液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法
【課題】製造時間を短縮できる液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る液晶表示装置は、第１基板、前記第１基板と対向する第２基板、前記第１基板及び前記第２基板のうちの一つ以上の基板に形成され、前記第１基板と前記第２基板との間に電界を形成する電極部、及び前記第１基板と前記第２基板との間に位置し、内部に液晶が位置する一つ以上の液晶空間を含む液晶フィルムを有する。
【解決手段】本発明に係る液晶表示装置は、第１基板、前記第１基板と対向する第２基板、前記第１基板及び前記第２基板のうちの一つ以上の基板に形成され、前記第１基板と前記第２基板との間に電界を形成する電極部、及び前記第１基板と前記第２基板との間に位置し、内部に液晶が位置する一つ以上の液晶空間を含む液晶フィルムを有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置はイメージを表示する装置であり、最近、表示装置に対する関心が増加するに伴い、表示装置の性能向上のための多様な技術が登場している。
【０００３】
多様な種類の表示装置のうち、液晶表示装置（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙａｙ ｄｅｖｉｃｅ、ＬＣＤ）が表示装置市場において大きい成功を収めているが、このような液晶表示装置を製造する企業等は自社の液晶表示装置の性能向上のために競争的に多くの技術を開発している。
【０００４】
このような液晶表示装置は両基板の間に位置する液晶層を含んでいる。この液晶層は、両基板の間に液晶材料を注入するか、または滴下（ｄｒｏｐ）することで、両基板の間に形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−０６６５７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、このような液晶層を両基板の間に位置させる工程は液晶表示装置の製造時間を増加させる要因になるという問題があった。
【０００７】
そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、製造時間を短縮することが可能な、新規かつ改良された液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、第１基板、前記第１基板と対向する第２基板、前記第１基板及び前記第２基板のうちの一つ以上の基板に形成され、前記第１基板と前記第２基板との間に電界を形成する電極部、及び前記第１基板と前記第２基板との間に位置し、内部に液晶が位置する一つ以上の液晶空間を含む液晶フィルムを有する液晶表示装置が提供される。
【０００９】
ここで、前記液晶空間は複数であり、前記液晶フィルムは、隣接する前記液晶空間の間に位置し前記液晶空間を形成する高分子物質をさらに含んでもよい。
【００１０】
また、前記液晶空間の幅は１ｎｍ〜３８０ｎｍであってもよい。
【００１１】
また、前記高分子物質は固体であってもよい。
【００１２】
また、前記電極部は、前記第１基板上に位置する第１電極、及び前記第１電極と前記液晶フィルムとの間に位置する第２電極を含んでもよい。
【００１３】
また、前記電極部は、前記第１基板上に位置する第３電極、及び前記第３電極と隣接して前記第１基板上に位置する第４電極を含んでもよい。
【００１４】
また、前記電極部は、前記第１基板上に位置する第５電極、及び前記第２基板と前記液晶フィルムとの間に位置する第６電極を含んでもよい。
【００１５】
また、前記電極部は複数の電極を含み、前記複数の電極のうちの一つ以上は一回以上折曲した形態であってもよい。
【００１６】
また、前記第１基板の外面に付着して第１光軸を有する第１偏光板、及び前記第２基板の外面に付着して前記第１光軸と交差する第２光軸を有する第２偏光板をさらに含んでもよい。
【００１７】
また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、第１基板、及び第２基板を用意する段階、前記第１基板と前記第２基板との間に電界を形成する電極部を前記第１基板及び前記第２基板のうちの一つ以上の基板に形成する段階、内部に液晶が位置する一つ以上の液晶空間を含む液晶フィルムを前記第１基板上に形成する段階、及び前記液晶フィルムを間において前記第１基板と前記第２基板とを合着する段階を含むことを特徴とする、液晶表示装置の製造方法が提供される。
【００１８】
ここで、前記液晶フィルムを形成する段階は、前記液晶フィルムを前記第１基板に印刷することで行ってもよい。
【００１９】
また、前記液晶フィルムを形成する段階は、前記液晶空間を形成する高分子物質を前記第１基板に塗布することで行ってもよい。
【００２０】
また、上記課題を解決するために、本発明のさらに別の観点によれば、第１母基板を一方向に移送する段階、内部に液晶が位置する一つ以上の液晶空間を含む液晶フィルムを前記第１母基板上に前記一方向に連続的に形成する段階、前記液晶フィルムを間において前記第１母基板上に第２母基板を位置させて前記第１母基板、前記液晶フィルム、及び第２母基板を前記一方向に移送する段階、及び前記第１母基板、前記液晶フィルム、及び前記第２母基板を所定の幅に切断する段階を含む液晶表示装置の製造方法が提供される。
