描画装置及び描画方法
【課題】 高精度に描画を行う。
【解決手段】 保持面を備え、保持面に基板を保持するステージと、保持面に保持された基板に向けて液滴を吐出する第１及び第２の吐出領域とを有し、保持面に保持された基板と、第１の吐出領域との間の距離、及び、保持面に保持された基板と、第２の吐出領域との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持する描画装置であって、ステージは、保持面内の第１の方向に、第１及び第２の吐出領域との間で相対的に移動可能に基板を保持し、第２の吐出領域は、第１の吐出領域の、第１の方向と保持面内で交差する方向と平行な方向側に配置され、第１、第２の吐出領域は、それぞれ保持面と交差する第２、第３の方向と平行な方向に、基板との間で相対的な移動が可能であり、更に、基板の反りに応じて、基板の第１の方向への相対的な移動、及び、第１、第２の吐出領域の第２、第３の方向と平行な方向への相対的な移動を制御する制御装置を含む描画装置を提供する。
【解決手段】 保持面を備え、保持面に基板を保持するステージと、保持面に保持された基板に向けて液滴を吐出する第１及び第２の吐出領域とを有し、保持面に保持された基板と、第１の吐出領域との間の距離、及び、保持面に保持された基板と、第２の吐出領域との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持する描画装置であって、ステージは、保持面内の第１の方向に、第１及び第２の吐出領域との間で相対的に移動可能に基板を保持し、第２の吐出領域は、第１の吐出領域の、第１の方向と保持面内で交差する方向と平行な方向側に配置され、第１、第２の吐出領域は、それぞれ保持面と交差する第２、第３の方向と平行な方向に、基板との間で相対的な移動が可能であり、更に、基板の反りに応じて、基板の第１の方向への相対的な移動、及び、第１、第２の吐出領域の第２、第３の方向と平行な方向への相対的な移動を制御する制御装置を含む描画装置を提供する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液滴を吐出してパターンを描画する描画装置及び描画方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶基板やプリント配線板のパターン形成面に、パターン形成用材料を含んだ液状材料（インク）を吐出ヘッド（インクジェットヘッド）から液滴として吐出して、基板上に材料層を成膜（描画）する技術が知られている。
【０００３】
基板上に描画される材料層により、たとえばソルダーレジストパターンが形成される。ソルダーレジストは、基材に導体配線が形成されたプリント配線板のはんだ付けのために、必要な導体部分を露出し、はんだ付けが不要な部分にはんだが付かないように配線板上に形成される絶縁膜である。
【０００４】
液晶基板には反りがほとんどない。このため、液晶基板に描画を行う際には、インクジェットヘッドと基板との間の距離は一定に保たれ、高精度の描画が可能である。しかしながらプリント配線板には反りがある。
【０００５】
図８（Ａ）及び（Ｂ）はプリント配線板の反りを示す概略的な断面図である。図８（Ａ）には、プリント配線板１０の中央部が盛り上がる態様の反りを示した。また、図８（Ｂ）には、プリント配線板１０の端部が反り上がる態様の反りを示した。両図における反り量ｈは、たとえば０．１ｍｍ〜０．５ｍｍである。なお、プリント配線板１０のサイズは一例として、縦３００ｍｍ〜５００ｍｍ、横４００ｍｍ〜６００ｍｍ、厚さ０．５ｍｍ〜５ｍｍである。
【０００６】
このように反りを有するプリント配線板１０を、たとえば１次元方向に移動させながら、インクジェットヘッドからインクを吐出して材料層を形成する場合、インクジェットヘッドとプリント配線板１０との間の距離が反りに起因して変動し、インクの着弾位置及び着弾サイズが安定せず、描画精度が悪化する。
【０００７】
インクの着弾精度が基板の各所において異なる場合であっても、各所でインクジェットヘッドと基板との相対位置を補正して、液滴の着弾精度を向上させる描画装置の発明が開示されている（たとえば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特許第３９８２５０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、高精度の描画が可能な描画装置及び描画方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一観点によると、保持面を備え、該保持面に基板を保持するステージと、前記保持面に保持された基板に向けて液滴を吐出する第１及び第２の吐出領域とを有し、前記保持面に保持された基板と、前記第１の吐出領域との間の距離、及び、前記保持面に保持された基板と、前記第２の吐出領域との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持する描画装置であって、前記ステージは、前記保持面内の第１の方向に、前記第１及び第２の吐出領域との間で相対的に移動可能に前記基板を保持し、前記第２の吐出領域は、前記第１の吐出領域の、前記第１の方向と前記保持面内で交差する方向と平行な方向側に配置され、前記第１、第２の吐出領域は、それぞれ前記保持面と交差する第２、第３の方向と平行な方向に、前記基板との間で相対的な移動が可能であり、更に、前記基板の反りに応じて、前記基板の前記第１の方向への相対的な移動、及び、前記第１、第２の吐出領域の前記第２、第３の方向と平行な方向への相対的な移動を制御する制御装置を含む描画装置が提供される。
【００１１】
また、本発明の他の観点によると、保持面を備え、該保持面に基板を保持するステージと、前記保持面に保持された基板に向けて液滴を吐出する第１及び第２の吐出領域とを有し、前記保持面に保持された基板と、前記第１の吐出領域との間の距離、及び、前記保持面に保持された基板と、前記第２の吐出領域との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持する描画装置であって、前記ステージは、前記保持面内の第１の方向に、前記第１及び第２の吐出領域との間で相対的に移動可能に前記基板を保持し、前記第２の吐出領域は、前記第１の吐出領域の、前記第１の方向と前記保持面内で交差する方向と平行な方向側に配置され、更に、前記第１及び第２の吐出領域を基準として前記第１の方向とは反対方向側に配置され、前記ステージ上で、前記基板を前記第１の方向に移動可能に押圧するローラであって、前記第１の方向と前記保持面内で直交する方向と平行な方向に沿う長さが、前記第１及び第２の吐出領域を含む吐出領域の同方向に沿う長さよりも短いローラとを含む描画装置が提供される。
【００１２】
更に、本発明の他の観点によると、保持面を備え、該保持面に基板を保持するステージと、前記保持面に保持された基板に向けて液滴を吐出する第１及び第２の吐出領域とを有し、前記保持面に保持された基板と、前記第１の吐出領域との間の距離、及び、前記保持面に保持された基板と、前記第２の吐出領域との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持する描画装置であって、前記ステージは、貫通孔が形成された基板を前記保持面に保持し、該基板を吸引可能な複数の吸引穴であって、吸引穴ごとに基板を吸引するか否かの制御が可能な複数の吸引穴を備え、更に、前記吸引穴ごとに基板を吸引するか否かの制御を行う制御装置であって、前記基板の貫通孔の下に配置される吸引穴では吸引せず、配置されない吸引穴で吸引するように制御を行う制御装置とを有する描画装置が提供される。
【００１３】
また、本発明の他の観点によると、保持面を備え、該保持面に基板を保持するステージと、前記保持面に保持された基板に向けて液滴を吐出する第１及び第２の吐出領域とを有し、前記保持面に保持された基板と、前記第１の吐出領域との間の距離、及び、前記保持面に保持された基板と、前記第２の吐出領域との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持する描画装置を用いて行う描画方法であって、（ａ）前記基板の反りを把握する工程と、（ｂ）前記基板の反りに応じ、前記第１及び第２の吐出領域の位置を、前記基板が全体として延在する平面と交差する方向に、前記基板との間でそれぞれ相対的に変化させて、前記第１及び第２の吐出領域から前記基板に向けて液滴を吐出する工程とを有する描画方法が提供される。
【００１４】
更に、本発明の他の観点によると、保持面を備え、該保持面に基板を保持するステージと、前記保持面に保持された基板に向けて液滴を吐出する第１及び第２の吐出領域とを有し、前記保持面に保持された基板と、前記第１の吐出領域との間の距離、及び、前記保持面に保持された基板と、前記第２の吐出領域との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持する描画装置を用いて行う描画方法であって、（ａ）基板を準備する工程と、（ｂ）前記基板を、前記第１及び第２の吐出領域との間で相対的に第１の方向に移動させながら、前記第１及び第２の吐出領域から前記基板に向けて液滴を吐出する工程とを有し、前記工程（ｂ）において、前記第１及び第２の吐出領域を基準として、前記第１の方向とは反対方向側で、かつ、前記基板が全体として延在する平面内で前記第１の方向と直交する方向に沿う長さが、前記第１及び第２の吐出領域を含む吐出領域の同方向に沿う長さよりも短い範囲で、前記基板を前記第１の方向に移動可能に押圧する描画方法が提供される。
【００１５】
また、本発明の他の観点によると、保持面を備え、該保持面に基板を保持するステージと、前記保持面に保持された基板に向けて液滴を吐出する第１及び第２の吐出領域とを有し、前記保持面に保持された基板と、前記第１の吐出領域との間の距離、及び、前記保持面に保持された基板と、前記第２の吐出領域との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持する描画装置を用いて行う描画方法であって、（ａ）貫通孔が形成された基板を準備する工程と、（ｂ）前記第１及び第２の吐出領域から前記基板に向けて液滴を吐出する工程とを有し、前記工程（ｂ）において、貫通孔の形成された位置の前記基板を吸引せず、貫通孔の形成されない位置の前記基板を吸引した状態で、前記基板に向けて液滴を吐出する描画方法が提供される。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、高精度の描画が可能な描画装置及び描画方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】第１の実施例による描画装置を示す概略図である。
