうち何れか一つであることを特徴とする請求項41に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項43】
前記面取り量の測定ユニットは、
前記基板の移送方向の横方向に沿って相互離隔して設けられ、前記基板の移送方向に対して前記測定部より上流に配されて前記基板上に残存可能な異物を除去する一対の異物除去部をさらに含むことを特徴とする請求項40に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項44】
前記異物除去部は、
前記基板アンローディングユニットにローディングされて移送される前記基板の長辺または短辺が通過可能に一側が開放されたトンネル構造に設けられ、一面から内側方向に異物除去のための異物除去用の作業流体が移動する移動空間が陷沒形成されている異物除去胴体と、
前記異物除去胴体に設けられ、前記移動空間を通過した前記異物除去用の作業流体を前記基板の長辺または短辺に向けて噴射させる噴射部材と、を含むことを特徴とする請求項43に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項45】
前記異物除去部は、
前記異物除去胴体の内側に配される流体移動管を保護するために、前記異物除去胴体の一面に着脱可能に結合される遮蔽部材をさらに含み、
前記噴射部材と前記遮蔽部材は、相互離隔して結合されて前記移動空間と外部とを連通させる噴射出口を形成することを特徴とする請求項44に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項46】
前記噴射出口は、
前記異物除去胴体の上端と下端とを繋ぐ仮想の線に対して傾いて設けられることを特徴とする請求項45に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項47】
前記面取り量の測定ユニットは、
前記基板ローディングユニットと前記基板アンローディングユニットとを繋ぐ仮想のX軸に交差するY軸に沿って設けられる測定支持フレームと、
前記Y軸に沿って移動可能に前記測定支持フレームに結合され、前記測定部が搭載される移動フレームと、を含むことを特徴とする請求項43に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項48】
前記面取り量の測定ユニットは、
前記移動フレーム上で前記測定部を前記基板アンローディングユニットに対して接近及び離隔させる昇降駆動部をさらに含むことを特徴とする請求項47に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項49】
前記異物除去部は、
前記移動フレームに結合され、
前記作業流体は、
異物除去用のガスであることを特徴とする請求項47に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項50】
前記第2面取り加工用のホイールによる前記第1面両側コーナーに対する面取り加工時、前記第1面取り加工用のホイールが、前記第1辺エッジの面取り加工のための作業位置に移動するように前記第1面取り加工用のホイールを制御する制御部をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項51】
第1面取り加工用のホイールによって基板の第1辺エッジが面取り加工される段階と、
前記第1面取り加工用のホイールに対して相互離隔配された第2面取り加工用のホイールによって前記基板の第1面両側コーナーが面取り加工される段階と、を含むことを特徴とする平面ディスプレイ用の面取り加工方法。
【請求項52】
前記第1面取り加工用のホイールによって前記基板の第2面両側コーナーが面取り加工される段階をさらに含むことを特徴とする請求項51に記載の平面ディスプレイ用の面取り加工方法。
【請求項53】
前記基板が回転する段階と、
前記第2面取り加工用のホイールによって前記基板の第2辺エッジが面取り加工される段階と、をさらに含むことを特徴とする請求項52に記載の平面ディスプレイ用の面取り加工方法。
【請求項54】
前記第1辺及び前記第2辺は、前記基板の両側短辺及び両側長辺であり、
前記第1面及び前記第2面は、前記基板の前面両側のコーナー及び後面両側のコーナーであることを特徴とする請求項53に記載の平面ディスプレイ用の面取り加工方法。
【請求項55】
前記第1面取り加工用のホイールによる前記第1辺エッジに対する面取り加工時、前記第2面取り加工用のホイールが、前記基板の第1面両側コーナーの面取り加工のための作業位置に移動する段階をさらに含むことを特徴とする請求項51に記載の平面ディスプレイ用の面取り加工方法。
【請求項56】
前記第2面取り加工用のホイールによる前記第1面両側コーナーに対する面取り加工時、前記第1面取り加工用のホイールが、前記第1辺エッジの面取り加工のための作業位置に移動する段階をさらに含むことを特徴とする請求項51に記載の平面ディスプレイ用の面取り加工方法。