【００２１】
ここで、前記第１母基板を移送する段階、前記液晶フィルムを連続的に形成する段階、及び前記第１母基板、前記液晶フィルム、及び第２母基板を移送する段階のうちの一つ以上の段階はロール（ｒｏｌｌ）を利用して行ってもよい。
【００２２】
また、前記液晶フィルムを連続的に形成する段階は、前記液晶空間を形成する高分子物質を前記第１母基板に塗布することで行ってもよい。
【００２３】
また、前記液晶フィルムを連続的に形成する段階は、前記液晶フィルムを前記第１母基板に印刷することで行ってもよい。
【００２４】
また、前記第１母基板及び前記第２母基板のうちの一つ以上の基板は可撓性（ｆｌｅｘｉｂｌｅ）基板であってもよい。
【発明の効果】
【００２５】
以上説明したように本発明によれば、液晶フィルムを含むことによって、製造時間が短縮された液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置を示した断面図である。
【図２】図１に示した本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置の電極部を示した平面図である。
【図３】本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置の動作を説明するための図面である。
【図４】本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を示したフローチャートである。
【図５】本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。
【図６】本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。
【図７】本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を示したフローチャートである。
【図８】本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。
【図９】本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。
【図１０】本発明の第４実施形態に係る液晶表示装置を示した断面図である。
【図１１】図１０に示した本発明の第４実施形態に係る液晶表示装置の電極部を示した平面図である。
【図１２】本発明の第５実施形態に係る液晶表示装置を示した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００２８】
また、図面に示した各構成の大きさ及び厚さは説明の便宜のために任意に示したため、本発明が必ずしも示されたとおりであるとは限られない。
【００２９】
図面において多数の層及び領域を明確に表現するために厚さを拡大して示した。また、図面において、説明の便宜のために一部層及び領域の厚さを誇張して示した。層、膜、領域、板などの部分が他の部分「上に」あるとする時、これは他の部分の「直上に」ある場合だけでなく、その中間にさらに他の部分がある場合も含む。
【００３０】
また、明細書全体において、ある部分が他の構成要素を「含む」とする時、これは特に反対となる記載がない限り、他の構成要素を除くのではなく他の構成要素をさらに包含できることを意味する。また、明細書全体において「〜上に」とは、対象の部分の上または下に位置することを意味し、必ずしも重力方向を基準に上側に位置することを意味するものではない。
【００３１】
以下、図１〜図３を参照して、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置を説明する。
【００３２】
図１は本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置を示した断面図である。
【００３３】
図１に示したように、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置１００１は、第１基板１００、第２基板２００、電極部３００、液晶フィルム４００、第１偏光板５００、及び第２偏光板６００を含む。
【００３４】
第１基板１００は、透明なガラス及びポリマーのうちの一つ以上を含む透明基板及び透明基板上に形成されたゲートライン（ｇａｔｅ ｌｉｎｅ）、データライン（ｄａｔａ ｌｉｎｅ）、及び薄膜トランジスター（ｔｈｉｎ ｆｉｌｍ ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、ＴＦＴ）等を含んでもよい。
【００３５】
第２基板２００は第１基板１００と対向し、第２基板２００と第１基板１００との間には離隔空間（Ｓ）が位置する。第２基板２００は透明なガラス及びポリマーのうちの一つ以上を含む透明基板及び第１基板１００に形成された薄膜トランジスターに対応して透明基板上に形成されたブラックマトリックス（ｂｌａｃｋ ｍａｔｒｉｘ、ＢＭ）等を含んでもよい。第２基板２００と第１基板１００との間に形成された離隔空間（Ｓ）には電極部３００が位置している。