【図２】インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄの近傍を示す、描画装置の概略的な平面図である。
【図３】（Ａ）及び（Ｂ）は、インクジェットヘッドユニットの液滴吐出面を示す概略図である。
【図４】第１の実施例による描画装置の一部を示す概略図である。
【図５】第２の実施例による描画装置の一部を示す概略図である。
【図６】（Ａ）及び（Ｂ）は、第３の実施例による描画装置の一部を示す概略図である。
【図７】（Ａ）及び（Ｂ）は、第４の実施例による描画装置の一部を示す概略図である。
【図８】（Ａ）及び（Ｂ）はプリント配線板の反りを示す概略的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
図１〜図４を参照して、第１の実施例による描画装置について説明する。
【００１９】
図１は第１の実施例による描画装置を示す概略図である。第１の実施例による描画装置は、水平に（ＸＹ平面に平行な面内に）設置された定盤２０、定盤２０上に配置されたステージ２２、定盤２０に固定され、Ｙ軸方向に沿って見たとき、ステージ２２を門型に囲むように配置されたフレーム２１、フレーム２１に保持されたインクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄ、及び、描画装置の動作を制御する制御装置４０を含む。
【００２０】
ステージ２２は、定盤２０側から順に配置されるＹステージ２２ｙ、Ｘステージ２２ｘ、θステージ２２θ、及びチャックプレート２２ａを含む。チャックプレート２２ａは、プリント配線板（基板）５０を吸着保持する。θステージ２２θは、保持されたプリント配線板５０を、ＸＹ平面に平行な面内で、Ｚ軸に平行な回転軸の周囲に回転させる。Ｘステージ２２ｘ、Ｙステージ２２ｙは、それぞれプリント配線板５０を、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向に移動させることができる。チャックプレート２２ａによるプリント配線板５０の吸着、Ｘ、Ｙ、θステージ２２ｘ、２２ｙ、２２θによるプリント配線板５０の移動は、制御装置４０によって制御される。
【００２１】
フレーム２１は、２本の支柱２１ａ、２１ｂ、及びコラム２１ｃを含む。支柱２１ａ、２１ｂは、定盤２０のＹ軸方向の略中央に立設される。コラム２１ｃは、Ｘ軸方向に沿うように、支柱２１ａ、２１ｂに支持される。
【００２２】
インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄは、フレーム２１のコラム２１ｃに、Ｚ軸方向に移動可能に保持されている。インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄは、それぞれ複数のインクジェットヘッドを含む。インクジェットヘッドは、たとえば紫外線硬化性のインク（パターン形成用材料を含んだ液状材料）をステージ２２に保持されたプリント配線板５０に向けて吐出（滴下）する。吐出されたインクにより、プリント配線板５０上に所定パターンの材料層、たとえばソルダーレジストパターンが成膜（描画）される。
【００２３】
制御装置４０は、たとえばメモリである記憶装置４０ａを含む。記憶装置４０ａには、プリント配線板５０上においてソルダーレジストを形成すべき領域（インクを塗布すべき領域）等のデータ（ガーバデータ）が記憶されている。制御装置４０は、記憶装置４０ａの記憶内容に基いて、プリント配線板５０上の所定領域にインクが塗布されるように、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄからのインクの吐出、及びステージ２２による配線板５０の移動を制御する。プリント配線板５０は、Ｙ軸正方向に移動され、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄの鉛直下方（Ｚ軸負方向）においてインクを塗布される。
【００２４】
第１の実施例による描画装置は、ステージ２２上に移動可能に保持されたプリント配線板５０上に、たとえば所定パターンのソルダーレジストを形成する液滴吐出装置（インクジェット装置）である。
【００２５】
図２は、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄの近傍を示す、描画装置の概略的な平面図である。各インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄは、Ｙ軸方向に沿って配置される複数のノズル列を備える。各ノズル列は、Ｘ軸方向に沿って配列された複数の、たとえば１９２個のインクジェットノズル（インク吐出穴）によって構成される。各ノズル列のＸ軸方向に沿う長さは、たとえば約３０ｍｍである。インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄは、全体として見たとき、たとえばインクジェットノズルがＸ軸方向に等間隔に配置されるように設置される。このため、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄは、インクジェットノズルからインクを吐出して、Ｙ軸正方向に移動中のプリント配線板５０の幅約１２０ｍｍの範囲（Ｘ軸方向に沿う範囲）に、描画を行うことができる。
【００２６】
各ユニット２３ａ〜２３ｄには、ノズル列の両側に余白部が設けられているので、インクジェットノズルをＸ軸方向に等間隔に配置するために、Ｘ軸方向に隣り合うユニット（一例としてユニット２３ａとユニット２３ｂ）は、Ｙ軸方向にたとえば２０ｍｍの間隔を設けて配置される。この結果、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄは、たとえば互い違いに２列に組まれて、全体としてＸ軸方向に延在するように配置される。なお、相互に異なるインクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄは、プリント配線板５０の移動方向であるＹ軸正方向とＸＹ平面内で交差する方向と平行な方向側に配置される。
【００２７】
各ユニット２３ａ〜２３ｄのＹ軸負方向（プリント配線板５０の移動方向とは反対方向）側に、それぞれ高さセンサ２４ａ〜２４ｄが配置される。インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄと高さセンサ２４ａ〜２４ｄは、たとえばＹ軸方向に４０ｍｍ〜５０ｍｍ以上離れている。
【００２８】
高さセンサ２４ａ〜２４ｄは、たとえばレーザ変位計であり、センサ２４ａ〜２４ｄ設置位置の鉛直下方（Ｚ軸負方向）に沿う距離（高さ）を、たとえば１０μｍ程度の誤差範囲で計測することができる。ステージ２２にプリント配線板５０が保持されているとき、高さセンサ２４ａ〜２４ｄによって、センサ２４ａ〜２４ｄから、その鉛直下方のプリント配線板５０上の位置までの距離（高さ）が計測される。計測された高さのデータは、制御装置４０に送信される。
【００２９】
図３（Ａ）及び（Ｂ）は、インクジェットヘッドユニットの液滴吐出面を示す概略図である。図３（Ａ）に示すように、インクジェットヘッドユニット２３ａは、たとえば同構成のインクジェットヘッド２３ａ１〜２３ａ４を含んで構成される。インクジェットヘッド２３ａ１〜２３ａ４は、順に相対位置をＸ軸負方向にずらされながら、全体としてＹ軸方向に沿って配置されている。
【００３０】
図３（Ｂ）にインクジェットヘッドの詳細を示した。インクジェットヘッド２３ａ１は２列のノズル列を含み、同一ノズル列のノズルはＸ軸方向に沿って１６０μｍ間隔で配置される。Ｙ軸正方向側のノズル列は、Ｙ軸負方向側のノズル列に対し、ノズルの配置位置がＸ軸負方向に８０μｍずれるように形成されている。このためインクジェットヘッド２３ａ１は、Ｘ軸方向に８０μｍ間隔で千鳥配列される３８４個のインクジェットノズルを含む。各インクジェットノズルはピエゾ素子を含んで構成され、電圧の印加に応じてインクを吐出する。インクの吐出（電圧の印加）は制御装置４０によって制御される。
【００３１】
インクジェットヘッド２３ａ２はインクジェットヘッド２３ａ１に対し、２０μｍだけＸ軸負方向側に配置される。同様にインクジェットヘッド２３ａ３、ａ４は、それぞれインクジェットヘッド２３ａ２、ａ３に対し、２０μｍだけＸ軸負方向側に配置される。この結果、インクジェットヘッドユニット２３ａは、Ｘ軸方向に２０μｍ間隔で配置されるノズルを備える。
【００３２】
インクジェットヘッドユニット２３ｂ〜２３ｄも、インクジェットヘッドユニット２３ａと等しい構成を有する。したがって第１の実施例による描画装置は、Ｘ軸方向に沿う１２０ｍｍの範囲に、２０μｍの分解能をもつインクジェットノズル群を備える。
【００３３】
図４は、第１の実施例による描画装置の一部を示す概略図である。ボールネジ２５ｄは、連結部材２８ａを介してコラム２１ｃに固定されている。インクジェットヘッドユニット２３ｄは、ボールネジ２５ｄに、モータ２６ｄの発生する駆動力によってＺ軸方向に移動可能に、保持されている。インクジェットヘッドユニット２３ｄのＺ軸方向の移動は制御装置４０によって制御される。
【００３４】
プリント配線板５０は、たとえば３００ｍｍ／秒でＹ軸正方向に移動される。インクジェットヘッドユニット２３ｄのＹ軸負方向側に配置された高さセンサ２４ｄは、プリント配線板５０表面までの距離（高さ）を計測し、計測されたデータを制御装置４０に送信する。制御装置４０は、高さセンサ２４ｄで計測された高さに基づいて、インクジェットヘッドユニット２３ｄの液滴吐出面から、プリント配線板５０までの距離が一定、たとえば０．５ｍｍとなるように、ステージ２２によるプリント配線板５０の移動、及び、インクジェットヘッドユニット２３ｄのＺ軸方向の移動を制御する。たとえば位置Ｐ、Ｑがそれぞれ高さセンサ２４ｄのＺ軸負方向に配置されたとき、高さセンサ２４ｄによって、プリント配線板５０までの高さがｐ、ｑと計測された場合、インクジェットヘッドユニット２３ｄは、位置Ｑにインク５１を吐出するときは位置Ｐに吐出するときより、Ｚ軸正方向にｐ−ｑだけ移動される。インクジェットヘッドユニット２３ｄは、その鉛直下方のプリント配線板５０の反りに沿って、Ｚ軸方向に上下しながらインク５１を吐出する。
