液処理装置
【課題】処理物に対して処理液を均一に浸すことができる液処理装置を提供すること。
【解決手段】基板２０上のカバーフィルム２１に対して剥離液５１を浸すことによって、このカバーフィルム２１に化学反応処理を施す液処理装置において、基板２０を搬送するローラー３０と、剥離液５１を噴出する第一シャワーヘッド５０と、この第一シャワーヘッド５０とローラー３０との間に設けられ、剥離液５１が基板２０に直接噴射されるのを防止する邪魔板４０とを有するフィルム膨潤剥離区間を備える。このため、第一シャワーヘッド５０から噴射される剥離液５１が基板２０表面のカバーフィルム２１に直接噴射されるのを防止することができるので、基板２０表面の剥離液５１の流れを抑制することができ、基板２０表面全体に剥離液５１を行き渡らせることができ、カバーフィルム２１全体を膨潤剥離させることができる。
【解決手段】基板２０上のカバーフィルム２１に対して剥離液５１を浸すことによって、このカバーフィルム２１に化学反応処理を施す液処理装置において、基板２０を搬送するローラー３０と、剥離液５１を噴出する第一シャワーヘッド５０と、この第一シャワーヘッド５０とローラー３０との間に設けられ、剥離液５１が基板２０に直接噴射されるのを防止する邪魔板４０とを有するフィルム膨潤剥離区間を備える。このため、第一シャワーヘッド５０から噴射される剥離液５１が基板２０表面のカバーフィルム２１に直接噴射されるのを防止することができるので、基板２０表面の剥離液５１の流れを抑制することができ、基板２０表面全体に剥離液５１を行き渡らせることができ、カバーフィルム２１全体を膨潤剥離させることができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上の処理物に処理液を浸す液処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、例えば、プラズマディスプレイパネルや液晶ディスプレイパネルなどのディスプレイパネルの製造工程において、ガラス基板上に電極パターンを形成する際、例えばフォトリソグラフィ法などが用いられている。このフォトリソグラフィ法は、（Ａ）薄膜形成工程、（Ｂ）現像処理工程、（Ｃ）エッチング処理工程および（Ｄ）レジスト剥離工程の４工程を順に経ることにより、基板上にパターンを形成する方法である。
【０００３】
例えばフォトリソグラフィ法によりディスプレイパネルのガラス基板上に電極パターンを形成する場合、（Ａ）薄膜形成工程では、ガラス基板上の全領域にパターニングしたい電極材料の薄膜をスパッタリングなどの方法により形成し、さらに感光性材料であるレジスト層を一様に形成する。（Ｂ）現像処理工程では、前工程で形成されたレジストに所望のパターンのUV光を照射・露光し、感光せずに硬化しないまま基板上に残ったレジストのみを現像液で除去することによって現像する。これらの現像されたレジストパターンは、水洗、乾燥した後、基板とレジストとの密着性を向上させるためにポストベーク処理が施される。さらに、（Ｃ）エッチング処理工程では、前工程で形成したレジストパターンをマスクとして、電極材料薄膜をエッチング処理液により除去する。レジストはこのエッチング処理液に対して耐性を有するため、電極材料薄膜のレジストパターンに被覆されていない部分のみが除去され、ガラス基板が剥き出しになる。水洗、乾燥後に、（Ｄ）レジスト剥離工程では、前工程で残されたレジストパターンがレジスト剥離液により除去され、水洗、乾燥処理が行われる。これにより、ガラス基板上には所望の電極材料のパターンのみが形成される。
【０００４】
従来、上述した（Ｄ）のようなレジスト等のカバーフィルムを剥離する際に、槽に剥離液を満たし、その中にカバーフィルムに被膜された基板を浸すことにより、カバーフィルムと剥離液との間で化学反応を発生させて、カバーフィルムを剥離するという、いわゆるディップ式の剥離装置が存在する（例えば、特許文献１参照）。
しかしながら、ディップ式の剥離装置は、例えばプラズマディスプレイパネル等のように製造物が大きい場合には、多量の剥離液を使用しなければならない点や、基板を槽内へ搬送する場合の搬送手段が複雑化するため好ましくない。
このような問題点を鑑みて、プラズマディスプレイパネルのような大きな製造物を製造する製造工程では、搬送手段により搬送される基板に対して、上側から剥離液をシャワーによって噴射する剥離装置が用いられている（例えば、特許文献２参照）。
【０００５】
【特許文献１】特開平１０−８３９４６号
【特許文献２】特開２００５−１７５０９１号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献２のような剥離装置の場合、基板に剥離液を直接噴射するので、剥離液が基板上を均一に漂わなくなり、剥離液が部分的に基板上を流れる箇所が発生するため、ディップ式のように、基板が一様に剥離液に浸ることがない。剥離液が均一に漂わないとカバーフィルムが良好に化学反応する箇所と、そうでない箇所が発生する。すなわち、基板面内でムラが発生する。さらには、剥離装置の場合には、一旦剥離されたカバーフィルムが直後に噴射されたシャワーの圧力によって、基板に再付着してしまうという問題が一例として挙げられる。
【０００７】
本発明は、処理物に対して処理液を均一に浸すことができる液処理装置を提供することを１つの目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１に記載の発明は、基板上の処理物に対して処理液を浸すことによって、この処理物に化学反応処理を施す液処理装置において、前記基板を搬送する搬送手段と、前記搬送手段の上側に設けられ前記処理液を前記処理物に噴出する処理液供給部と、前記処理液供給部と前記搬送手段との間に設けられ前記処理液供給部から噴出される前記処理液が前記搬送手段により搬送される前記基板に対して直接噴射されるのを防止する遮蔽板と、を有する第一のエリアを備えたことを特徴とする液処理装置である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。