【００３６】
電極部３００は第１基板１００と第２基板２００の間に形成された離隔空間（Ｓ）に電界（ｅｌｅｃｔｒｉｃ ｆｉｅｌｄ）を形成し、第１電極３１０及び第２電極３２０を含む。
【００３７】
第１電極３１０は第１基板１００上に位置し、酸化インジウムスズ（ｉｎｄｉｕｍ ｔｉｎ ｏｘｉｄｅ、ＩＴＯ）または酸化インジウム亜鉛（ｉｎｄｉｕｍ ｚｉｎｃ ｏｘｉｄｅ、ＩＺＯ）等のような透明導電物質を含む。第１電極３１０は第１基板１００上に板（ｐｌａｔｅ）状で形成されるか、または一部がパターニング（ｐａｔｔｅｒｎｉｎｇ）された板状で形成されてもよい。第１電極３１０上には絶縁層（ＩＬ）を間において第２電極３２０が位置している。
【００３８】
第２電極３２０は第１電極３１０と液晶フィルム４００の間に位置し、液晶表示装置１００１が表示するイメージ（ｉｍａｇｅ）の最小単位である各画素（ｐｉｘｅｌ）に対応する形状でパターニングされてもよい。第２電極３２０及び第１電極３１０に電圧が印加される時、第２電極３２０は第１電極３１０と共に離隔空間（Ｓ）に電界を形成する。第２電極３２０は酸化インジウムスズまたは酸化インジウム亜鉛などの透明導電物質を含む。
【００３９】
図２は図１に示した本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置の電極部を示した平面図である。
【００４０】
図２に示したように、第２電極３２０は各画素に対応して相互離隔した複数の電極を含み、複数の電極のうちの一つ以上の電極は一回以上折曲したた形態を有している。より詳細には、各画素に対応する各々の複数の電極は図２の（ａ）に示したように１回折曲した形状で位置してもよく、または図２の（ｂ）に示したように１回折曲した部分が離隔した形状で位置してもよい。
【００４１】
この場合、第１電極３１０及び第２電極３２０に電圧が印加されると、第２電極３２０の折曲した形状に沿って第１電極３１０と第２電極３２０との間に電界が形成され、この電界に対応してシフト（ｓｈｉｆｔ）された後述する液晶フィルム４００内の液晶は各画素に対応してマルチドメイン（ｍｕｌｔｉ ｄｏｍａｉｎ）を有するようになることによって、液晶表示装置１００１を正面から見る場合だけでなく液晶表示装置１００１を側面から見る場合においても、液晶表示装置１００１は光学的に等方性（ｉｓｏｔｒｏｐｙ）を有するようになる。即ち、第２電極３２０に含まれている各々の複数の電極が一回以上折曲した形状を有することによって、液晶表示装置１００１が広い範囲で光学的に等方性を有するため、液晶表示装置１００１の視野角が向上する。
【００４２】
以上のような電極部３００上には液晶フィルム４００が位置している。
【００４３】
図１をさらに参照すると、液晶フィルム４００は第１基板１００と第２基板２００との間に位置し、高分子物質４１０、液晶空間４２０、及び液晶４３０を含む。
【００４４】
高分子物質４１０は第１基板１００と第２基板２００との間に形成された離隔空間（Ｓ）を満たしており、固体からなる。高分子物質４１０内には複数の液晶空間４２０が形成され、高分子物質４１０は隣接する液晶空間４２０の間に位置している。このように高分子物質４１０が固体からなることによって、液晶空間４２０は高分子物質４１０内で高分子物質４１０によってその位置が支持される。
【００４５】
本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置１００１において高分子物質４１０は固体からなるが、本発明の他の実施形態に係る液晶表示装置における高分子物質は流体からなってもよく、この場合、液晶空間４２０は高分子物質４１０内で流動できるように配列されてもよい。
【００４６】
液晶空間４２０は高分子物質４１０内で無秩序に配列されたりまたは整列して配列されてもよく、その内部に液晶４３０が位置している。液晶空間４２０内に位置する液晶４３０は、離隔空間（Ｓ）に電界が印加されない場合、放射型（ｒａｄｉａｌ）、両極型（ｂｉｐｏｌａｒ）、環状型（ｔｏｒｏｉｄａｌ）、及び一軸型（ａｘｉａｌ）等の多様な配列形状を有し、一般的な状態（電界が印加されない状態）で液晶空間４２０内に位置する液晶４３０の形態は限定されない。
【００４７】
液晶空間４２０は円形、三角形または四角形などの多角形の形状で形成されてもよく、最大幅（Ｗ）は１ｎｍ〜３８０ｎｍであってもよい。より詳細には、液晶空間４２０は第１基板１００と第２基板２００との間に位置する高分子物質４１０内で外部から加えられる圧力または相互隣接する液晶空間４２０間の圧力によって多様な形状を有してもよいが、液晶空間４２０が有する最大幅（Ｗ）は１ｎｍ〜３８０ｎｍであり、このうち１ｎｍ以上３８０ｎｍ未満が望ましい。ここで、液晶空間４２０の最大幅Ｗとは、第１基板１００に垂直な方向の幅及び第１基板１００に平行な方向の幅のうち、最大となる幅を意味する。
【００４８】
以下、液晶空間４２０が最大３８０ｎｍ未満の幅（Ｗ）を有する理由について説明する。
【００４９】
一般の従来の液晶表示装置において両基板の間に位置する液晶は、両基板の間に電界が印加される時、バックライトユニット（ｂａｃｋ ｌｉｇｈｔ ｕｎｉｔ）等から液晶表示装置を透過する光の光軸を変化させる役割を果たし、両基板の間に電界が印加されない時、液晶表示装置を透過する光の光軸を変化せずに通過させるために配向膜などによって整列状態が維持された。即ち、従来の液晶表示装置は両基板の間に位置する液晶の最初整列状態を調節しなければならない必要があった。