【００３５】
インクジェットヘッドユニット２３ｄから吐出され、配線板５０上に塗布されたインク５１は、たとえばインクジェットヘッドユニット２３ｄのＹ軸正方向側に、連結部材２８ｃを介して配置された光源２７から出射される紫外光によって、表面部を硬化（仮硬化）される。光源２７による紫外光の出射は、制御装置４０により制御される。
【００３６】
図４にはインクジェットヘッドユニット２３ｄを示したが、他のインクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｃについても同様である。インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｃは、ボールネジ２５ａ〜２５ｃに、モータ２６ａ〜２６ｃの発生する駆動力によって、それぞれ独立にＺ軸方向に移動可能に、保持されている。ボールネジ２５ａ〜２５ｃは、連結部材２８ａを介してコラム２１ｃに固定されている。インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｃのＺ軸方向の移動は制御装置４０によって制御される。インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｃは、制御装置４０の制御により、対応する各高さセンサ２４ａ〜２４ｃで計測された高さに基づいて、それぞれプリント配線板５０までの距離が常に０．５ｍｍとなるように、Ｚ軸方向に移動されながらインク５１を吐出する。吐出され配線板５０上に塗布されたインク５１は、光源２７から出射される紫外光によって仮硬化される。
【００３７】
第１の実施例による描画装置によれば、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄ単位で、液滴吐出面（インクジェットノズル）からプリント配線板５０までの距離を一定に保つような制御を行いながら液滴の吐出を行うので、反りがあるプリント配線板５０に対しても、高精度に描画を行うことができる。たとえば各ユニット２３ａ〜２３ｄの液滴吐出面から配線板５０までの距離は０．５ｍｍ±０．１ｍｍの範囲内に維持され、各ユニット２３ａ〜２３ｄから吐出された液滴の着弾位置及びサイズが安定することで、描画が高精度に行われる。
【００３８】
図５は、第２の実施例による描画装置の一部を示す概略図である。第２の実施例は、高さセンサ２４ａ〜２４ｄ及び連結部材２８ｂを含まない。また、あらかじめ反り（プリント配線板５０上の位置によって異なる、ステージ２２表面（載置水平面）からの高さ）が計測されたプリント配線板５０がステージ２２上に載置される。プリント配線板５０の反りのデータは記憶装置４０ａに記憶されている。
【００３９】
制御装置４０は、記憶装置４０ａに記憶された、プリント配線板５０の反りのデータに基づいて、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄの液滴吐出面から、ステージ２２によって移動されるプリント配線板５０までの距離が一定、たとえば０．５ｍｍとなるように、ステージ２２によるプリント配線板５０の移動、及び、ユニット２３ａ〜２３ｄのＺ軸方向の移動を制御する。それとともに、プリント配線板５０上においてソルダーレジストを形成すべき領域のデータに基き、プリント配線板５０上の所定領域にインクが塗布されるように、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄからのインクの吐出を制御する。
【００４０】
第２の実施例による描画装置も、第１の実施例と同様に、プリント配線板５０の反りに応じて、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄの移動が制御される。第２の実施例によれば、高さセンサ２４ａ〜２４ｄを用いずに高精度の描画を行うことが可能である。
【００４１】
図６（Ａ）及び（Ｂ）は、第３の実施例による描画装置の一部を示す概略図である。図６（Ａ）に示すように、第３の実施例は、ボールネジ２５ａ〜２５ｄ、モータ２６ａ〜２６ｄ、高さセンサ２４ａ〜２４ｄ及び連結部材２８ｂを含まず、ローラ２９を備える点で第１の実施例と異なる。インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄは、連結部材２８ａを介して、コラム２１ｃに固定されている。
【００４２】
ローラ２９は、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄによるインク５１滴下位置のＹ軸負方向側に配置され、ステージ２２上で、プリント配線板５０をＹ軸方向に移動可能に押圧する。ローラ２９でプリント配線板５０を押圧することにより、インク５１の滴下位置におけるプリント配線板５０の反りが矯正され、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄの液滴吐出面から、プリント配線板５０までの距離が一定、たとえば０．５ｍｍに保たれる。第３の実施例によれば、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄをＺ軸方向に移動させることなく、高精度の描画を行うことができる。
【００４３】
なお、図６（Ｂ）に示すように、ローラ２９のＸ軸方向に沿う長さは、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄ（インクジェットノズル）のＸ軸方向に沿う長さよりも短い。プリント配線板５０に対する描画は、ローラ２９で配線板５０を押圧し、配線板５０をＹ軸正方向に移動しながら、ユニット２３ａ〜２３ｄからインク５１を吐出して、Ｘ軸方向１２０ｍｍの範囲にインク５１を塗布し、塗布したインク５１を光源２７から出射される紫外光で仮硬化した後、ステージ２２により配線板５０をたとえばＸ軸正方向、及びＹ軸負方向に移動する。そしてまた、配線板５０をＹ軸正方向に移動しながら、インク５１を仮硬化させた領域に隣接するＸ軸方向１２０ｍｍの範囲にインク５１を塗布し仮硬化させる。これを繰り返して、プリント配線板５０のパターン形成面全面に描画を行う。したがってローラ２９のＸ軸方向に沿う長さが、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄ（インクジェットノズル）のＸ軸方向に沿う長さよりも長い場合には、ローラ２９が、仮硬化されたインク５１を押圧し、パターンを損傷するとともに、ローラ２９にインク５１が付着するという問題を生じる。ローラ２９のＸ軸方向に沿う長さが、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄ（インクジェットノズル）のＸ軸方向に沿う長さよりも短いのはこの問題を回避するためである。なお、ステージ２２によりプリント配線板５０をＸ軸方向に移動するときには、ローラ２９はＺ軸正方向に移動し、配線板５０の押圧が解除される。
【００４４】
図７（Ａ）及び（Ｂ）は、第４の実施例による描画装置の一部を示す概略図である。第４の実施例はローラ２９を含まず、またステージ２２のチャックプレート２２ａに特徴を有する点で第３の実施例と異なる。また、制御装置４０の制御内容においても相違する。
【００４５】
図７（Ａ）に示すように、チャックプレート２２ａは、プリント配線板５０を吸引保持する吸引穴２２ａ１、２２ａ２等を備える。吸引穴２２ａ１、２２ａ２等は、たとえば直径３ｍｍの円形状を有し、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向にそれぞれ２０ｍｍ間隔で配置されている。
【００４６】
図７（Ｂ）に示すように、第４の実施例による描画装置のチャックプレート２２ａにおいては、各吸引穴２２ａ１、２２ａ２が、弁２２Ａ１、２２Ａ２を備える。吸引穴２２ａ１、２２ａ２は、それぞれ弁２２Ａ１、２２Ａ２が開状態のときプリント配線板５０を吸引し、閉状態のとき吸引しない。弁２２Ａ１、２２Ａ２を開閉し、各吸引穴２２ａ１、２２ａ２によってプリント配線板５０を吸引するか否かの制御は、制御装置４０によって行われる。
【００４７】
プリント配線板５０には、貫通孔が形成されている。制御装置４０は、貫通孔が吸引穴上に配置されない場合には、弁を開け、その吸引穴で吸引するように、また、貫通孔が吸引穴上に配置される場合には、弁を閉じ、その吸引穴では吸引しないように制御を行う。図７（Ｂ）には、吸引穴２２ａ１上にプリント配線板５０の貫通孔が配置される場合を示した。この場合には、制御装置４０は、弁２２Ａ１を閉状態、弁２２Ａ２を開状態として、吸引穴２２ａ２によってプリント配線板５０を吸引する。
【００４８】
チャックプレート２２ａによって、貫通孔の形成された位置のプリント配線板５０を吸引せず、貫通孔の形成されない位置のプリント配線板５０を吸引しながら、ステージ２２は配線板５０をＹ軸正方向に移動する。移動される配線板５０に向けて、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄからインク５１が吐出され、プリント配線板５０に対する描画が行われる。
【００４９】
第４の実施例による描画装置によれば、チャックプレート２２ａの吸引力を高め、プリント配線板５０を、反りを矯正して保持することができるので、描画を高精度に行うことが可能となる。
【００５０】
なお、プリント配線板５０を、貫通孔が吸引穴上に配置されないようにチャックプレート２２ａ上に載置することによっても、吸引の確実性を高め、プリント配線板５０の反りを矯正して高精度の描画を行うことができる。
【００５１】
以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。
【００５２】
たとえば、第１及び第２の実施例においては、インクジェットヘッドユニットの液滴吐出面から、プリント配線板までの距離が一定となるように、インクジェットヘッドユニットのＺ軸方向の移動を制御したが、両者の距離が所定範囲内となるように制御を行ってもよい。
【００５３】