【００１０】
以下、本実施形態を図１から図６に基づいて説明する。
図１は、本実施形態の剥離装置の模式図である。図２は、本実施形態の剥離装置の邪魔板の斜視図である。図３は、本実施形態の邪魔板を搬送ローラー受部に設置した状態を拡大した側面図である。図４は、本実施形態の邪魔板を搬送ローラー受部に設置した状態を拡大した正面図である。図５は、本実施形態の剥離装置のフィルム膨潤剥離区間の拡大図である。図６は、本実施形態の剥離装置のフィルム除去区間の拡大図である。
【００１１】
〔本発明の実施形態の液処理装置の構成〕
図１に示したように、本実施形態の液処理装置１は、第一のエリアとしてのフィルム膨潤剥離区間Ａと、第二のエリアとしてのフィルム除去区間Ｂとを備えている。
このフィルム膨潤剥離区間Ａは、筐体１０内で基板２０を搬送する搬送手段としてのローラー３０と、このローラー３０の上方に設けられた処理液である剥離液５１を基板２０に向けて噴出する処理液供給部としての第一シャワーヘッド５０と、剥離液５１が基板２０に直接噴射されるのを防止する遮蔽板としての邪魔板４０とを備えている。また、第一シャワーヘッド５０の先端は剥離液５１が放射状に噴射される略円錐形状となっている。
フィルム除去区間Ｂは、基板２０を搬送するローラー３０と、このローラー３０の上方に設けられた洗浄液６１を基板２０に向けて噴出する洗浄液供給部としての第二シャワーヘッド６０とを備えている。この第二シャワーヘッド６０の先端は、洗浄液６１を線状に噴射する形状、例えば、外周が円錐状となっており、さらに基板２０の搬送方向に対向する向きに設けられている。
なお、フィルム膨潤剥離区間Ａは基板２０の搬送方向の上流側に位置し、フィルム除去区間Ｂは基板２０の搬送方向の下流側に位置している。
【００１２】
図２に示したように、邪魔板４０は、平面が長尺矩形状の板部４１と、この板部４１の同一平面上に垂直となるように設けられた第一固定手段としての２つの第一固定爪４２と、これら第一固定爪４２の間に位置する２つの第二固定爪４３とを備えている。
そして、第一固定爪４２は、２つの対となる矩形状突起部であり、かつ、この矩形状突起部の長辺と板部４１の短辺とが平行になるように備えられ、第二固定爪４３は、板部４１と第一固定爪４２とに垂直となるように備えられている。
また、邪魔板４０は剥離液５１による腐食等の劣化を防ぐために耐性のある材質としてステンレス材を用いている。
【００１３】
図３、４に示したように、基板２０はガラス基板２２を有し、このガラス基板２２を覆うカバーフィルム２１を有する構造である。また、このガラス板２２は前工程においてエッチング処理されることで削り取られた凹部Ｃを有している。
ローラー３０は、搬送経路に沿って複数並列しており、基板２０に当接して支持する径大部３１と、この径大部３１の両端に回転軸となる径小部３２とを備えている。
また、ローラー受７０は、径大部３１の両端の径小部３２を軸支する２個１対の構成となっており、ローラー３０同様に搬送経路に沿って複数並列している。
そして、邪魔板４０は、板部４１が隣り合う２対のローラー受７０により載置され、２つの第一固定爪４２が搬送経路両端の外側からローラー受７０を挟み込むように係合することでローラー３０の回転軸方向へのずれを規制され、２つの第二固定爪４３がそれぞれ隣接するローラー受７０の間に差込まれることでローラー３０の回転軸に垂直となる方向へのずれを規制されている。
【００１４】
[本実施形態の液処理方法]
図５に示したように、液処理装置１のローラー３０が回転することにより、ローラー３０に載置される基板２０は、フィルム膨潤剥離区間Ａへと搬送される。この搬送された基板２０は、第一シャワーヘッド５０から噴出する剥離液５１が基板２０の表面に設けられたカバーフィルム２１に滴下される。このとき、剥離液５１は第一シャワーヘッド５０から邪魔板４０へと噴射され、邪魔板４０の長辺両端側から流下するため、剥離液５１がカバーフィルム２１に均一に広がる。そして、カバーフィルム２１は剥離液５１によって化学反応を起こして膨潤し、ガラス板２２から剥離する。
【００１５】
その後、図６に示したように、ローラー３０の回転によりカバーフィルム２１が剥離した基板２０はフィルム除去区間Ｂへと搬送され、第二シャワーヘッド６０から噴出する洗浄液６１が剥離したカバーフィルム２１に直接噴射されるため、この洗浄液６１の噴射圧力によりガラス板２２からカバーフィルム２１が除去される。また、このとき第二シャワーヘッド６０は基板２０の搬送方向と対向する方向へと洗浄液６１を噴射するため、ガラス板２２の表面に洗浄液の流れが発生してガラス板２２からカバーフィルム２１が除去され易くなっている。なお、洗浄液６１は、剥離液５１と同一液でもよいが、ガラス板２２上の剥離したカバーフィルム２１を除去し、ガラス板２２上を洗浄することが目的であるため、洗浄液６１は純水でも特に構わない。
【００１６】
［本実施形態の液処理装置の作用効果］
上記のような構成の本実施形態によれば、以下の作用効果を奏することができる。
【００１７】
（１）本実施形態の液処理装置１のフィルム膨潤剥離区間Ａには、ローラー３０の上方に設けられた第一シャワーヘッド５０とローラー３０により搬送される基板２０との間に邪魔板４０が設けられている。