【００５０】
一方、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置１００１は、液晶フィルム４００の液晶空間４２０が１ｎｍ以上３８０ｎｍ未満の幅（Ｗ）を有することによって、第１基板１００と第２基板２００との間の離隔空間（Ｓ）に電界が印加されない時、液晶表示装置１００１を透過する光がそのまま液晶フィルム４００を透過する。その理由として、人間は光中の可視光を認識するが、この可視光は概して３８０〜７７０ｎｍの波長を有しており、液晶空間４２０が可視光が有する最小波長である３８０ｎｍより小さい３８０ｎｍ未満の幅（Ｗ）を有することによって、液晶表示装置１００１を透過する可視光は液晶空間４２０内に位置する液晶４３０の配列形態に係わらずに液晶フィルム４００を透過することになる。
【００５１】
このように、液晶フィルム４００が位置する離隔空間（Ｓ）に電界が印加されない場合、バックライトユニットなどから液晶表示装置１００１に照射される光は液晶フィルム４００を透過するが、第１基板１００の外面に付着した第１偏光板５００及び第２基板２００の外面に付着した第２偏光板６００によって液晶フィルム４００を透過した光は外部に視認されない。詳細には、各々の第１偏光板５００及び第２偏光板６００は各々の第１基板１００及び第２基板２００に付着しており、第１偏光板５００が第１光軸を有する光だけを通過させる場合、第２偏光板６００が第１光軸と交差する第２光軸を有する光だけを通過させることによって、離隔空間（Ｓ）に電界が印加されずに第１偏光板５００及び液晶フィルム４００を通過した光は第２偏光板６００を通過できず、これによって液晶表示装置１００１を観察する観察者はブラック（ｂｌａｃｋ）イメージを認識するようになる。
【００５２】
即ち、第１基板１００と第２基板２００との間の離隔空間（Ｓ）に電極部３００によって電界が形成されない場合、液晶フィルム４００は液晶空間４２０内に位置する液晶４３０の配列形態とは係わらずに液晶フィルム４００に照射される光をそのまま透過させる。
以下、図３を参照して、第１基板１００と第２基板２００との間の離隔空間（Ｓ）に電極部３００によって電界が形成される場合について説明する。
【００５３】
図３は本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置の動作を説明するための図面である。
【００５４】
図３に示したように、第１基板１００と第２基板２００との間の離隔空間（Ｓ）に電界（ＥＦ）が形成される場合、電極部３００に含まれている第１電極３１０と第２電極３２０との間に形成される電界（ＥＦ）によって液晶空間４２０内に位置する液晶４３０は電界（ＥＦ）の方向及び強さに対応してシフトされて電界（ＥＦ）の方向及び強さにより一定の配列を有するようになり、バックライトユニットなどから液晶フィルム４００に照射されて液晶フィルム４００を透過した光は一定の配列を有する液晶４３０によって偏光され、液晶フィルム４００を透過した光が第１偏光板５００を先に透過した光である場合に第２偏光板６００を通過し、第２偏光板６００を先に透過した光である場合に第１偏光板５００を通過するようになって、液晶表示装置１００１を観察する観察者はホワイト（ｗｈｉｔｅ）イメージを認識するようになる。
【００５５】
ここで、ホワイトイメージとはブラックでないイメージをいい、液晶表示装置１００１を透過する光の経路上にカラーフィルター（ｃｏｌｏｒ ｆｉｌｔｅｒ）のような色変換手段が位置する場合、観察者はカラーフィルターが有する色を有するイメージを認識するようになる。
【００５６】
以上のように、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置１００１は、液晶４３０が１ｎｍ以上３８０ｎｍ未満の幅（Ｗ）を有する液晶空間４２０内に位置することによって、液晶４３０の配列状態を調節する配向膜などが第１基板１００及び第２基板２００上に形成される必要がなく、これは製造時間及び製造費用節減の要因として作用して、液晶表示装置１００１の製造時間及び製造費用が最小化する。
【００５７】
また、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置１００１は、液晶空間４２０が固体からなる高分子物質４１０内で高分子物質４１０によって位置が支持されるため、液晶空間４２０内に位置する液晶４３０の流動が制限され、外部の圧力によって液晶４３０が流動する現象が最小化する。これによって、タッチ（ｔｏｕｃｈ）等によって液晶表示装置１００１に圧力が加えられる場合、圧力によって液晶４３０が流動することが最小化され、液晶４３０の流動による表示品質の低下を最小化できる。
【００５８】