また、第１及び第２の実施例においては、インクジェットヘッドユニットをＺ軸方向に移動させたが、たとえばプリント配線板をＺ軸方向に移動可能に保持する機構をステージに付属させ、プリント配線板を移動させることもできる。インクジェットヘッドユニットとプリント配線板とは、たとえば両者間の距離が一定となるように、相対的に移動させればよい。
【００５４】
更に、第１及び第２の実施例においては、インクジェットヘッドユニットをＺ軸方向に移動可能な構成としたが、ステージの基板保持面（たとえばＸＹ平面に平行な平面、プリント配線板が全体として延在する平面と平行な平面）と交差する方向に移動可能であればよい。なおこの場合、インクジェットヘッドユニットごとに、移動可能方向が異なっていてもかまわない。
【００５５】
また、すべての実施例において、インクジェットヘッドユニット等に対するプリント配線板のＸＹ平面内方向の移動をステージによって行ったが、たとえば固定ステージを用い、フレーム２１をＹ軸方向に移動可能とし、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄ、高さセンサ２４ａ〜２４ｄ、ボールネジ２５ａ〜２５ｄ、モータ２６ａ〜２６ｄ、光源２７、及び連結部材２８ａ〜２８ｃを、フレーム２１にＸ軸方向に移動可能に取り付ける構成を採用してもよい。この場合、第３の実施例においては、ローラ２９を、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄ等のＹ軸方向の移動と同期させて、たとえばインクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄのＹ軸方向に沿う位置と、ローラ２９のそれとの間の距離が一定となるように、プリント配線板５０を押圧させながらＹ軸方向に移動させる。また、プリント配線板５０の押圧を解除し、Ｚ軸正方向に移動されたローラ２９は、Ｘ軸方向に移動可能な構成とする。このようにＺ軸方向に限らず、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向についても、インクジェットヘッドユニット等と、プリント配線板とは、相対的に移動させればよい。なお、上述のような装置構成とした場合も、各部の動作制御は制御装置４０により行われる。
【００５６】
すべての実施例による描画装置によって、たとえばステージ２２に保持されたプリント配線板５０と、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄ（のノズル（列））との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持してプリント配線板５０に対する描画を行うことができる。この場合、各所定範囲を等しい範囲、より好ましくは一定値とすることで、描画の精度を高めることができる。
【００５７】
その他、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者には自明であろう。
【産業上の利用可能性】
【００５８】
液滴を吐出して行うパターン描画に広く利用可能である。
【符号の説明】
【００５９】
１０ プリント配線板
２０ 定盤
２１ フレーム
２１ａ、２１ｂ 支柱
２１ｃ コラム
２２ ステージ
２２ａ チャックプレート
２２ａ１、２２ａ２ 吸引穴
２２Ａ１、２２Ａ２ 弁
２２θ θステージ
２２ｘ Ｘステージ
２２ｙ Ｙステージ
２３ａ〜２３ｄ インクジェットヘッドユニット
２３ａ１〜２３ａ４ インクジェットヘッド
２４ａ〜２４ｄ 高さセンサ
２５ａ〜２５ｄ ボールネジ
２６ａ〜２６ｄ モータ
２７ 光源
２８ａ〜２８ｃ 連結部材
２９ ローラ
４０ 制御装置
４０ａ 記憶装置
５０ プリント配線板
５１ インク
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液滴を吐出してパターンを描画する描画装置及び描画方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶基板やプリント配線板のパターン形成面に、パターン形成用材料を含んだ液状材料（インク）を吐出ヘッド（インクジェットヘッド）から液滴として吐出して、基板上に材料層を成膜（描画）する技術が知られている。
【０００３】
基板上に描画される材料層により、たとえばソルダーレジストパターンが形成される。ソルダーレジストは、基材に導体配線が形成されたプリント配線板のはんだ付けのために、必要な導体部分を露出し、はんだ付けが不要な部分にはんだが付かないように配線板上に形成される絶縁膜である。
【０００４】
液晶基板には反りがほとんどない。このため、液晶基板に描画を行う際には、インクジェットヘッドと基板との間の距離は一定に保たれ、高精度の描画が可能である。しかしながらプリント配線板には反りがある。
【０００５】
図８（Ａ）及び（Ｂ）はプリント配線板の反りを示す概略的な断面図である。図８（Ａ）には、プリント配線板１０の中央部が盛り上がる態様の反りを示した。また、図８（Ｂ）には、プリント配線板１０の端部が反り上がる態様の反りを示した。両図における反り量ｈは、たとえば０．１ｍｍ〜０．５ｍｍである。なお、プリント配線板１０のサイズは一例として、縦３００ｍｍ〜５００ｍｍ、横４００ｍｍ〜６００ｍｍ、厚さ０．５ｍｍ〜５ｍｍである。
【０００６】
このように反りを有するプリント配線板１０を、たとえば１次元方向に移動させながら、インクジェットヘッドからインクを吐出して材料層を形成する場合、インクジェットヘッドとプリント配線板１０との間の距離が反りに起因して変動し、インクの着弾位置及び着弾サイズが安定せず、描画精度が悪化する。
【０００７】
インクの着弾精度が基板の各所において異なる場合であっても、各所でインクジェットヘッドと基板との相対位置を補正して、液滴の着弾精度を向上させる描画装置の発明が開示されている（たとえば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特許第３９８２５０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、高精度の描画が可能な描画装置及び描画方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一観点によると、保持面を備え、該保持面に基板を保持するステージと、前記保持面に保持された基板に向けて液滴を吐出する第１及び第２の吐出領域とを有し、前記保持面に保持された基板と、前記第１の吐出領域との間の距離、及び、前記保持面に保持された基板と、前記第２の吐出領域との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持する描画装置であって、前記ステージは、前記保持面内の第１の方向に、前記第１及び第２の吐出領域との間で相対的に移動可能に前記基板を保持し、前記第２の吐出領域は、前記第１の吐出領域の、前記第１の方向と前記保持面内で交差する方向と平行な方向側に配置され、前記第１、第２の吐出領域は、それぞれ前記保持面と交差する第２、第３の方向と平行な方向に、前記基板との間で相対的な移動が可能であり、更に、前記基板の反りに応じて、前記基板の前記第１の方向への相対的な移動、及び、前記第１、第２の吐出領域の前記第２、第３の方向と平行な方向への相対的な移動を制御する制御装置を含む描画装置が提供される。
【００１１】
また、本発明の他の観点によると、保持面を備え、該保持面に基板を保持するステージと、前記保持面に保持された基板に向けて液滴を吐出する第１及び第２の吐出領域とを有し、前記保持面に保持された基板と、前記第１の吐出領域との間の距離、及び、前記保持面に保持された基板と、前記第２の吐出領域との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持する描画装置であって、前記ステージは、前記保持面内の第１の方向に、前記第１及び第２の吐出領域との間で相対的に移動可能に前記基板を保持し、前記第２の吐出領域は、前記第１の吐出領域の、前記第１の方向と前記保持面内で交差する方向と平行な方向側に配置され、更に、前記第１及び第２の吐出領域を基準として前記第１の方向とは反対方向側に配置され、前記ステージ上で、前記基板を前記第１の方向に移動可能に押圧するローラであって、前記第１の方向と前記保持面内で直交する方向と平行な方向に沿う長さが、前記第１及び第２の吐出領域を含む吐出領域の同方向に沿う長さよりも短いローラとを含む描画装置が提供される。
【００１２】
更に、本発明の他の観点によると、保持面を備え、該保持面に基板を保持するステージと、前記保持面に保持された基板に向けて液滴を吐出する第１及び第２の吐出領域とを有し、前記保持面に保持された基板と、前記第１の吐出領域との間の距離、及び、前記保持面に保持された基板と、前記第２の吐出領域との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持する描画装置であって、前記ステージは、貫通孔が形成された基板を前記保持面に保持し、該基板を吸引可能な複数の吸引穴であって、吸引穴ごとに基板を吸引するか否かの制御が可能な複数の吸引穴を備え、更に、前記吸引穴ごとに基板を吸引するか否かの制御を行う制御装置であって、前記基板の貫通孔の下に配置される吸引穴では吸引せず、配置されない吸引穴で吸引するように制御を行う制御装置とを有する描画装置が提供される。
【００１３】
また、本発明の他の観点によると、保持面を備え、該保持面に基板を保持するステージと、前記保持面に保持された基板に向けて液滴を吐出する第１及び第２の吐出領域とを有し、前記保持面に保持された基板と、前記第１の吐出領域との間の距離、及び、前記保持面に保持された基板と、前記第２の吐出領域との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持する描画装置を用いて行う描画方法であって、（ａ）前記基板の反りを把握する工程と、（ｂ）前記基板の反りに応じ、前記第１及び第２の吐出領域の位置を、前記基板が全体として延在する平面と交差する方向に、前記基板との間でそれぞれ相対的に変化させて、前記第１及び第２の吐出領域から前記基板に向けて液滴を吐出する工程とを有する描画方法が提供される。
【００１４】