このため、第一シャワーヘッド５０から噴射される剥離液５１が基板２０表面のカバーフィルム２１に直接噴射されるのを防止することができるので、基板２０表面の剥離液５１の流れを抑制することができる。これにより、剥離液５１が基板２０表面を均一に漂わなくなり、剥離液５１が部分的に基板２０表面を流れることで、カバーフィルム２１に化学反応を起こして膨潤して剥離する箇所と、そうでない箇所とが発生する、いわゆる剥離ムラを起こすおそれをなくすことができる。
従って、基板２０表面全体に剥離液を行き渡らせることができ、カバーフィルム２１全体を膨潤剥離させることができる。すなわち、擬似的にディップ式液処理装置と同様の状態を得ることができる。
（２）さらに、上記構成は、剥離液５１を直接カバーフィルム２１に噴射しないため、膨潤剥離したカバーフィルム２１を剥離液５１の噴射圧力によって再び付着させてしまうようなおそれをなくすことができる。
【００１８】
（３）本実施形態の液処理装置１は、従来の液処理装置１の第一シャワーヘッド５０とローラー３０との間に邪魔板４０を設けるだけの構成である。
このため、従来の液処理装置１のローラー受７０に邪魔板４０を取り付けるだけでよく、大規模若しくは複雑な改造を施す必要がなく、容易に実施することができる。
【００１９】
（４）邪魔板４０は、長尺矩形状の板部４１と、この板部４１の同一平面上に垂直となるように設けられた２つの矩形状突起部であり、かつ、この矩形状突起部の長辺と板部４１の短辺とが平行になるように備えられた２つの第一固定爪４２と、これら第一固定爪４２の間に位置し、板部４１と第一固定爪４２とに垂直となるように備えられた２つの第二固定爪４３とを備えている。
このため、邪魔板４０は、板部４１が２つのローラー受７０に載置でき、第一固定爪４２が２つのローラー受７０を挟むようにローラー３０の外側から係合するのでローラー３０の回転軸方向へのずれを規制することができ、さらに２つの第二固定爪４３がそれぞれ並列するローラー受７０の間に差込まれることでローラー３０の回転軸に垂直となる方向へのずれを規制することができる。
よって、邪魔板４０は、従来の液処理装置１のローラー受７０の所定の位置に載置するだけで簡単に設置することができ、なおかつ位置ずれを防いで液処理装置１に固定することができる。
【００２０】
（５）このローラー３０の上方に設けられ洗浄液６１を噴出する第二シャワーヘッド６０の先端は、洗浄液６１を線状に噴射する形状となっており、さらに基板２０の搬送方向に対向する向きに設けられている。
このため、第二シャワーヘッド６０から噴出する線状の洗浄液６１を剥離したカバーフィルム２１に直接噴射することができるため、この洗浄液６１の噴射圧力によりガラス板２２からカバーフィルム２１を効率よく除去することができる。また、第二シャワーヘッド６０は基板２０の搬送方向と対向する方向へと洗浄液６１を噴射することができるため、ガラス板２２上に洗浄液の流れを発生させることができるので、カバーフィルム２１をガラス板２２から確実に除去することができる。
【００２１】
（６）邪魔板４０の材質はステンレス材である。このため、邪魔板４０は剥離液５１によって、腐食等の劣化に対して耐性を有する。
従って、剥離液５１による邪魔板４０の劣化を防ぐことができ、長期間連続して液処理装置１を使用することができる。
【００２２】
[本実施形態のガラス構造物の形成方法の変形例]
本実施形態では、液処理装置１は剥離装置として説明したが、それには限らない。すなわち、化学反応によって基板２０上の不要な物質を除去する場合であって、処理液の塗布ムラによる化学反応の面内ムラが起因して、その除去に不具合が発生するといった以下に記載する各例に適応可能である。
【００２３】
例えば、本実施形態の液処理装置１は現像装置にも適応可能であり、その作用効果として（１）、（３）〜（６）が得られる。なお、現像装置においても、本実施形態とほぼ同様の構成であるため、同一の構成についてはここでの説明を省略する。本実施形態と異なる構成は、処理液として剥離液５１の代わりに現像液を用いることである。
現像装置の動作は、現像工程の前工程である露光工程にて露光された感光膜を被覆した基板２０が区間Ａに搬送され、本実施形態同様に邪魔板４０を介して現像液が噴射される。これにより、露光工程にてパターン露光された感光膜のうち、パターンとして不要な部分が化学反応によりガラス板２２から除去され、その後、区間Ｂにおいて洗浄液６１によってガラス板２２から不純物が除去される。
【００２４】
例えば、本実施形態の液処理装置１はエッチング装置にも適応可能であり、その作用効果として（１）、（３）〜（６）が得られる。なお、エッチング装置においても、本実施形態とほぼ同様の構成であるため、同一の構成についてはここでの説明を省略する。本実施形態と異なる構成は、処理液として剥離液５１の代わりにエッチング液を用いることである。
エッチング装置の動作は、前工程によってベタで成膜された構造物の材料層（例えば、電極材層）、及びこのベタ層上に形成され、パターニングされたカバーフィルムが被覆された基板２０が区間Ａに搬送され、本実施形態同様に邪魔板４０を介してエッチング液が噴射される。これにより、カバーフィルムが被覆されていない部分のベタ層が、エッチング液によって化学反応を起こしてガラス板２２から除去され、その後、区間Ｂにおいて洗浄液６１によってガラス板２２から不純物が除去される。
【００２５】
例えば、本実施形態の液処理装置１は化学反応を用いて基板２０上の不純物を洗浄する洗浄装置にも適応可能であり、その作用効果として（１）、（３）〜（６）が得られる。なお、洗浄装置においても、本実施形態とほぼ同様の構成であるため、同一の構成についてはここでの説明を省略する。本実施形態と異なる構成は、処理液として剥離液５１の代わりに化学洗浄液を用いることである。
洗浄装置の動作は、不純物の付着した基板２０が区間Ａに搬送され、本実施形態同様に邪魔板４０を介して化学洗浄液を噴射される。これにより、