【請求項1】
基板ローディングユニットと基板アンローディングユニットとの間に設けられて、前記基板のコーナー及び辺に対する面取り加工を進行する面取り加工ユニットを含み、
前記面取り加工ユニットは、
上面に基板が載置支持される少なくとも一つのステージと、
前記基板の第1辺エッジに対する面取り加工を進行する第1面取り加工用のホイールと、前記第1面取り加工用のホイールに対して相互離隔配されて前記基板の第1面両側コーナーに対する面取り加工を進行する第2面取り加工用のホイールとを備えたグラインダーと、を含むことを特徴とする平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項2】
前記第1面取り加工用のホイールと前記第2面取り加工用のホイールは、
前記基板ローディングユニットと前記基板アンローディングユニットとを連結する仮想の作業ラインに沿って相互離隔配されることを特徴とする請求項1に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項3】
前記第1面取り加工用のホイールによる前記第1辺エッジに対する面取り加工時、前記第2面取り加工用のホイールが、前記基板の第1面両側コーナーの面取り加工のための作業位置に移動するように前記第2面取り加工用のホイールを制御する制御部をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項4】
前記第1面取り加工用のホイールは、
前記基板の第2面両側コーナーに対する面取り加工を進行し、
前記第2面取り加工用のホイールは、
前記基板の第2辺エッジに対する面取り加工を進行し、
前記制御部は、
前記第1面取り加工用のホイールによる前記第2面両側コーナーに対する面取り加工時、前記第2面取り加工用のホイールが、前記第2辺エッジの面取り加工のための作業位置に移動するように前記第2面取り加工用のホイールを制御することを特徴とする請求項3に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項5】
前記基板の第1辺及び第2辺は、前記基板の両側短辺及び両側長辺であり、
前記基板の第1面及び第2面は、前記基板の前面両側のコーナー及び後面両側のコーナーであり、
前記2個の第1面取り加工用のホイールと前記2個の第2面取り加工用のホイールのそれぞれは、Z軸に沿って外周面の一領域が相互重畳して配されて前記基板の前面両側のコーナー、前記基板の後面両側のコーナー、前記基板の短辺エッジ及び前記基板の長辺エッジをいずれも加工する多数のマルチホイールによって設けられることを特徴とする請求項4に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項6】
前記グラインダーは、
前記ステージに載置された前記基板のアライン作業のためのアラインカメラをさらに含み、
前記少なくとも一つのステージは、
前記基板ローディングユニットと前記基板アンローディングユニットとを連結する仮想の作業ラインであるX軸に横に配される仮想のY軸に沿って設けられる二つの第1及び第2ステージであり、
前記グラインダーは、
前記第1及び第2ステージのそれぞれに共有される共有グラインダーであり、
前記アラインカメラ、前記第1面取り加工用のホイール、そして、前記第2面取り加工用のホイールは、前記ステージの一つに対して2個ずつ設けられることを特徴とする請求項1に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項7】
前記グラインダーは、
前記2個のアラインカメラが、前記Y軸に沿って個別あるいは集団に移動可能に前記2個のアラインカメラを移動可能に支持するカメラ移動支持部と、
前記2個の第1面取り加工用のホイールが、前記Y軸に沿って個別あるいは集団に移動可能に前記2個の第1面取り加工用のホイールを移動可能に支持する第1ホイール移動支持部と、
前記2個の第2面取り加工用のホイールが、前記Y軸に沿って個別あるいは集団に移動可能に前記2個の第2面取り加工用のホイールを移動可能に支持する第2ホイール移動支持部と、をさらに含むことを特徴とする請求項6に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項8】
前記グラインダーは、
前記第1ホイール移動支持部に結合されて、前記2個の第1面取り加工用のホイールをZ軸に昇降させる第1ホイール昇降部と、
前記第2ホイール移動支持部に結合されて、前記2個の第2面取り加工用のホイールをZ軸に昇降させる第2ホイール昇降部と、をさらに含むことを特徴とする請求項7に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項9】
前記少なくとも一つのステージは、
前記基板を吸着して回転させる少なくとも一つのターンテーブルと、