更に、本発明の他の観点によると、保持面を備え、該保持面に基板を保持するステージと、前記保持面に保持された基板に向けて液滴を吐出する第１及び第２の吐出領域とを有し、前記保持面に保持された基板と、前記第１の吐出領域との間の距離、及び、前記保持面に保持された基板と、前記第２の吐出領域との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持する描画装置を用いて行う描画方法であって、（ａ）基板を準備する工程と、（ｂ）前記基板を、前記第１及び第２の吐出領域との間で相対的に第１の方向に移動させながら、前記第１及び第２の吐出領域から前記基板に向けて液滴を吐出する工程とを有し、前記工程（ｂ）において、前記第１及び第２の吐出領域を基準として、前記第１の方向とは反対方向側で、かつ、前記基板が全体として延在する平面内で前記第１の方向と直交する方向に沿う長さが、前記第１及び第２の吐出領域を含む吐出領域の同方向に沿う長さよりも短い範囲で、前記基板を前記第１の方向に移動可能に押圧する描画方法が提供される。
【００１５】
また、本発明の他の観点によると、保持面を備え、該保持面に基板を保持するステージと、前記保持面に保持された基板に向けて液滴を吐出する第１及び第２の吐出領域とを有し、前記保持面に保持された基板と、前記第１の吐出領域との間の距離、及び、前記保持面に保持された基板と、前記第２の吐出領域との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持する描画装置を用いて行う描画方法であって、（ａ）貫通孔が形成された基板を準備する工程と、（ｂ）前記第１及び第２の吐出領域から前記基板に向けて液滴を吐出する工程とを有し、前記工程（ｂ）において、貫通孔の形成された位置の前記基板を吸引せず、貫通孔の形成されない位置の前記基板を吸引した状態で、前記基板に向けて液滴を吐出する描画方法が提供される。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、高精度の描画が可能な描画装置及び描画方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】第１の実施例による描画装置を示す概略図である。
【図２】インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄの近傍を示す、描画装置の概略的な平面図である。
【図３】（Ａ）及び（Ｂ）は、インクジェットヘッドユニットの液滴吐出面を示す概略図である。
【図４】第１の実施例による描画装置の一部を示す概略図である。
【図５】第２の実施例による描画装置の一部を示す概略図である。
【図６】（Ａ）及び（Ｂ）は、第３の実施例による描画装置の一部を示す概略図である。
【図７】（Ａ）及び（Ｂ）は、第４の実施例による描画装置の一部を示す概略図である。
【図８】（Ａ）及び（Ｂ）はプリント配線板の反りを示す概略的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
図１〜図４を参照して、第１の実施例による描画装置について説明する。
【００１９】
図１は第１の実施例による描画装置を示す概略図である。第１の実施例による描画装置は、水平に（ＸＹ平面に平行な面内に）設置された定盤２０、定盤２０上に配置されたステージ２２、定盤２０に固定され、Ｙ軸方向に沿って見たとき、ステージ２２を門型に囲むように配置されたフレーム２１、フレーム２１に保持されたインクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄ、及び、描画装置の動作を制御する制御装置４０を含む。
【００２０】
ステージ２２は、定盤２０側から順に配置されるＹステージ２２ｙ、Ｘステージ２２ｘ、θステージ２２θ、及びチャックプレート２２ａを含む。チャックプレート２２ａは、プリント配線板（基板）５０を吸着保持する。θステージ２２θは、保持されたプリント配線板５０を、ＸＹ平面に平行な面内で、Ｚ軸に平行な回転軸の周囲に回転させる。Ｘステージ２２ｘ、Ｙステージ２２ｙは、それぞれプリント配線板５０を、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向に移動させることができる。チャックプレート２２ａによるプリント配線板５０の吸着、Ｘ、Ｙ、θステージ２２ｘ、２２ｙ、２２θによるプリント配線板５０の移動は、制御装置４０によって制御される。
【００２１】
フレーム２１は、２本の支柱２１ａ、２１ｂ、及びコラム２１ｃを含む。支柱２１ａ、２１ｂは、定盤２０のＹ軸方向の略中央に立設される。コラム２１ｃは、Ｘ軸方向に沿うように、支柱２１ａ、２１ｂに支持される。
【００２２】
インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄは、フレーム２１のコラム２１ｃに、Ｚ軸方向に移動可能に保持されている。インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄは、それぞれ複数のインクジェットヘッドを含む。インクジェットヘッドは、たとえば紫外線硬化性のインク（パターン形成用材料を含んだ液状材料）をステージ２２に保持されたプリント配線板５０に向けて吐出（滴下）する。吐出されたインクにより、プリント配線板５０上に所定パターンの材料層、たとえばソルダーレジストパターンが成膜（描画）される。
【００２３】
制御装置４０は、たとえばメモリである記憶装置４０ａを含む。記憶装置４０ａには、プリント配線板５０上においてソルダーレジストを形成すべき領域（インクを塗布すべき領域）等のデータ（ガーバデータ）が記憶されている。制御装置４０は、記憶装置４０ａの記憶内容に基いて、プリント配線板５０上の所定領域にインクが塗布されるように、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄからのインクの吐出、及びステージ２２による配線板５０の移動を制御する。プリント配線板５０は、Ｙ軸正方向に移動され、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄの鉛直下方（Ｚ軸負方向）においてインクを塗布される。
【００２４】
第１の実施例による描画装置は、ステージ２２上に移動可能に保持されたプリント配線板５０上に、たとえば所定パターンのソルダーレジストを形成する液滴吐出装置（インクジェット装置）である。
【００２５】
図２は、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄの近傍を示す、描画装置の概略的な平面図である。各インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄは、Ｙ軸方向に沿って配置される複数のノズル列を備える。各ノズル列は、Ｘ軸方向に沿って配列された複数の、たとえば１９２個のインクジェットノズル（インク吐出穴）によって構成される。各ノズル列のＸ軸方向に沿う長さは、たとえば約３０ｍｍである。インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄは、全体として見たとき、たとえばインクジェットノズルがＸ軸方向に等間隔に配置されるように設置される。このため、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄは、インクジェットノズルからインクを吐出して、Ｙ軸正方向に移動中のプリント配線板５０の幅約１２０ｍｍの範囲（Ｘ軸方向に沿う範囲）に、描画を行うことができる。
【００２６】
各ユニット２３ａ〜２３ｄには、ノズル列の両側に余白部が設けられているので、インクジェットノズルをＸ軸方向に等間隔に配置するために、Ｘ軸方向に隣り合うユニット（一例としてユニット２３ａとユニット２３ｂ）は、Ｙ軸方向にたとえば２０ｍｍの間隔を設けて配置される。この結果、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄは、たとえば互い違いに２列に組まれて、全体としてＸ軸方向に延在するように配置される。なお、相互に異なるインクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄは、プリント配線板５０の移動方向であるＹ軸正方向とＸＹ平面内で交差する方向と平行な方向側に配置される。
【００２７】
各ユニット２３ａ〜２３ｄのＹ軸負方向（プリント配線板５０の移動方向とは反対方向）側に、それぞれ高さセンサ２４ａ〜２４ｄが配置される。インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄと高さセンサ２４ａ〜２４ｄは、たとえばＹ軸方向に４０ｍｍ〜５０ｍｍ以上離れている。
【００２８】
高さセンサ２４ａ〜２４ｄは、たとえばレーザ変位計であり、センサ２４ａ〜２４ｄ設置位置の鉛直下方（Ｚ軸負方向）に沿う距離（高さ）を、たとえば１０μｍ程度の誤差範囲で計測することができる。ステージ２２にプリント配線板５０が保持されているとき、高さセンサ２４ａ〜２４ｄによって、センサ２４ａ〜２４ｄから、その鉛直下方のプリント配線板５０上の位置までの距離（高さ）が計測される。計測された高さのデータは、制御装置４０に送信される。
【００２９】
図３（Ａ）及び（Ｂ）は、インクジェットヘッドユニットの液滴吐出面を示す概略図である。図３（Ａ）に示すように、インクジェットヘッドユニット２３ａは、たとえば同構成のインクジェットヘッド２３ａ１〜２３ａ４を含んで構成される。インクジェットヘッド２３ａ１〜２３ａ４は、順に相対位置をＸ軸負方向にずらされながら、全体としてＹ軸方向に沿って配置されている。
【００３０】
図３（Ｂ）にインクジェットヘッドの詳細を示した。インクジェットヘッド２３ａ１は２列のノズル列を含み、同一ノズル列のノズルはＸ軸方向に沿って１６０μｍ間隔で配置される。Ｙ軸正方向側のノズル列は、Ｙ軸負方向側のノズル列に対し、ノズルの配置位置がＸ軸負方向に８０μｍずれるように形成されている。このためインクジェットヘッド２３ａ１は、Ｘ軸方向に８０μｍ間隔で千鳥配列される３８４個のインクジェットノズルを含む。各インクジェットノズルはピエゾ素子を含んで構成され、電圧の印加に応じてインクを吐出する。インクの吐出（電圧の印加）は制御装置４０によって制御される。
【００３１】
インクジェットヘッド２３ａ２はインクジェットヘッド２３ａ１に対し、２０μｍだけＸ軸負方向側に配置される。同様にインクジェットヘッド２３ａ３、ａ４は、それぞれインクジェットヘッド２３ａ２、ａ３に対し、２０μｍだけＸ軸負方向側に配置される。この結果、インクジェットヘッドユニット２３ａは、Ｘ軸方向に２０μｍ間隔で配置されるノズルを備える。