ガラス板２２上に付着した不純物が、化学洗浄液によって化学反応を起こしてガラス板２２から除去され、その後、区間Ｂにおいて洗浄液６１によってガラス板２２から残留する不純物が除去される。なお、区間Ａで十分に不純物を除去できる場合は、区間Ｂは省略しても構わない。
【００２６】
[実施形態の作用効果]
上述したように、上記液処理装置１では、基板２０上のカバーフィルム２１に対して剥離液５１を浸すことによって、このカバーフィルム２１に化学反応処理を施す液処理装置１において、前記基板２０を搬送するローラー３０と、前記ローラー３０の上側に設けられて前記剥離液５１を噴出する第一シャワーヘッド５０と、前記第一シャワーヘッド５０と前記ローラー３０との間に設けられて、前記第一シャワーヘッド５０から噴出される前記剥離液５１が前記ローラー３０により搬送される前記基板２０に対して直接噴射されるのを防止する邪魔板４０と、を有する区間Ａを備える。
このため、第一シャワーヘッド５０から噴射される剥離液５１が基板２０表面のカバーフィルム２１に直接噴射されるのを防止することができるので、基板２０表面の剥離液５１の流れを抑制することができる。これにより、剥離液５１が基板２０表面を均一に漂わなくなり、剥離液５１が部分的に基板２０表面を流れることで、カバーフィルム２１に膨潤して剥離する箇所と、そうでない箇所とが発生する、いわゆる剥離ムラを起こすおそれをなくすことができる。
従って、基板２０表面全体に剥離液を行き渡らせることができ、カバーフィルム２１全体を膨潤剥離させることができる。すなわち、擬似的にディップ式液処理装置と同様の状態を得ることができる。
さらに、上記構成は、剥離液５１を直接カバーフィルム２１に噴射しないため、膨潤剥離したカバーフィルム２１を剥離液５１の噴射圧力によって再び付着させてしまうおそれをなくすことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本実施形態の剥離装置の模式図。
【図２】本実施形態の剥離装置の邪魔板の斜視図。
【図３】本実施形態の邪魔板を搬送ローラー受に設置した状態を拡大した側面図。
【図４】本実施形態の邪魔板を搬送ローラー受に設置した状態を拡大した正面図。
【図５】本実施形態の剥離装置のフィルム膨潤剥離区間の拡大図。
【図６】本実施形態の剥離装置のフィルム除去区間の拡大図。
【符号の説明】
【００２８】
１…液処理装置
２０…基板
２１…カバーフィルム（処理物）
２２…ガラス板
３０…ローラー（搬送手段）
４０…邪魔板（遮蔽板）
４２…第一固定爪（第一固定手段）
４３…第二固定爪（第二固定手段）
５０…第一シャワーヘッド（処理液供給部）
５１…剥離液（処理液）
６０…第二シャワーヘッド（洗浄液供給部）
６１…洗浄液
７０…ローラー受（保持手段）
Ａ…フィルム膨潤剥離区間
Ｂ…フィルム除去区間
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上の処理物に処理液を浸す液処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、例えば、プラズマディスプレイパネルや液晶ディスプレイパネルなどのディスプレイパネルの製造工程において、ガラス基板上に電極パターンを形成する際、例えばフォトリソグラフィ法などが用いられている。このフォトリソグラフィ法は、（Ａ）薄膜形成工程、（Ｂ）現像処理工程、（Ｃ）エッチング処理工程および（Ｄ）レジスト剥離工程の４工程を順に経ることにより、基板上にパターンを形成する方法である。
【０００３】
例えばフォトリソグラフィ法によりディスプレイパネルのガラス基板上に電極パターンを形成する場合、（Ａ）薄膜形成工程では、ガラス基板上の全領域にパターニングしたい電極材料の薄膜をスパッタリングなどの方法により形成し、さらに感光性材料であるレジスト層を一様に形成する。（Ｂ）現像処理工程では、前工程で形成されたレジストに所望のパターンのUV光を照射・露光し、感光せずに硬化しないまま基板上に残ったレジストのみを現像液で除去することによって現像する。これらの現像されたレジストパターンは、水洗、乾燥した後、基板とレジストとの密着性を向上させるためにポストベーク処理が施される。さらに、（Ｃ）エッチング処理工程では、前工程で形成したレジストパターンをマスクとして、電極材料薄膜をエッチング処理液により除去する。レジストはこのエッチング処理液に対して耐性を有するため、電極材料薄膜のレジストパターンに被覆されていない部分のみが除去され、ガラス基板が剥き出しになる。水洗、乾燥後に、（Ｄ）レジスト剥離工程では、前工程で残されたレジストパターンがレジスト剥離液により除去され、水洗、乾燥処理が行われる。これにより、ガラス基板上には所望の電極材料のパターンのみが形成される。
【０００４】
従来、上述した（Ｄ）のようなレジスト等のカバーフィルムを剥離する際に、槽に剥離液を満たし、その中にカバーフィルムに被膜された基板を浸すことにより、カバーフィルムと剥離液との間で化学反応を発生させて、カバーフィルムを剥離するという、いわゆるディップ式の剥離装置が存在する（例えば、特許文献１参照）。
しかしながら、ディップ式の剥離装置は、例えばプラズマディスプレイパネル等のように製造物が大きい場合には、多量の剥離液を使用しなければならない点や、基板を槽内へ搬送する場合の搬送手段が複雑化するため好ましくない。
このような問題点を鑑みて、プラズマディスプレイパネルのような大きな製造物を製造する製造工程では、搬送手段により搬送される基板に対して、上側から剥離液をシャワーによって噴射する剥離装置が用いられている（例えば、特許文献２参照）。
【０００５】
【特許文献１】特開平１０−８３９４６号
