感光性ドライフィルムレジスト及びその利用
【課題】本発明は、絶縁保護層に用いることが可能で、高感度及び高解像度に現像することができる感光性ドライフィルムレジストおよびその利用を提供する。
【解決手段】（Ａ１）バインダーポリマー、（Ｂ１）（メタ）アクリル系化合物、（Ｃ１）光反応開始剤、及び（Ｄ１）難燃剤を必須成分として含有する第１感光層と、（Ａ２）バインダーポリマー、及び（Ｂ２)（メタ）アクリル系化合物を必須成分として含有する第２感光層とを含む多層構造とする。さらに、上記第２感光層の全重量に対する（Ｄ２）難燃剤の割合を、上記第１感光層の全重量に対する（Ｄ１）難燃剤の割合よりも小さくし、かつ、上記第２感光層の全重量に対する（Ｃ２）光反応開始剤の割合を、上記第１感光層の全重量に対する（Ｃ１）光反応開始剤の割合以下とする。
【解決手段】（Ａ１）バインダーポリマー、（Ｂ１）（メタ）アクリル系化合物、（Ｃ１）光反応開始剤、及び（Ｄ１）難燃剤を必須成分として含有する第１感光層と、（Ａ２）バインダーポリマー、及び（Ｂ２)（メタ）アクリル系化合物を必須成分として含有する第２感光層とを含む多層構造とする。さらに、上記第２感光層の全重量に対する（Ｄ２）難燃剤の割合を、上記第１感光層の全重量に対する（Ｄ１）難燃剤の割合よりも小さくし、かつ、上記第２感光層の全重量に対する（Ｃ２）光反応開始剤の割合を、上記第１感光層の全重量に対する（Ｃ１）光反応開始剤の割合以下とする。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ１）バインダーポリマー、（Ｂ１）（メタ）アクリル系化合物、（Ｃ１）光反応開始剤、及び（Ｄ１）難燃剤を必須成分として含有する第１感光層と、
（Ａ２）バインダーポリマー、及び（Ｂ２)（メタ）アクリル系化合物を必須成分として含有する第２感光層と、を含む多層構造からなり、
上記第２感光層の全重量に対する（Ｄ２）難燃剤の割合は、上記第１感光層の全重量に対する（Ｄ１）難燃剤の割合よりも小さく、
上記第２感光層の全重量に対する（Ｃ２）光反応開始剤の割合は、上記第１感光層の全重量に対する（Ｃ１）光反応開始剤の割合以下であることを特徴とする感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項２】
上記第２感光層の全重量に対する（Ｄ２）難燃剤の割合は、０重量％〜１０重量％であり、かつ、該（Ｄ２）難燃剤の割合は、第１感光層の全重量に対する（Ｄ１）難燃剤の割合の０％〜５０％以下であることを特徴とする請求項１に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項３】
上記第２感光層は、（Ｃ２）光反応開始剤を必須成分として含有することを特徴とする請求項１または２に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項４】
上記（Ｃ１）光反応開始剤及び（Ｃ２）光反応開始剤のうち、少なくとも一方は、オキシムエステル系化合物を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項５】
上記（Ｄ１）難燃剤及び（Ｄ２）難燃剤のうち、少なくとも一方は、リン系化合物を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項６】
上記（Ａ１）バインダーポリマー及び（Ａ２）バインダーポリマーのうち、少なくとも一方は、カルボキシル基含有ビニル系ポリマーを含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項７】
上記（Ａ１）バインダーポリマー及び（Ａ２）バインダーポリマーのうち、少なくとも一方は、ポリアミド酸を含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項８】
上記ポリアミド酸は、下記一般式（１）
【化１】
（式中、Ｒ１はそれぞれ独立して、炭素数１〜５の炭化水素を表し、Ｒ２はそれぞれ独立して、炭素数１〜５のアルキル基又はフェニル基から選ばれる有機基を表し、ｎは１〜２０の整数を表す。）
で表されるポリシロキサンジアミンを原料の一部として用いたポリアミド酸であることを特徴とする請求項７に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項９】
上記ポリアミド酸は、下記一般式（２）
【化２】
（式中、Ｒ１は４価の有機基を示し、Ｒ２はそれぞれ独立して、炭素数２〜５のアルキレン基を示し、Ｒ３はそれぞれ独立して、メチル基又はフェニル基を示し、Ｒ３中のフェニル基の含有率が１５％〜４０％であり、且つ、ｍは４〜２０の整数である。）
で表される構成単位と、
下記一般式（３）
【化３】
（式中、Ｒ４は４価の有機基を示し、Ｒ５は、芳香族ジアミンから２個のアミノ基を除いた２価の有機基を示す。）