前記ターンテーブルに対して接近及び離隔可能に前記ターンテーブルの外郭に配され、前記基板のサイズによって既定の前記ターンテーブルに対する相対的な位置で前記ターンテーブルとともに前記基板を吸着支持する多数の可変テーブルと、を含むことを特徴とする請求項1に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項10】
前記少なくとも一つのターンテーブルは、
中央領域に1個設けられ、
前記多数の可変テーブルは、
前記ターンテーブルの外郭で相互対称に4個設けられることを特徴とする請求項9に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項11】
前記可変テーブルの側面には、
前記可変テーブルの前記ターンテーブルへの接近時に、前記ターンテーブルへの衝突を防止させる切開部が形成されていることを特徴とする請求項10に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項12】
前記ターンテーブルの表面には、
前記基板を真空吸着する多数の第1真空ホールが形成されており、
前記可変テーブルの表面には、
前記基板を真空吸着するが、多数の真空配管によって個別的に真空のオン/オフが制御される多数の第2真空ホールが形成されていることを特徴とする請求項9に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項13】
前記多数の真空配管と連結される中間配管をさらに含み、
前記多数の真空配管は、
前記中間配管のそれぞれの一ラインから隣となった一対の可変テーブルに相互対称に分岐されることを特徴とする請求項12に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項14】
前記第1及び第2真空ホールの周辺に設けられ、前記ターンテーブル及び前記可変テーブルの表面から下方に一定深さほど陷沒された状態で一定の形状のラインを成して前記基板に対する真空吸着面積を倍加させる第1及び第2真空吸着ライン溝をさらに含むことを特徴とする請求項12に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項15】
前記第1及び第2真空吸着ライン溝は、
前記第1及び第2真空ホールの一つ当り一つずつ設けられることを特徴とする請求項14に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項16】
前記4個の可変テーブルを前記ターンテーブルに対して接近及び離隔させるテーブル駆動部をさらに含むことを特徴とする請求項10に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項17】
前記テーブル駆動部は、
2個ずつ対を成した可変テーブルをそれぞれ連結する一対の連結ブロックと、
前記一対の連結ブロックにそれぞれ回転可能に結合されて正・逆転時、前記一対の連結ブロックを相互接近及び離隔させるボールスクリュー軸と、
前記ボールスクリュー軸を正・逆転させる単一の駆動モータと、を含むことを特徴とする請求項16に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項18】
前記可変テーブルと前記連結ブロックとに設けられて、前記連結ブロックに対する前記可変テーブルの平坦度を調節する平坦度調節部をさらに含むことを特徴とする請求項17に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項19】
前記平坦度調節部は、
両端部のネジ山が相互反対方向に加工された状態で両端部が前記可変テーブルと前記連結ブロックとに螺合される多数の調節ボルトと、
前記可変テーブルと前記連結ブロックとのうち何れか一つに結合されて一端部が他の一つに接触支持される多数の接触支持ボルトと、を含むことを特徴とする請求項18に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項20】
前記少なくとも一つのステージは、
前記基板ローディングユニットと前記基板アンローディングユニットとを連結する仮想のX軸の横方向に沿って複数個設けられることを特徴とする請求項9に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項21】
前記基板ローディングユニットと前記面取り加工ユニットとの間の領域、そして、前記面取り加工ユニットと前記基板アンローディングユニットとの間の領域にそれぞれ設けられてX軸、Y軸及びZ軸に移動しながら前記基板を移送するトランスファーをさらに含み、
前記トランスファーは、
相互離隔及び接近可能に設けられて、前記基板の両側面で前記基板を把持する多数の基本把持ユニットと、
前記基板の移送または停止途中、前記基板が前記基本把持ユニットから離脱して落下することを防止するように、前記基本把持ユニットの相互離隔及び接近方向に交差される方向で前記基板を把持する少なくとも一つの安全把持ユニットと、を含むことを特徴とする請求項1に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項22】