【特許文献２】特開２００５−１７５０９１号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献２のような剥離装置の場合、基板に剥離液を直接噴射するので、剥離液が基板上を均一に漂わなくなり、剥離液が部分的に基板上を流れる箇所が発生するため、ディップ式のように、基板が一様に剥離液に浸ることがない。剥離液が均一に漂わないとカバーフィルムが良好に化学反応する箇所と、そうでない箇所が発生する。すなわち、基板面内でムラが発生する。さらには、剥離装置の場合には、一旦剥離されたカバーフィルムが直後に噴射されたシャワーの圧力によって、基板に再付着してしまうという問題が一例として挙げられる。
【０００７】
本発明は、処理物に対して処理液を均一に浸すことができる液処理装置を提供することを１つの目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１に記載の発明は、基板上の処理物に対して処理液を浸すことによって、この処理物に化学反応処理を施す液処理装置において、前記基板を搬送する搬送手段と、前記搬送手段の上側に設けられ前記処理液を前記処理物に噴出する処理液供給部と、前記処理液供給部と前記搬送手段との間に設けられ前記処理液供給部から噴出される前記処理液が前記搬送手段により搬送される前記基板に対して直接噴射されるのを防止する遮蔽板と、を有する第一のエリアを備えたことを特徴とする液処理装置である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。
【００１０】
以下、本実施形態を図１から図６に基づいて説明する。
図１は、本実施形態の剥離装置の模式図である。図２は、本実施形態の剥離装置の邪魔板の斜視図である。図３は、本実施形態の邪魔板を搬送ローラー受部に設置した状態を拡大した側面図である。図４は、本実施形態の邪魔板を搬送ローラー受部に設置した状態を拡大した正面図である。図５は、本実施形態の剥離装置のフィルム膨潤剥離区間の拡大図である。図６は、本実施形態の剥離装置のフィルム除去区間の拡大図である。
【００１１】
〔本発明の実施形態の液処理装置の構成〕
図１に示したように、本実施形態の液処理装置１は、第一のエリアとしてのフィルム膨潤剥離区間Ａと、第二のエリアとしてのフィルム除去区間Ｂとを備えている。
このフィルム膨潤剥離区間Ａは、筐体１０内で基板２０を搬送する搬送手段としてのローラー３０と、このローラー３０の上方に設けられた処理液である剥離液５１を基板２０に向けて噴出する処理液供給部としての第一シャワーヘッド５０と、剥離液５１が基板２０に直接噴射されるのを防止する遮蔽板としての邪魔板４０とを備えている。また、第一シャワーヘッド５０の先端は剥離液５１が放射状に噴射される略円錐形状となっている。
フィルム除去区間Ｂは、基板２０を搬送するローラー３０と、このローラー３０の上方に設けられた洗浄液６１を基板２０に向けて噴出する洗浄液供給部としての第二シャワーヘッド６０とを備えている。この第二シャワーヘッド６０の先端は、洗浄液６１を線状に噴射する形状、例えば、外周が円錐状となっており、さらに基板２０の搬送方向に対向する向きに設けられている。
なお、フィルム膨潤剥離区間Ａは基板２０の搬送方向の上流側に位置し、フィルム除去区間Ｂは基板２０の搬送方向の下流側に位置している。
【００１２】
図２に示したように、邪魔板４０は、平面が長尺矩形状の板部４１と、この板部４１の同一平面上に垂直となるように設けられた第一固定手段としての２つの第一固定爪４２と、これら第一固定爪４２の間に位置する２つの第二固定爪４３とを備えている。
そして、第一固定爪４２は、２つの対となる矩形状突起部であり、かつ、この矩形状突起部の長辺と板部４１の短辺とが平行になるように備えられ、第二固定爪４３は、板部４１と第一固定爪４２とに垂直となるように備えられている。
また、邪魔板４０は剥離液５１による腐食等の劣化を防ぐために耐性のある材質としてステンレス材を用いている。
【００１３】
図３、４に示したように、基板２０はガラス基板２２を有し、このガラス基板２２を覆うカバーフィルム２１を有する構造である。また、このガラス板２２は前工程においてエッチング処理されることで削り取られた凹部Ｃを有している。
ローラー３０は、搬送経路に沿って複数並列しており、基板２０に当接して支持する径大部３１と、この径大部３１の両端に回転軸となる径小部３２とを備えている。
また、ローラー受７０は、径大部３１の両端の径小部３２を軸支する２個１対の構成となっており、ローラー３０同様に搬送経路に沿って複数並列している。
そして、邪魔板４０は、板部４１が隣り合う２対のローラー受７０により載置され、２つの第一固定爪４２が搬送経路両端の外側からローラー受７０を挟み込むように係合することでローラー３０の回転軸方向へのずれを規制され、２つの第二固定爪４３がそれぞれ隣接するローラー受７０の間に差込まれることでローラー３０の回転軸に垂直となる方向へのずれを規制されている。
【００１４】
[本実施形態の液処理方法]
図５に示したように、液処理装置１のローラー３０が回転することにより、ローラー３０に載置される基板２０は、フィルム膨潤剥離区間Ａへと搬送される。この搬送された基板２０は、第一シャワーヘッド５０から噴出する剥離液５１が基板２０の表面に設けられたカバーフィルム２１に滴下される。このとき、剥離液５１は第一シャワーヘッド５０から邪魔板４０へと噴射され、邪魔板４０の長辺両端側から流下するため、剥離液５１がカバーフィルム２１に均一に広がる。そして、カバーフィルム２１は剥離液５１によって化学反応を起こして膨潤し、ガラス板２２から剥離する。
【００１５】