【００３２】
インクジェットヘッドユニット２３ｂ〜２３ｄも、インクジェットヘッドユニット２３ａと等しい構成を有する。したがって第１の実施例による描画装置は、Ｘ軸方向に沿う１２０ｍｍの範囲に、２０μｍの分解能をもつインクジェットノズル群を備える。
【００３３】
図４は、第１の実施例による描画装置の一部を示す概略図である。ボールネジ２５ｄは、連結部材２８ａを介してコラム２１ｃに固定されている。インクジェットヘッドユニット２３ｄは、ボールネジ２５ｄに、モータ２６ｄの発生する駆動力によってＺ軸方向に移動可能に、保持されている。インクジェットヘッドユニット２３ｄのＺ軸方向の移動は制御装置４０によって制御される。
【００３４】
プリント配線板５０は、たとえば３００ｍｍ／秒でＹ軸正方向に移動される。インクジェットヘッドユニット２３ｄのＹ軸負方向側に配置された高さセンサ２４ｄは、プリント配線板５０表面までの距離（高さ）を計測し、計測されたデータを制御装置４０に送信する。制御装置４０は、高さセンサ２４ｄで計測された高さに基づいて、インクジェットヘッドユニット２３ｄの液滴吐出面から、プリント配線板５０までの距離が一定、たとえば０．５ｍｍとなるように、ステージ２２によるプリント配線板５０の移動、及び、インクジェットヘッドユニット２３ｄのＺ軸方向の移動を制御する。たとえば位置Ｐ、Ｑがそれぞれ高さセンサ２４ｄのＺ軸負方向に配置されたとき、高さセンサ２４ｄによって、プリント配線板５０までの高さがｐ、ｑと計測された場合、インクジェットヘッドユニット２３ｄは、位置Ｑにインク５１を吐出するときは位置Ｐに吐出するときより、Ｚ軸正方向にｐ−ｑだけ移動される。インクジェットヘッドユニット２３ｄは、その鉛直下方のプリント配線板５０の反りに沿って、Ｚ軸方向に上下しながらインク５１を吐出する。
【００３５】
インクジェットヘッドユニット２３ｄから吐出され、配線板５０上に塗布されたインク５１は、たとえばインクジェットヘッドユニット２３ｄのＹ軸正方向側に、連結部材２８ｃを介して配置された光源２７から出射される紫外光によって、表面部を硬化（仮硬化）される。光源２７による紫外光の出射は、制御装置４０により制御される。
【００３６】
図４にはインクジェットヘッドユニット２３ｄを示したが、他のインクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｃについても同様である。インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｃは、ボールネジ２５ａ〜２５ｃに、モータ２６ａ〜２６ｃの発生する駆動力によって、それぞれ独立にＺ軸方向に移動可能に、保持されている。ボールネジ２５ａ〜２５ｃは、連結部材２８ａを介してコラム２１ｃに固定されている。インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｃのＺ軸方向の移動は制御装置４０によって制御される。インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｃは、制御装置４０の制御により、対応する各高さセンサ２４ａ〜２４ｃで計測された高さに基づいて、それぞれプリント配線板５０までの距離が常に０．５ｍｍとなるように、Ｚ軸方向に移動されながらインク５１を吐出する。吐出され配線板５０上に塗布されたインク５１は、光源２７から出射される紫外光によって仮硬化される。
【００３７】
第１の実施例による描画装置によれば、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄ単位で、液滴吐出面（インクジェットノズル）からプリント配線板５０までの距離を一定に保つような制御を行いながら液滴の吐出を行うので、反りがあるプリント配線板５０に対しても、高精度に描画を行うことができる。たとえば各ユニット２３ａ〜２３ｄの液滴吐出面から配線板５０までの距離は０．５ｍｍ±０．１ｍｍの範囲内に維持され、各ユニット２３ａ〜２３ｄから吐出された液滴の着弾位置及びサイズが安定することで、描画が高精度に行われる。
【００３８】
図５は、第２の実施例による描画装置の一部を示す概略図である。第２の実施例は、高さセンサ２４ａ〜２４ｄ及び連結部材２８ｂを含まない。また、あらかじめ反り（プリント配線板５０上の位置によって異なる、ステージ２２表面（載置水平面）からの高さ）が計測されたプリント配線板５０がステージ２２上に載置される。プリント配線板５０の反りのデータは記憶装置４０ａに記憶されている。
【００３９】
制御装置４０は、記憶装置４０ａに記憶された、プリント配線板５０の反りのデータに基づいて、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄの液滴吐出面から、ステージ２２によって移動されるプリント配線板５０までの距離が一定、たとえば０．５ｍｍとなるように、ステージ２２によるプリント配線板５０の移動、及び、ユニット２３ａ〜２３ｄのＺ軸方向の移動を制御する。それとともに、プリント配線板５０上においてソルダーレジストを形成すべき領域のデータに基き、プリント配線板５０上の所定領域にインクが塗布されるように、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄからのインクの吐出を制御する。
【００４０】
第２の実施例による描画装置も、第１の実施例と同様に、プリント配線板５０の反りに応じて、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄの移動が制御される。第２の実施例によれば、高さセンサ２４ａ〜２４ｄを用いずに高精度の描画を行うことが可能である。
【００４１】
図６（Ａ）及び（Ｂ）は、第３の実施例による描画装置の一部を示す概略図である。図６（Ａ）に示すように、第３の実施例は、ボールネジ２５ａ〜２５ｄ、モータ２６ａ〜２６ｄ、高さセンサ２４ａ〜２４ｄ及び連結部材２８ｂを含まず、ローラ２９を備える点で第１の実施例と異なる。インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄは、連結部材２８ａを介して、コラム２１ｃに固定されている。
【００４２】
ローラ２９は、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄによるインク５１滴下位置のＹ軸負方向側に配置され、ステージ２２上で、プリント配線板５０をＹ軸方向に移動可能に押圧する。ローラ２９でプリント配線板５０を押圧することにより、インク５１の滴下位置におけるプリント配線板５０の反りが矯正され、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄの液滴吐出面から、プリント配線板５０までの距離が一定、たとえば０．５ｍｍに保たれる。第３の実施例によれば、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄをＺ軸方向に移動させることなく、高精度の描画を行うことができる。
【００４３】
なお、図６（Ｂ）に示すように、ローラ２９のＸ軸方向に沿う長さは、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄ（インクジェットノズル）のＸ軸方向に沿う長さよりも短い。プリント配線板５０に対する描画は、ローラ２９で配線板５０を押圧し、配線板５０をＹ軸正方向に移動しながら、ユニット２３ａ〜２３ｄからインク５１を吐出して、Ｘ軸方向１２０ｍｍの範囲にインク５１を塗布し、塗布したインク５１を光源２７から出射される紫外光で仮硬化した後、ステージ２２により配線板５０をたとえばＸ軸正方向、及びＹ軸負方向に移動する。そしてまた、配線板５０をＹ軸正方向に移動しながら、インク５１を仮硬化させた領域に隣接するＸ軸方向１２０ｍｍの範囲にインク５１を塗布し仮硬化させる。これを繰り返して、プリント配線板５０のパターン形成面全面に描画を行う。したがってローラ２９のＸ軸方向に沿う長さが、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄ（インクジェットノズル）のＸ軸方向に沿う長さよりも長い場合には、ローラ２９が、仮硬化されたインク５１を押圧し、パターンを損傷するとともに、ローラ２９にインク５１が付着するという問題を生じる。ローラ２９のＸ軸方向に沿う長さが、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄ（インクジェットノズル）のＸ軸方向に沿う長さよりも短いのはこの問題を回避するためである。なお、ステージ２２によりプリント配線板５０をＸ軸方向に移動するときには、ローラ２９はＺ軸正方向に移動し、配線板５０の押圧が解除される。
【００４４】
図７（Ａ）及び（Ｂ）は、第４の実施例による描画装置の一部を示す概略図である。第４の実施例はローラ２９を含まず、またステージ２２のチャックプレート２２ａに特徴を有する点で第３の実施例と異なる。また、制御装置４０の制御内容においても相違する。
【００４５】
図７（Ａ）に示すように、チャックプレート２２ａは、プリント配線板５０を吸引保持する吸引穴２２ａ１、２２ａ２等を備える。吸引穴２２ａ１、２２ａ２等は、たとえば直径３ｍｍの円形状を有し、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向にそれぞれ２０ｍｍ間隔で配置されている。
【００４６】
図７（Ｂ）に示すように、第４の実施例による描画装置のチャックプレート２２ａにおいては、各吸引穴２２ａ１、２２ａ２が、弁２２Ａ１、２２Ａ２を備える。吸引穴２２ａ１、２２ａ２は、それぞれ弁２２Ａ１、２２Ａ２が開状態のときプリント配線板５０を吸引し、閉状態のとき吸引しない。弁２２Ａ１、２２Ａ２を開閉し、各吸引穴２２ａ１、２２ａ２によってプリント配線板５０を吸引するか否かの制御は、制御装置４０によって行われる。
【００４７】
プリント配線板５０には、貫通孔が形成されている。制御装置４０は、貫通孔が吸引穴上に配置されない場合には、弁を開け、その吸引穴で吸引するように、また、貫通孔が吸引穴上に配置される場合には、弁を閉じ、その吸引穴では吸引しないように制御を行う。図７（Ｂ）には、吸引穴２２ａ１上にプリント配線板５０の貫通孔が配置される場合を示した。この場合には、制御装置４０は、弁２２Ａ１を閉状態、弁２２Ａ２を開状態として、吸引穴２２ａ２によってプリント配線板５０を吸引する。