前記トランスファーは、
前記多数の基本把持ユニットと前記少なくとも一つの安全把持ユニットとが結合されるヘッド部をさらに含み、
前記多数の基本把持ユニットは、
前記ヘッド部の両側面領域に設けられ、
前記少なくとも一つの安全把持ユニットは、
前記面取り加工ユニットに向けた前記ヘッド部の前面領域に設けられることを特徴とする請求項21に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項23】
前記多数の基本把持ユニットは、
前記ヘッド部の両側面領域に2個ずつ4個設けられ、
前記少なくとも一つの安全把持ユニットは、1個設けられることを特徴とする請求項22に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項24】
前記トランスファーは、
前記2個ずつの基本把持ユニットをそれぞれ連結する一対の連結部と、
前記ヘッド部に設けられて、前記一対の連結部の移動を案内する一対の案内部と、
前記一対の連結部が、前記一対の案内部によって案内されながら相互接近及び離隔されるように前記一対の連結部を駆動させる駆動部と、をさらに含むことを特徴とする請求項23に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項25】
前記トランスファーは、
前記ヘッド部に連結される固定ロッドと、
前記固定ロッドに対して前記安全把持ユニットを回動可能に支持する回動支持部と、をさらに含むことを特徴とする請求項23に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項26】
前記多数の基本把持ユニットと前記少なくとも一つの安全把持ユニットは、
前記基板の側面に接触された状態で前記基板の下面を部分的に支えて支持できるように‘L’状を有することを特徴とする請求項21に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項27】
前記多数の基本把持ユニットと前記少なくとも一つの安全把持ユニットは、
前記基板にスクラッチの発生が防止されるようにMD−PA材質で製作可能であることを特徴とする請求項21に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項28】
前記トランスファーは、
前記基板ローディングユニットと前記基板アンローディングユニットとを繋ぐ仮想のX軸に沿って前記多数の基本把持ユニットと前記少なくとも一つの安全把持ユニットとを駆動させるX軸駆動部と、
前記X軸に交差されるY軸に沿って前記多数の基本把持ユニットと前記少なくとも一つの安全把持ユニットとを駆動させるY軸駆動部と、
前記多数の基本把持ユニットと前記少なくとも一つの安全把持ユニットとを上下方向であるZ軸に沿って駆動させるZ軸駆動部と、をさらに含むことを特徴とする請求項21に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項29】
前記面取り加工ユニットの隣接した領域に設けられ、新たな基板をローディングするために、前記基板ローディングユニット方向に移動する前記ステージの表面に前記ステージの洗浄のための洗浄流体を噴射するステージ洗浄ユニットをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項30】
前記ステージ洗浄ユニットは、
前記ステージの移動方向の横方向に沿って設けられるユニットフレームと、
前記ステージの上部領域で前記ユニットフレームに着脱可能に結合されて、前記ステージの表面に前記洗浄流体を噴射する少なくとも一つの単位洗浄部と、を含むことを特徴とする請求項29に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項31】
前記単位洗浄部から前記ステージの表面に噴射される前記洗浄流体が、前記ステージの内側から外側方向に噴射されるように、前記単位洗浄部は、ユニットフレームに傾いて結合されることを特徴とする請求項30に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項32】
前記単位洗浄部は、
前記ステージの一つ当り一対ずつ設けられるように前記ユニットフレームに結合され、
前記ステージにそれぞれ設けられる一対の前記単位洗浄部は、相互対称傾斜度を有するように前記ユニットフレームに傾いて結合されることを特徴とする請求項31に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項33】
前記単位洗浄部は、
前記ステージの表面に前記洗浄流体を噴射する噴射口が設けられている噴射胴体部と、