その後、図６に示したように、ローラー３０の回転によりカバーフィルム２１が剥離した基板２０はフィルム除去区間Ｂへと搬送され、第二シャワーヘッド６０から噴出する洗浄液６１が剥離したカバーフィルム２１に直接噴射されるため、この洗浄液６１の噴射圧力によりガラス板２２からカバーフィルム２１が除去される。また、このとき第二シャワーヘッド６０は基板２０の搬送方向と対向する方向へと洗浄液６１を噴射するため、ガラス板２２の表面に洗浄液の流れが発生してガラス板２２からカバーフィルム２１が除去され易くなっている。なお、洗浄液６１は、剥離液５１と同一液でもよいが、ガラス板２２上の剥離したカバーフィルム２１を除去し、ガラス板２２上を洗浄することが目的であるため、洗浄液６１は純水でも特に構わない。
【００１６】
［本実施形態の液処理装置の作用効果］
上記のような構成の本実施形態によれば、以下の作用効果を奏することができる。
【００１７】
（１）本実施形態の液処理装置１のフィルム膨潤剥離区間Ａには、ローラー３０の上方に設けられた第一シャワーヘッド５０とローラー３０により搬送される基板２０との間に邪魔板４０が設けられている。
このため、第一シャワーヘッド５０から噴射される剥離液５１が基板２０表面のカバーフィルム２１に直接噴射されるのを防止することができるので、基板２０表面の剥離液５１の流れを抑制することができる。これにより、剥離液５１が基板２０表面を均一に漂わなくなり、剥離液５１が部分的に基板２０表面を流れることで、カバーフィルム２１に化学反応を起こして膨潤して剥離する箇所と、そうでない箇所とが発生する、いわゆる剥離ムラを起こすおそれをなくすことができる。
従って、基板２０表面全体に剥離液を行き渡らせることができ、カバーフィルム２１全体を膨潤剥離させることができる。すなわち、擬似的にディップ式液処理装置と同様の状態を得ることができる。
（２）さらに、上記構成は、剥離液５１を直接カバーフィルム２１に噴射しないため、膨潤剥離したカバーフィルム２１を剥離液５１の噴射圧力によって再び付着させてしまうようなおそれをなくすことができる。
【００１８】
（３）本実施形態の液処理装置１は、従来の液処理装置１の第一シャワーヘッド５０とローラー３０との間に邪魔板４０を設けるだけの構成である。
このため、従来の液処理装置１のローラー受７０に邪魔板４０を取り付けるだけでよく、大規模若しくは複雑な改造を施す必要がなく、容易に実施することができる。
【００１９】
（４）邪魔板４０は、長尺矩形状の板部４１と、この板部４１の同一平面上に垂直となるように設けられた２つの矩形状突起部であり、かつ、この矩形状突起部の長辺と板部４１の短辺とが平行になるように備えられた２つの第一固定爪４２と、これら第一固定爪４２の間に位置し、板部４１と第一固定爪４２とに垂直となるように備えられた２つの第二固定爪４３とを備えている。
このため、邪魔板４０は、板部４１が２つのローラー受７０に載置でき、第一固定爪４２が２つのローラー受７０を挟むようにローラー３０の外側から係合するのでローラー３０の回転軸方向へのずれを規制することができ、さらに２つの第二固定爪４３がそれぞれ並列するローラー受７０の間に差込まれることでローラー３０の回転軸に垂直となる方向へのずれを規制することができる。
よって、邪魔板４０は、従来の液処理装置１のローラー受７０の所定の位置に載置するだけで簡単に設置することができ、なおかつ位置ずれを防いで液処理装置１に固定することができる。
【００２０】
（５）このローラー３０の上方に設けられ洗浄液６１を噴出する第二シャワーヘッド６０の先端は、洗浄液６１を線状に噴射する形状となっており、さらに基板２０の搬送方向に対向する向きに設けられている。
このため、第二シャワーヘッド６０から噴出する線状の洗浄液６１を剥離したカバーフィルム２１に直接噴射することができるため、この洗浄液６１の噴射圧力によりガラス板２２からカバーフィルム２１を効率よく除去することができる。また、第二シャワーヘッド６０は基板２０の搬送方向と対向する方向へと洗浄液６１を噴射することができるため、ガラス板２２上に洗浄液の流れを発生させることができるので、カバーフィルム２１をガラス板２２から確実に除去することができる。
【００２１】
（６）邪魔板４０の材質はステンレス材である。このため、邪魔板４０は剥離液５１によって、腐食等の劣化に対して耐性を有する。
従って、剥離液５１による邪魔板４０の劣化を防ぐことができ、長期間連続して液処理装置１を使用することができる。
【００２２】
[本実施形態のガラス構造物の形成方法の変形例]
本実施形態では、液処理装置１は剥離装置として説明したが、それには限らない。すなわち、化学反応によって基板２０上の不要な物質を除去する場合であって、処理液の塗布ムラによる化学反応の面内ムラが起因して、その除去に不具合が発生するといった以下に記載する各例に適応可能である。
【００２３】
例えば、本実施形態の液処理装置１は現像装置にも適応可能であり、その作用効果として（１）、（３）〜（６）が得られる。なお、現像装置においても、本実施形態とほぼ同様の構成であるため、同一の構成についてはここでの説明を省略する。本実施形態と異なる構成は、処理液として剥離液５１の代わりに現像液を用いることである。
現像装置の動作は、現像工程の前工程である露光工程にて露光された感光膜を被覆した基板２０が区間Ａに搬送され、本実施形態同様に邪魔板４０を介して現像液が噴射される。これにより、露光工程にてパターン露光された感光膜のうち、パターンとして不要な部分が化学反応によりガラス板２２から除去され、その後、区間Ｂにおいて洗浄液６１によってガラス板２２から不純物が除去される。
【００２４】
例えば、本実施形態の液処理装置１はエッチング装置にも適応可能であり、その作用効果として（１）、（３）〜（６）が得られる。なお、エッチング装置においても、本実施形態とほぼ同様の構成であるため、同一の構成についてはここでの説明を省略する。本実施形態と異なる構成は、処理液として剥離液５１の代わりにエッチング液を用いることである。