【００４８】
チャックプレート２２ａによって、貫通孔の形成された位置のプリント配線板５０を吸引せず、貫通孔の形成されない位置のプリント配線板５０を吸引しながら、ステージ２２は配線板５０をＹ軸正方向に移動する。移動される配線板５０に向けて、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄからインク５１が吐出され、プリント配線板５０に対する描画が行われる。
【００４９】
第４の実施例による描画装置によれば、チャックプレート２２ａの吸引力を高め、プリント配線板５０を、反りを矯正して保持することができるので、描画を高精度に行うことが可能となる。
【００５０】
なお、プリント配線板５０を、貫通孔が吸引穴上に配置されないようにチャックプレート２２ａ上に載置することによっても、吸引の確実性を高め、プリント配線板５０の反りを矯正して高精度の描画を行うことができる。
【００５１】
以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。
【００５２】
たとえば、第１及び第２の実施例においては、インクジェットヘッドユニットの液滴吐出面から、プリント配線板までの距離が一定となるように、インクジェットヘッドユニットのＺ軸方向の移動を制御したが、両者の距離が所定範囲内となるように制御を行ってもよい。
【００５３】
また、第１及び第２の実施例においては、インクジェットヘッドユニットをＺ軸方向に移動させたが、たとえばプリント配線板をＺ軸方向に移動可能に保持する機構をステージに付属させ、プリント配線板を移動させることもできる。インクジェットヘッドユニットとプリント配線板とは、たとえば両者間の距離が一定となるように、相対的に移動させればよい。
【００５４】
更に、第１及び第２の実施例においては、インクジェットヘッドユニットをＺ軸方向に移動可能な構成としたが、ステージの基板保持面（たとえばＸＹ平面に平行な平面、プリント配線板が全体として延在する平面と平行な平面）と交差する方向に移動可能であればよい。なおこの場合、インクジェットヘッドユニットごとに、移動可能方向が異なっていてもかまわない。
【００５５】
また、すべての実施例において、インクジェットヘッドユニット等に対するプリント配線板のＸＹ平面内方向の移動をステージによって行ったが、たとえば固定ステージを用い、フレーム２１をＹ軸方向に移動可能とし、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄ、高さセンサ２４ａ〜２４ｄ、ボールネジ２５ａ〜２５ｄ、モータ２６ａ〜２６ｄ、光源２７、及び連結部材２８ａ〜２８ｃを、フレーム２１にＸ軸方向に移動可能に取り付ける構成を採用してもよい。この場合、第３の実施例においては、ローラ２９を、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄ等のＹ軸方向の移動と同期させて、たとえばインクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄのＹ軸方向に沿う位置と、ローラ２９のそれとの間の距離が一定となるように、プリント配線板５０を押圧させながらＹ軸方向に移動させる。また、プリント配線板５０の押圧を解除し、Ｚ軸正方向に移動されたローラ２９は、Ｘ軸方向に移動可能な構成とする。このようにＺ軸方向に限らず、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向についても、インクジェットヘッドユニット等と、プリント配線板とは、相対的に移動させればよい。なお、上述のような装置構成とした場合も、各部の動作制御は制御装置４０により行われる。
【００５６】
すべての実施例による描画装置によって、たとえばステージ２２に保持されたプリント配線板５０と、インクジェットヘッドユニット２３ａ〜２３ｄ（のノズル（列））との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持してプリント配線板５０に対する描画を行うことができる。この場合、各所定範囲を等しい範囲、より好ましくは一定値とすることで、描画の精度を高めることができる。
【００５７】
その他、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者には自明であろう。
【産業上の利用可能性】
【００５８】
液滴を吐出して行うパターン描画に広く利用可能である。
【符号の説明】
【００５９】
１０ プリント配線板
２０ 定盤
２１ フレーム
２１ａ、２１ｂ 支柱
２１ｃ コラム
２２ ステージ
２２ａ チャックプレート
２２ａ１、２２ａ２ 吸引穴
２２Ａ１、２２Ａ２ 弁
２２θ θステージ
２２ｘ Ｘステージ
２２ｙ Ｙステージ
２３ａ〜２３ｄ インクジェットヘッドユニット
２３ａ１〜２３ａ４ インクジェットヘッド
２４ａ〜２４ｄ 高さセンサ
２５ａ〜２５ｄ ボールネジ
２６ａ〜２６ｄ モータ
２７ 光源
２８ａ〜２８ｃ 連結部材
２９ ローラ
４０ 制御装置
４０ａ 記憶装置
５０ プリント配線板
５１ インク
【特許請求の範囲】
【請求項１】
保持面を備え、該保持面に基板を保持するステージと、
前記保持面に保持された基板に向けて液滴を吐出する第１及び第２の吐出領域と
を有し、
前記保持面に保持された基板と、前記第１の吐出領域との間の距離、及び、前記保持面に保持された基板と、前記第２の吐出領域との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持する描画装置であって、
前記ステージは、前記保持面内の第１の方向に、前記第１及び第２の吐出領域との間で相対的に移動可能に前記基板を保持し、
前記第２の吐出領域は、前記第１の吐出領域の、前記第１の方向と前記保持面内で交差する方向と平行な方向側に配置され、
前記第１、第２の吐出領域は、それぞれ前記保持面と交差する第２、第３の方向と平行な方向に、前記基板との間で相対的な移動が可能であり、
更に、前記基板の反りに応じて、前記基板の前記第１の方向への相対的な移動、及び、前記第１、第２の吐出領域の前記第２、第３の方向と平行な方向への相対的な移動を制御する制御装置を含む描画装置。
【請求項２】
更に、前記第１の吐出領域を基準として前記第１の方向とは反対方向側に配置され、前記保持面に保持された基板までの距離を計測する第１の計測器と、
前記第２の吐出領域を基準として前記第１の方向とは反対方向側に配置され、前記保持面に保持された基板までの距離を計測する第２の計測器と
を備え、
前記制御装置は、前記第１の計測器で計測された距離に基づいて、前記第１の方向に相対的に移動される基板と前記第１の吐出領域との間の距離が一定となるように、かつ、前記第２の計測器で計測された距離に基づいて、前記第１の方向に相対的に移動される基板と前記第２の吐出領域との間の距離が一定となるように、前記基板の前記第１の方向への相対的な移動、及び、前記第１、第２の吐出領域の前記第２、第３の方向と平行な方向への相対的な移動を制御する請求項１に記載の描画装置。
【請求項３】
前記第２の方向と前記第３の方向とが平行な方向である請求項１または２に記載の描画装置。
【請求項４】
更に、前記基板の反りのデータが記憶された記憶装置を備え、
前記制御装置は、前記記憶装置に記憶されたデータに基づいて、前記第１の方向に相対的に移動される基板と前記第１、第２の吐出領域との間の距離がそれぞれ一定となるように、前記基板の前記第１の方向への相対的な移動、及び、前記第１、第２の吐出領域の前記第２、第３の方向と平行な方向への相対的な移動を制御する請求項１に記載の描画装置。
【請求項５】
保持面を備え、該保持面に基板を保持するステージと、
前記保持面に保持された基板に向けて液滴を吐出する第１及び第２の吐出領域と
を有し、
前記保持面に保持された基板と、前記第１の吐出領域との間の距離、及び、前記保持面に保持された基板と、前記第２の吐出領域との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持する描画装置であって、
前記ステージは、前記保持面内の第１の方向に、前記第１及び第２の吐出領域との間で相対的に移動可能に前記基板を保持し、
前記第２の吐出領域は、前記第１の吐出領域の、前記第１の方向と前記保持面内で交差する方向と平行な方向側に配置され、
更に、前記第１及び第２の吐出領域を基準として前記第１の方向とは反対方向側に配置され、前記ステージ上で、前記基板を前記第１の方向に移動可能に押圧するローラであって、前記第１の方向と前記保持面内で直交する方向と平行な方向に沿う長さが、前記第１及び第２の吐出領域を含む吐出領域の同方向に沿う長さよりも短いローラと
を含む描画装置。
【請求項６】
保持面を備え、該保持面に基板を保持するステージと、
前記保持面に保持された基板に向けて液滴を吐出する第１及び第２の吐出領域と
を有し、
前記保持面に保持された基板と、前記第１の吐出領域との間の距離、及び、前記保持面に保持された基板と、前記第２の吐出領域との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持する描画装置であって、
前記ステージは、貫通孔が形成された基板を前記保持面に保持し、該基板を吸引可能な複数の吸引穴であって、吸引穴ごとに基板を吸引するか否かの制御が可能な複数の吸引穴を備え、
更に、前記吸引穴ごとに基板を吸引するか否かの制御を行う制御装置であって、前記基板の貫通孔の下に配置される吸引穴では吸引せず、配置されない吸引穴で吸引するように制御を行う制御装置と
を有する描画装置。
【請求項７】
保持面を備え、該保持面に基板を保持するステージと、前記保持面に保持された基板に向けて液滴を吐出する第１及び第２の吐出領域とを有し、前記保持面に保持された基板と、前記第１の吐出領域との間の距離、及び、前記保持面に保持された基板と、前記第２の吐出領域との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持する描画装置を用いて行う描画方法であって、
（ａ）前記基板の反りを把握する工程と、
（ｂ）前記基板の反りに応じ、前記第１及び第２の吐出領域の位置を、前記基板が全体として延在する平面と交差する方向に、前記基板との間でそれぞれ相対的に変化させて、前記第１及び第２の吐出領域から前記基板に向けて液滴を吐出する工程と
を有する描画方法。