で表される構成単位とからなるポリアミド酸であることを特徴とする請求項７に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項１０】
上記ポリアミド酸は、下記一般式（４）
【化４】
（式中、Ｒ６は４価の有機基を示し、Ｒ７は、下記化学式群（５）
【化５】
で表されるａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ又はｇであり、化学式ａ中、ｍは１〜２０のいずれかの整数を、ｎは０〜１０のいずれかの整数を示し、化学式ｆ中、Ｒ８は水素原子、メチル基、エチル基又はブチル基を示す。）
で表される構成単位をさらに有することを特徴とする請求項９に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項１１】
上記ポリアミド酸は、下記一般式（４）
【化６】
（式中、Ｒ６は４価の有機基を示し、Ｒ７は、下記化学式群（５）
【化７】
で表されるａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ又はｇであり、化学式ａ中、ｍは１〜２０のいずれかの整数を、ｎは０〜１０のいずれかの整数を示し、化学式ｆ中、Ｒ８は水素原子、メチル基、エチル基又はブチル基を示す。）
で表される構成単位と、
下記一般式（３）
【化８】
（式中、Ｒ４は４価の有機基を示し、Ｒ５は、芳香族ジアミンから２個のアミノ基を除いた２価の有機基を示す。）
で表される構成単位とからなるポリアミド酸であることを特徴とする請求項７に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項１２】
上記一般式（３）で表される構成単位は、上記一般式（３）中、Ｒ５の２価の有機基において、上記２個のアミノ基が結合していた芳香環の少なくともひとつが、メタ位に位置する２本の結合手で主鎖に結合している構成単位を含むことを特徴とする請求項９〜１１のいずれか１項に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項１３】
上記一般式（３）中、Ｒ５の２価の有機基は、
ｍ−フェニレンジアミン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノジフェニルスルフィド、３，３’−ジアミノジフェニルスルフォン、３，３’−ジアミノベンズアニリド、２，２−ビス（３−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、２，２−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、１，４−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（３−アミノフェノキシ）−ビフェニル、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、及び２，２−ビス（３−アミノフェニル）プロパンからなる群より選択される芳香族ジアミンから、２個のアミノ基を除いた２価の有機基であることを特徴とする請求項９〜１２のいずれか１項に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項１４】
上記（Ａ１）バインダーポリマー及び（Ａ２）バインダーポリマーのうち、少なくとも一方は、カルボキシル基及び／又は水酸基を有する可溶性ポリイミドを含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項１５】
上記カルボキシル基及び／又は水酸基を有する可溶性ポリイミドは、
下記一般式（１）
【化９】
（式中、Ｒ１はそれぞれ独立して、炭素数１〜５の炭化水素を表し、Ｒ２はそれぞれ独立して、炭素数１〜５のアルキル基又はフェニル基から選ばれる有機基を表し、ｎは１〜２０の整数を表す。）
で表されるポリシロキサンジアミンを原料の一部として用いたカルボキシル基及び／又は水酸基を有する可溶性ポリイミドであることを特徴とする請求項１４に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項１６】
上記多層構造において、上記第２感光層は、最外層に位置していることを特徴とする請求項１〜１５のいずれか１項に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項１７】
上記第１感光層の厚みを１００とした場合、上記第２感光層の厚みは、５００以下であることを特徴とする請求項１〜１６のいずれか１項に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項１８】
請求項１〜１７のいずれか１項に記載の感光性ドライフィルムレジストを絶縁保護層として用いていることを特徴とするプリント配線板。
【請求項１９】