エッチング装置の動作は、前工程によってベタで成膜された構造物の材料層（例えば、電極材層）、及びこのベタ層上に形成され、パターニングされたカバーフィルムが被覆された基板２０が区間Ａに搬送され、本実施形態同様に邪魔板４０を介してエッチング液が噴射される。これにより、カバーフィルムが被覆されていない部分のベタ層が、エッチング液によって化学反応を起こしてガラス板２２から除去され、その後、区間Ｂにおいて洗浄液６１によってガラス板２２から不純物が除去される。
【００２５】
例えば、本実施形態の液処理装置１は化学反応を用いて基板２０上の不純物を洗浄する洗浄装置にも適応可能であり、その作用効果として（１）、（３）〜（６）が得られる。なお、洗浄装置においても、本実施形態とほぼ同様の構成であるため、同一の構成についてはここでの説明を省略する。本実施形態と異なる構成は、処理液として剥離液５１の代わりに化学洗浄液を用いることである。
洗浄装置の動作は、不純物の付着した基板２０が区間Ａに搬送され、本実施形態同様に邪魔板４０を介して化学洗浄液を噴射される。これにより、
ガラス板２２上に付着した不純物が、化学洗浄液によって化学反応を起こしてガラス板２２から除去され、その後、区間Ｂにおいて洗浄液６１によってガラス板２２から残留する不純物が除去される。なお、区間Ａで十分に不純物を除去できる場合は、区間Ｂは省略しても構わない。
【００２６】
[実施形態の作用効果]
上述したように、上記液処理装置１では、基板２０上のカバーフィルム２１に対して剥離液５１を浸すことによって、このカバーフィルム２１に化学反応処理を施す液処理装置１において、前記基板２０を搬送するローラー３０と、前記ローラー３０の上側に設けられて前記剥離液５１を噴出する第一シャワーヘッド５０と、前記第一シャワーヘッド５０と前記ローラー３０との間に設けられて、前記第一シャワーヘッド５０から噴出される前記剥離液５１が前記ローラー３０により搬送される前記基板２０に対して直接噴射されるのを防止する邪魔板４０と、を有する区間Ａを備える。
このため、第一シャワーヘッド５０から噴射される剥離液５１が基板２０表面のカバーフィルム２１に直接噴射されるのを防止することができるので、基板２０表面の剥離液５１の流れを抑制することができる。これにより、剥離液５１が基板２０表面を均一に漂わなくなり、剥離液５１が部分的に基板２０表面を流れることで、カバーフィルム２１に膨潤して剥離する箇所と、そうでない箇所とが発生する、いわゆる剥離ムラを起こすおそれをなくすことができる。
従って、基板２０表面全体に剥離液を行き渡らせることができ、カバーフィルム２１全体を膨潤剥離させることができる。すなわち、擬似的にディップ式液処理装置と同様の状態を得ることができる。
さらに、上記構成は、剥離液５１を直接カバーフィルム２１に噴射しないため、膨潤剥離したカバーフィルム２１を剥離液５１の噴射圧力によって再び付着させてしまうおそれをなくすことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本実施形態の剥離装置の模式図。
【図２】本実施形態の剥離装置の邪魔板の斜視図。
【図３】本実施形態の邪魔板を搬送ローラー受に設置した状態を拡大した側面図。
【図４】本実施形態の邪魔板を搬送ローラー受に設置した状態を拡大した正面図。
【図５】本実施形態の剥離装置のフィルム膨潤剥離区間の拡大図。
【図６】本実施形態の剥離装置のフィルム除去区間の拡大図。
【符号の説明】
【００２８】
１…液処理装置
２０…基板
２１…カバーフィルム（処理物）
２２…ガラス板
３０…ローラー（搬送手段）
４０…邪魔板（遮蔽板）
４２…第一固定爪（第一固定手段）
４３…第二固定爪（第二固定手段）
５０…第一シャワーヘッド（処理液供給部）
５１…剥離液（処理液）
６０…第二シャワーヘッド（洗浄液供給部）
６１…洗浄液
７０…ローラー受（保持手段）
Ａ…フィルム膨潤剥離区間
Ｂ…フィルム除去区間
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の処理物に対して処理液を浸すことによって、この処理物に化学反応処理を施す液処理装置において、
前記基板を搬送する搬送手段と、前記搬送手段の上側に設けられ前記処理液を前記処理物に噴出する処理液供給部と、前記処理液供給部と前記搬送手段との間に設けられ前記処理液供給部から噴出される前記処理液が前記搬送手段により搬送される前記基板に対して直接噴射されるのを防止する遮蔽板と、を有する第一のエリアを備えたことを特徴とする液処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液処理装置であって、前記処理物は前記基板を覆うカバーフィルムであり、前記処理液は剥離液であり、第一のエリア内において前記化学反応処理により、前記カバーフィルムが前記剥離液と反応して前記基板から剥離することを特徴とする液処理装置。
【請求項３】