【請求項８】
前記工程（ｂ）において、前記基板と前記第１及び第２の吐出領域との間の距離がそれぞれ一定となるように、前記第１及び第２の吐出領域の位置を前記基板との間でそれぞれ相対的に変化させる請求項７に記載の描画方法。
【請求項９】
保持面を備え、該保持面に基板を保持するステージと、前記保持面に保持された基板に向けて液滴を吐出する第１及び第２の吐出領域とを有し、前記保持面に保持された基板と、前記第１の吐出領域との間の距離、及び、前記保持面に保持された基板と、前記第２の吐出領域との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持する描画装置を用いて行う描画方法であって、
（ａ）基板を準備する工程と、
（ｂ）前記基板を、前記第１及び第２の吐出領域との間で相対的に第１の方向に移動させながら、前記第１及び第２の吐出領域から前記基板に向けて液滴を吐出する工程と
を有し、
前記工程（ｂ）において、前記第１及び第２の吐出領域を基準として、前記第１の方向とは反対方向側で、かつ、前記基板が全体として延在する平面内で前記第１の方向と直交する方向に沿う長さが、前記第１及び第２の吐出領域を含む吐出領域の同方向に沿う長さよりも短い範囲で、前記基板を前記第１の方向に移動可能に押圧する描画方法。
【請求項１０】
保持面を備え、該保持面に基板を保持するステージと、前記保持面に保持された基板に向けて液滴を吐出する第１及び第２の吐出領域とを有し、前記保持面に保持された基板と、前記第１の吐出領域との間の距離、及び、前記保持面に保持された基板と、前記第２の吐出領域との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持する描画装置を用いて行う描画方法であって、
（ａ）貫通孔が形成された基板を準備する工程と、
（ｂ）前記第１及び第２の吐出領域から前記基板に向けて液滴を吐出する工程と
を有し、
前記工程（ｂ）において、貫通孔の形成された位置の前記基板を吸引せず、貫通孔の形成されない位置の前記基板を吸引した状態で、前記基板に向けて液滴を吐出する描画方法。
【請求項１】
保持面を備え、該保持面に基板を保持するステージと、
前記保持面に保持された基板に向けて液滴を吐出する第１及び第２の吐出領域と
を有し、
前記保持面に保持された基板と、前記第１の吐出領域との間の距離、及び、前記保持面に保持された基板と、前記第２の吐出領域との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持する描画装置であって、
前記ステージは、前記保持面内の第１の方向に、前記第１及び第２の吐出領域との間で相対的に移動可能に前記基板を保持し、
前記第２の吐出領域は、前記第１の吐出領域の、前記第１の方向と前記保持面内で交差する方向と平行な方向側に配置され、
前記第１、第２の吐出領域は、それぞれ前記保持面と交差する第２、第３の方向と平行な方向に、前記基板との間で相対的な移動が可能であり、
更に、前記基板の反りに応じて、前記基板の前記第１の方向への相対的な移動、及び、前記第１、第２の吐出領域の前記第２、第３の方向と平行な方向への相対的な移動を制御する制御装置を含む描画装置。
【請求項２】
更に、前記第１の吐出領域を基準として前記第１の方向とは反対方向側に配置され、前記保持面に保持された基板までの距離を計測する第１の計測器と、
前記第２の吐出領域を基準として前記第１の方向とは反対方向側に配置され、前記保持面に保持された基板までの距離を計測する第２の計測器と
を備え、
前記制御装置は、前記第１の計測器で計測された距離に基づいて、前記第１の方向に相対的に移動される基板と前記第１の吐出領域との間の距離が一定となるように、かつ、前記第２の計測器で計測された距離に基づいて、前記第１の方向に相対的に移動される基板と前記第２の吐出領域との間の距離が一定となるように、前記基板の前記第１の方向への相対的な移動、及び、前記第１、第２の吐出領域の前記第２、第３の方向と平行な方向への相対的な移動を制御する請求項１に記載の描画装置。
【請求項３】
前記第２の方向と前記第３の方向とが平行な方向である請求項１または２に記載の描画装置。
【請求項４】
更に、前記基板の反りのデータが記憶された記憶装置を備え、
前記制御装置は、前記記憶装置に記憶されたデータに基づいて、前記第１の方向に相対的に移動される基板と前記第１、第２の吐出領域との間の距離がそれぞれ一定となるように、前記基板の前記第１の方向への相対的な移動、及び、前記第１、第２の吐出領域の前記第２、第３の方向と平行な方向への相対的な移動を制御する請求項１に記載の描画装置。
【請求項５】
保持面を備え、該保持面に基板を保持するステージと、
前記保持面に保持された基板に向けて液滴を吐出する第１及び第２の吐出領域と
を有し、
前記保持面に保持された基板と、前記第１の吐出領域との間の距離、及び、前記保持面に保持された基板と、前記第２の吐出領域との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持する描画装置であって、
前記ステージは、前記保持面内の第１の方向に、前記第１及び第２の吐出領域との間で相対的に移動可能に前記基板を保持し、
前記第２の吐出領域は、前記第１の吐出領域の、前記第１の方向と前記保持面内で交差する方向と平行な方向側に配置され、
更に、前記第１及び第２の吐出領域を基準として前記第１の方向とは反対方向側に配置され、前記ステージ上で、前記基板を前記第１の方向に移動可能に押圧するローラであって、前記第１の方向と前記保持面内で直交する方向と平行な方向に沿う長さが、前記第１及び第２の吐出領域を含む吐出領域の同方向に沿う長さよりも短いローラと
を含む描画装置。
【請求項６】
保持面を備え、該保持面に基板を保持するステージと、
前記保持面に保持された基板に向けて液滴を吐出する第１及び第２の吐出領域と
を有し、
前記保持面に保持された基板と、前記第１の吐出領域との間の距離、及び、前記保持面に保持された基板と、前記第２の吐出領域との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持する描画装置であって、
前記ステージは、貫通孔が形成された基板を前記保持面に保持し、該基板を吸引可能な複数の吸引穴であって、吸引穴ごとに基板を吸引するか否かの制御が可能な複数の吸引穴を備え、
更に、前記吸引穴ごとに基板を吸引するか否かの制御を行う制御装置であって、前記基板の貫通孔の下に配置される吸引穴では吸引せず、配置されない吸引穴で吸引するように制御を行う制御装置と
を有する描画装置。
【請求項７】
保持面を備え、該保持面に基板を保持するステージと、前記保持面に保持された基板に向けて液滴を吐出する第１及び第２の吐出領域とを有し、前記保持面に保持された基板と、前記第１の吐出領域との間の距離、及び、前記保持面に保持された基板と、前記第２の吐出領域との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持する描画装置を用いて行う描画方法であって、
（ａ）前記基板の反りを把握する工程と、
（ｂ）前記基板の反りに応じ、前記第１及び第２の吐出領域の位置を、前記基板が全体として延在する平面と交差する方向に、前記基板との間でそれぞれ相対的に変化させて、前記第１及び第２の吐出領域から前記基板に向けて液滴を吐出する工程と
を有する描画方法。
【請求項８】
前記工程（ｂ）において、前記基板と前記第１及び第２の吐出領域との間の距離がそれぞれ一定となるように、前記第１及び第２の吐出領域の位置を前記基板との間でそれぞれ相対的に変化させる請求項７に記載の描画方法。
【請求項９】
保持面を備え、該保持面に基板を保持するステージと、前記保持面に保持された基板に向けて液滴を吐出する第１及び第２の吐出領域とを有し、前記保持面に保持された基板と、前記第１の吐出領域との間の距離、及び、前記保持面に保持された基板と、前記第２の吐出領域との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持する描画装置を用いて行う描画方法であって、
（ａ）基板を準備する工程と、
（ｂ）前記基板を、前記第１及び第２の吐出領域との間で相対的に第１の方向に移動させながら、前記第１及び第２の吐出領域から前記基板に向けて液滴を吐出する工程と
を有し、
前記工程（ｂ）において、前記第１及び第２の吐出領域を基準として、前記第１の方向とは反対方向側で、かつ、前記基板が全体として延在する平面内で前記第１の方向と直交する方向に沿う長さが、前記第１及び第２の吐出領域を含む吐出領域の同方向に沿う長さよりも短い範囲で、前記基板を前記第１の方向に移動可能に押圧する描画方法。
【請求項１０】
保持面を備え、該保持面に基板を保持するステージと、前記保持面に保持された基板に向けて液滴を吐出する第１及び第２の吐出領域とを有し、前記保持面に保持された基板と、前記第１の吐出領域との間の距離、及び、前記保持面に保持された基板と、前記第２の吐出領域との間の距離を、それぞれ所定範囲内に維持する描画装置を用いて行う描画方法であって、
（ａ）貫通孔が形成された基板を準備する工程と、
（ｂ）前記第１及び第２の吐出領域から前記基板に向けて液滴を吐出する工程と
を有し、
前記工程（ｂ）において、貫通孔の形成された位置の前記基板を吸引せず、貫通孔の形成されない位置の前記基板を吸引した状態で、前記基板に向けて液滴を吐出する描画方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２０１２−８６１９４（Ｐ２０１２−８６１９４Ａ）
【公開日】平成２４年５月１０日（２０１２．５．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２３６９８９（Ｐ２０１０−２３６９８９）
【出願日】平成２２年１０月２２日（２０１０．１０．２２）
【出願人】（０００００２１０７）住友重機械工業株式会社 (2,241)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年５月１０日（２０１２．５．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１０月２２日（２０１０．１０．２２）
【出願人】（０００００２１０７）住友重機械工業株式会社 (2,241)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]