前記噴射胴体部が、前記ユニットフレームに対して回動可能に前記噴射胴体部を前記ユニットフレームに結合させる回動結合部と、を含むことを特徴とする請求項30に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項34】
前記噴射胴体部は、
前記回動結合部に対して回動可能に結合される回動部材と、
前記回動部材と実質的に平行な方向を有するように前記回動部材に結合され、上端部から内側方向に前記洗浄流体が移動する移動空間が陷沒形成されている噴射部材と、を含むことを特徴とする請求項33に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項35】
前記噴射胴体部は、
前記噴射部材の上端部に結合されて、前記噴射部材の内部を外部と遮蔽する遮蔽部材をさらに含み、
前記噴射口は、前記噴射部材の先端部と前記遮蔽部材の先端部とが相互離隔して結合されてスリット状に設けられることを特徴とする請求項34に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項36】
前記回動結合部は、
前記ユニットフレームに結合されるフレーム締結部材と、
前記回動部材が軸中心に回動可能に前記回動部材に結合される回動結合部材と、
前記回動部材の長手方向の横方向に設けられ、前記回動結合部材を前記フレーム締結部材に対して相対回動可能に前記フレーム締結部材及び前記回動結合部材の間を連結させる連結部材と、を含むことを特徴とする請求項34に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項37】
前記ステージ洗浄ユニットは、
前記面取り加工ユニットと前記基板アンローディングユニットとの間に設けられることを特徴とする請求項29に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項38】
面取り加工が完了した前記基板が前記基板アンローディングユニットに移送されて、前記ステージが前記基板ローディングユニット方向に移動する時、前記ステージ洗浄ユニットから前記洗浄流体が噴射されるように、前記ステージ洗浄ユニットの動作を制御する制御部をさらに含むことを特徴とする請求項29に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項39】
前記基板アンローディングユニットに設けられて、面取り加工が完了した基板に対する面取り量を測定する面取り量の測定ユニットをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項40】
前記面取り量の測定ユニットは、
前記基板アンローディングユニットの上部及び下部にそれぞれ設けられ、前記基板アンローディングユニットによって移送される前記基板の長辺または短辺の面取り量を測定する少なくとも一対の測定部を含むことを特徴とする請求項39に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項41】
前記少なくとも一対の測定部は、
前記基板アンローディングユニットによって移送される前記基板の相互平行な一対の長辺または一対の短辺を連続的に撮影する二対の撮影カメラであることを特徴とする請求項40に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項42】
前記撮影カメラは、
ラインスキャンカメラ及びエリアカメラのうち何れか一つであることを特徴とする請求項41に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項43】
前記面取り量の測定ユニットは、
前記基板の移送方向の横方向に沿って相互離隔して設けられ、前記基板の移送方向に対して前記測定部より上流に配されて前記基板上に残存可能な異物を除去する一対の異物除去部をさらに含むことを特徴とする請求項40に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項44】
前記異物除去部は、
前記基板アンローディングユニットにローディングされて移送される前記基板の長辺または短辺が通過可能に一側が開放されたトンネル構造に設けられ、一面から内側方向に異物除去のための異物除去用の作業流体が移動する移動空間が陷沒形成されている異物除去胴体と、
前記異物除去胴体に設けられ、前記移動空間を通過した前記異物除去用の作業流体を前記基板の長辺または短辺に向けて噴射させる噴射部材と、を含むことを特徴とする請求項43に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項45】
前記異物除去部は、
前記異物除去胴体の内側に配される流体移動管を保護するために、前記異物除去胴体の一面に着脱可能に結合される遮蔽部材をさらに含み、
前記噴射部材と前記遮蔽部材は、相互離隔して結合されて前記移動空間と外部とを連通させる噴射出口を形成することを特徴とする請求項44に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項46】