上記第２感光層は、回路面と接触していることを特徴とする請求項１８に記載のプリント配線板。
【請求項２０】
請求項１〜１７のいずれか１項に記載の感光性ドライフィルムレジストを１８０℃以下の温度で硬化させることを特徴とするプリント配線板の製造方法。
【請求項１】
（Ａ１）バインダーポリマー、（Ｂ１）（メタ）アクリル系化合物、（Ｃ１）光反応開始剤、及び（Ｄ１）難燃剤を必須成分として含有する第１感光層と、
（Ａ２）バインダーポリマー、及び（Ｂ２)（メタ）アクリル系化合物を必須成分として含有する第２感光層と、を含む多層構造からなり、
上記第２感光層の全重量に対する（Ｄ２）難燃剤の割合は、上記第１感光層の全重量に対する（Ｄ１）難燃剤の割合よりも小さく、
上記第２感光層の全重量に対する（Ｃ２）光反応開始剤の割合は、上記第１感光層の全重量に対する（Ｃ１）光反応開始剤の割合以下であることを特徴とする感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項２】
上記第２感光層の全重量に対する（Ｄ２）難燃剤の割合は、０重量％〜１０重量％であり、かつ、該（Ｄ２）難燃剤の割合は、第１感光層の全重量に対する（Ｄ１）難燃剤の割合の０％〜５０％以下であることを特徴とする請求項１に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項３】
上記第２感光層は、（Ｃ２）光反応開始剤を必須成分として含有することを特徴とする請求項１または２に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項４】
上記（Ｃ１）光反応開始剤及び（Ｃ２）光反応開始剤のうち、少なくとも一方は、オキシムエステル系化合物を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項５】
上記（Ｄ１）難燃剤及び（Ｄ２）難燃剤のうち、少なくとも一方は、リン系化合物を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項６】
上記（Ａ１）バインダーポリマー及び（Ａ２）バインダーポリマーのうち、少なくとも一方は、カルボキシル基含有ビニル系ポリマーを含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項７】
上記（Ａ１）バインダーポリマー及び（Ａ２）バインダーポリマーのうち、少なくとも一方は、ポリアミド酸を含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項８】
上記ポリアミド酸は、下記一般式（１）
【化１】
（式中、Ｒ１はそれぞれ独立して、炭素数１〜５の炭化水素を表し、Ｒ２はそれぞれ独立して、炭素数１〜５のアルキル基又はフェニル基から選ばれる有機基を表し、ｎは１〜２０の整数を表す。）
で表されるポリシロキサンジアミンを原料の一部として用いたポリアミド酸であることを特徴とする請求項７に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項９】
上記ポリアミド酸は、下記一般式（２）
【化２】
（式中、Ｒ１は４価の有機基を示し、Ｒ２はそれぞれ独立して、炭素数２〜５のアルキレン基を示し、Ｒ３はそれぞれ独立して、メチル基又はフェニル基を示し、Ｒ３中のフェニル基の含有率が１５％〜４０％であり、且つ、ｍは４〜２０の整数である。）
で表される構成単位と、
下記一般式（３）
【化３】
（式中、Ｒ４は４価の有機基を示し、Ｒ５は、芳香族ジアミンから２個のアミノ基を除いた２価の有機基を示す。）
で表される構成単位とからなるポリアミド酸であることを特徴とする請求項７に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項１０】
上記ポリアミド酸は、下記一般式（４）
【化４】
（式中、Ｒ６は４価の有機基を示し、Ｒ７は、下記化学式群（５）
【化５】
で表されるａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ又はｇであり、化学式ａ中、ｍは１〜２０のいずれかの整数を、ｎは０〜１０のいずれかの整数を示し、化学式ｆ中、Ｒ８は水素原子、メチル基、エチル基又はブチル基を示す。）
で表される構成単位をさらに有することを特徴とする請求項９に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項１１】
上記ポリアミド酸は、下記一般式（４）
【化６】
（式中、Ｒ６は４価の有機基を示し、Ｒ７は、下記化学式群（５）
【化７】
で表されるａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ又はｇであり、化学式ａ中、ｍは１〜２０のいずれかの整数を、ｎは０〜１０のいずれかの整数を示し、化学式ｆ中、Ｒ８は水素原子、メチル基、エチル基又はブチル基を示す。）