請求項１及び請求項２に記載の液処理装置であって、前記搬送手段は複数のローラーを有し、これらのローラーを前記基板の搬送経路の両側からローラー毎に保持する２個１対の保持手段を複数有し、前記搬送経路に沿って隣り合う２対の前記保持手段の上側に前記遮蔽板が載置され、前記遮蔽板には第一の固定手段及び第二の固定手段が設けられ、前記第一の固定手段が前記遮蔽板を載置する保持手段を前記搬送経路とは反対側から挟み込まれ、第二の固定手段が前記搬送経路に沿って隣り合う２対の前記保持手段との間に差込まれ、前記遮蔽板がこれらの保持手段上に固定されることを特徴とする液処理装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載の液処理装置であって、前記第一のエリアの前記基板の搬送方向下流側には前記搬送手段を備えた第二のエリアが設けられ、この第二のエリアには前記搬送手段の上側に配送される洗浄液を前記処理物に噴出する洗浄液供給部が設けられ、この洗浄液供給部から噴出される前記洗浄液が前記搬送手段により搬送される前記基板に対して直接噴射されることを特徴とする液処理装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれかに記載の液処理装置であって、前記処理物は露光後の感光膜であり、前記処理液は現像液であり、前記化学反応処理により、前記露光で形成された所望のパターン以外の感光膜が前記現像液と反応して前記基板から除去されることを特徴とする液処理装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれかに記載の液処理装置であって、前記処理物は前記基板上に形成するべき構造物の層であり、前記処理液はエッチング液であり、前記化学反応処理により、カバーフィルムに被膜された以外の前記構造物の層が前記エッチング液と反応してエッチングされることを特徴とする液処理装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれかに記載の液処理装置であって、前記処理液は洗浄液であり、前記化学反応処理により、前記基板に付着した不純物をこの基板上から取り除くことを特徴とする液処理装置。
【請求項１】
基板上の処理物に対して処理液を浸すことによって、この処理物に化学反応処理を施す液処理装置において、
前記基板を搬送する搬送手段と、前記搬送手段の上側に設けられ前記処理液を前記処理物に噴出する処理液供給部と、前記処理液供給部と前記搬送手段との間に設けられ前記処理液供給部から噴出される前記処理液が前記搬送手段により搬送される前記基板に対して直接噴射されるのを防止する遮蔽板と、を有する第一のエリアを備えたことを特徴とする液処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液処理装置であって、前記処理物は前記基板を覆うカバーフィルムであり、前記処理液は剥離液であり、第一のエリア内において前記化学反応処理により、前記カバーフィルムが前記剥離液と反応して前記基板から剥離することを特徴とする液処理装置。
【請求項３】
請求項１及び請求項２に記載の液処理装置であって、前記搬送手段は複数のローラーを有し、これらのローラーを前記基板の搬送経路の両側からローラー毎に保持する２個１対の保持手段を複数有し、前記搬送経路に沿って隣り合う２対の前記保持手段の上側に前記遮蔽板が載置され、前記遮蔽板には第一の固定手段及び第二の固定手段が設けられ、前記第一の固定手段が前記遮蔽板を載置する保持手段を前記搬送経路とは反対側から挟み込まれ、第二の固定手段が前記搬送経路に沿って隣り合う２対の前記保持手段との間に差込まれ、前記遮蔽板がこれらの保持手段上に固定されることを特徴とする液処理装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載の液処理装置であって、前記第一のエリアの前記基板の搬送方向下流側には前記搬送手段を備えた第二のエリアが設けられ、この第二のエリアには前記搬送手段の上側に配送される洗浄液を前記処理物に噴出する洗浄液供給部が設けられ、この洗浄液供給部から噴出される前記洗浄液が前記搬送手段により搬送される前記基板に対して直接噴射されることを特徴とする液処理装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれかに記載の液処理装置であって、前記処理物は露光後の感光膜であり、前記処理液は現像液であり、前記化学反応処理により、前記露光で形成された所望のパターン以外の感光膜が前記現像液と反応して前記基板から除去されることを特徴とする液処理装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれかに記載の液処理装置であって、前記処理物は前記基板上に形成するべき構造物の層であり、前記処理液はエッチング液であり、前記化学反応処理により、カバーフィルムに被膜された以外の前記構造物の層が前記エッチング液と反応してエッチングされることを特徴とする液処理装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれかに記載の液処理装置であって、前記処理液は洗浄液であり、前記化学反応処理により、前記基板に付着した不純物をこの基板上から取り除くことを特徴とする液処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２００９−１８３８４０（Ｐ２００９−１８３８４０Ａ）
【公開日】平成２１年８月２０日（２００９．８．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２５４０７（Ｐ２００８−２５４０７）
【出願日】平成２０年２月５日（２００８．２．５）
【出願人】（０００００５０１６）パイオニア株式会社 (3,620)
【出願人】（３９８０５０２８３）パイオニア・ディスプレイ・プロダクツ株式会社 (18)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年８月２０日（２００９．８．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年２月５日（２００８．２．５）
【出願人】（０００００５０１６）パイオニア株式会社 (3,620)
【出願人】（３９８０５０２８３）パイオニア・ディスプレイ・プロダクツ株式会社 (18)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]