前記噴射出口は、
前記異物除去胴体の上端と下端とを繋ぐ仮想の線に対して傾いて設けられることを特徴とする請求項45に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項47】
前記面取り量の測定ユニットは、
前記基板ローディングユニットと前記基板アンローディングユニットとを繋ぐ仮想のX軸に交差するY軸に沿って設けられる測定支持フレームと、
前記Y軸に沿って移動可能に前記測定支持フレームに結合され、前記測定部が搭載される移動フレームと、を含むことを特徴とする請求項43に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項48】
前記面取り量の測定ユニットは、
前記移動フレーム上で前記測定部を前記基板アンローディングユニットに対して接近及び離隔させる昇降駆動部をさらに含むことを特徴とする請求項47に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項49】
前記異物除去部は、
前記移動フレームに結合され、
前記作業流体は、
異物除去用のガスであることを特徴とする請求項47に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項50】
前記第2面取り加工用のホイールによる前記第1面両側コーナーに対する面取り加工時、前記第1面取り加工用のホイールが、前記第1辺エッジの面取り加工のための作業位置に移動するように前記第1面取り加工用のホイールを制御する制御部をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項51】
第1面取り加工用のホイールによって基板の第1辺エッジが面取り加工される段階と、
前記第1面取り加工用のホイールに対して相互離隔配された第2面取り加工用のホイールによって前記基板の第1面両側コーナーが面取り加工される段階と、を含むことを特徴とする平面ディスプレイ用の面取り加工方法。
【請求項52】
前記第1面取り加工用のホイールによって前記基板の第2面両側コーナーが面取り加工される段階をさらに含むことを特徴とする請求項51に記載の平面ディスプレイ用の面取り加工方法。
【請求項53】
前記基板が回転する段階と、
前記第2面取り加工用のホイールによって前記基板の第2辺エッジが面取り加工される段階と、をさらに含むことを特徴とする請求項52に記載の平面ディスプレイ用の面取り加工方法。
【請求項54】
前記第1辺及び前記第2辺は、前記基板の両側短辺及び両側長辺であり、
前記第1面及び前記第2面は、前記基板の前面両側のコーナー及び後面両側のコーナーであることを特徴とする請求項53に記載の平面ディスプレイ用の面取り加工方法。
【請求項55】
前記第1面取り加工用のホイールによる前記第1辺エッジに対する面取り加工時、前記第2面取り加工用のホイールが、前記基板の第1面両側コーナーの面取り加工のための作業位置に移動する段階をさらに含むことを特徴とする請求項51に記載の平面ディスプレイ用の面取り加工方法。
【請求項56】
前記第2面取り加工用のホイールによる前記第1面両側コーナーに対する面取り加工時、前記第1面取り加工用のホイールが、前記第1辺エッジの面取り加工のための作業位置に移動する段階をさらに含むことを特徴とする請求項51に記載の平面ディスプレイ用の面取り加工方法。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【公開番号】特開2009−285822(P2009−285822A)
【公開日】平成21年12月10日(2009.12.10)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2008−250855(P2008−250855)
【出願日】平成20年9月29日(2008.9.29)
【出願人】(508292327)エスエフエー エンジニアリング コーポレーション (4)
【氏名又は名称原語表記】SFA ENGINEERING CORP.
【住所又は居所原語表記】166,Sinhang−ri,Dunpo−myeon,Asan−si,Chungcheongnam−do,Republic of Korea
【Fターム(参考)】
【公開日】平成21年12月10日(2009.12.10)
【国際特許分類】
【出願日】平成20年9月29日(2008.9.29)
【出願人】(508292327)エスエフエー エンジニアリング コーポレーション (4)
【氏名又は名称原語表記】SFA ENGINEERING CORP.
【住所又は居所原語表記】166,Sinhang−ri,Dunpo−myeon,Asan−si,Chungcheongnam−do,Republic of Korea
【Fターム(参考)】
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