で表される構成単位と、
下記一般式（３）
【化８】
（式中、Ｒ４は４価の有機基を示し、Ｒ５は、芳香族ジアミンから２個のアミノ基を除いた２価の有機基を示す。）
で表される構成単位とからなるポリアミド酸であることを特徴とする請求項７に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項１２】
上記一般式（３）で表される構成単位は、上記一般式（３）中、Ｒ５の２価の有機基において、上記２個のアミノ基が結合していた芳香環の少なくともひとつが、メタ位に位置する２本の結合手で主鎖に結合している構成単位を含むことを特徴とする請求項９〜１１のいずれか１項に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項１３】
上記一般式（３）中、Ｒ５の２価の有機基は、
ｍ−フェニレンジアミン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノジフェニルスルフィド、３，３’−ジアミノジフェニルスルフォン、３，３’−ジアミノベンズアニリド、２，２−ビス（３−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、２，２−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、１，４−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（３−アミノフェノキシ）−ビフェニル、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、及び２，２−ビス（３−アミノフェニル）プロパンからなる群より選択される芳香族ジアミンから、２個のアミノ基を除いた２価の有機基であることを特徴とする請求項９〜１２のいずれか１項に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項１４】
上記（Ａ１）バインダーポリマー及び（Ａ２）バインダーポリマーのうち、少なくとも一方は、カルボキシル基及び／又は水酸基を有する可溶性ポリイミドを含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項１５】
上記カルボキシル基及び／又は水酸基を有する可溶性ポリイミドは、
下記一般式（１）
【化９】
（式中、Ｒ１はそれぞれ独立して、炭素数１〜５の炭化水素を表し、Ｒ２はそれぞれ独立して、炭素数１〜５のアルキル基又はフェニル基から選ばれる有機基を表し、ｎは１〜２０の整数を表す。）
で表されるポリシロキサンジアミンを原料の一部として用いたカルボキシル基及び／又は水酸基を有する可溶性ポリイミドであることを特徴とする請求項１４に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項１６】
上記多層構造において、上記第２感光層は、最外層に位置していることを特徴とする請求項１〜１５のいずれか１項に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項１７】
上記第１感光層の厚みを１００とした場合、上記第２感光層の厚みは、５００以下であることを特徴とする請求項１〜１６のいずれか１項に記載の感光性ドライフィルムレジスト。
【請求項１８】
請求項１〜１７のいずれか１項に記載の感光性ドライフィルムレジストを絶縁保護層として用いていることを特徴とするプリント配線板。
【請求項１９】
上記第２感光層は、回路面と接触していることを特徴とする請求項１８に記載のプリント配線板。
【請求項２０】
請求項１〜１７のいずれか１項に記載の感光性ドライフィルムレジストを１８０℃以下の温度で硬化させることを特徴とするプリント配線板の製造方法。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２００９−２５４８２（Ｐ２００９−２５４８２Ａ）
【公開日】平成２１年２月５日（２００９．２．５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−１８７３７１（Ｐ２００７−１８７３７１）
【出願日】平成１９年７月１８日（２００７．７．１８）
【出願人】（００００００９４１）株式会社カネカ (3,932)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年２月５日（２００９．２．５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年７月１８日（２００７．７．１８）
【出願人】（００００００９４１）株式会社カネカ (3,932)
【Ｆターム（参考）】
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