また、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置１００１は、液晶フィルム４００の液晶空間４２０が１ｎｍ以上３８０ｎｍ未満を有することによって、第１基板１００と第２基板２００との間の離隔空間（Ｓ）に電界が印加されない時、液晶表示装置１００１を透過する光がそのまま液晶フィルム４００を透過する。即ち、液晶表示装置１００１を正面から観察する時だけでなく、液晶表示装置１００１を側面から観察する時においても光が液晶表示装置１００１の液晶フィルム４００を透過するため、液晶表示装置１００１はブラックイメージに対して光学的に等方性の特性を有するようになり、これは視野角が向上する要因として作用する。即ち、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置１００１は、ブラックイメージに対する視野角が向上し、液晶表示装置１００１が表示するイメージのコントラスト比（ｃｏｎｔｒａｓｔ ｒａｔｉｏ）が向上する。
【００５９】
以下、図４〜６を参照して、本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の製造方法について説明する。本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の製造方法は、前述した本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置１００１を製造する方法である。
【００６０】
図４は本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を示したフローチャートである。図５及び図６は本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。
【００６１】
まず、図４に示したように、第１基板１００及び第２基板２００を用意する（Ｓ２１０）。
【００６２】
具体的には、フォトリソグラフィ（ｐｈｏｔｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）工程などのメムス（ＭＥＭＳ、ｍｉｃｒｏｅｌｅｃｔｒｏｍｅｃｈａｎｉｃａｌ ｓｙｓｔｅｍｓ）技術を利用して第１基板１００及び第２基板２００を用意する。この時、第１基板１００上に第１電極３１０及び第２電極３２０を含む電極部３００も形成する。
【００６３】
次に、図５及び図６に示したように、第１基板１００上に液晶フィルム４００を形成する（Ｓ２２０）。
【００６４】
具体的には、図５のように印刷手段（ＰＴ）等を利用して第１基板１００上に予め準備した液晶フィルム４００を印刷して第１基板１００上に液晶フィルム４００を形成したり、または図６のように塗布手段（ＳＴ）等を利用して液晶４３０が位置する液晶空間４２０を形成する高分子物質４１０を第１基板１００に塗布して第１基板１００上に液晶フィルム４００を形成する。
【００６５】
次に、第１基板１００と第２基板２００を合着する（Ｓ２３０）。
【００６６】
具体的には、第１基板１００及び第２基板２００のうちの一つ以上の基板の周縁にシーラント（ｓｅａｌｅｎｔ）を塗布した後、シーラントを利用して液晶フィルム４００を間において第１基板１００と第２基板２００を合着する。
【００６７】
この後、各々の第１基板１００の外面及び第２基板２００の外面に各々の第１偏光板５００及び第２偏光板６００を付着して液晶表示装置１００１を製造する。
【００６８】
以上のように、本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の製造方法は、液晶フィルム４００を利用して液晶表示装置１００１を製造することにより、液晶４３０の配列状態を調節する配向膜などを第１基板１００及び第２基板２００上に形成する必要がなく、第１基板１００及び第２基板２００に配向膜が形成されないため、ラビング（ｒｕｂｂｉｎｇ）工程を遂行する必要もない。即ち、本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の製造方法は、液晶表示装置１００１の製造時間及び製造費用を最小化できる。
【００６９】
以下、図７〜９を参照して、本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の製造方法について説明する。本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の製造方法は、前述した本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置１００１を製造する方法である。
【００７０】
図７は本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を示したフローチャートである。図８及び図９は本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。
【００７１】
まず、図７及び図８に示したように、第１母基板１１００を一方向（Ｏｎｅ ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）に移送する（Ｓ３１０）。
【００７２】
具体的には、フォトリソグラフィ工程などのメムス技術を利用して第１基板１００が連続的に繋がっている第１母基板１１００を用意し、第１ロール（Ｒ１）を利用して第１母基板１１００を一方向に移送する。この時、第１母基板１１００上に第１電極３１０及び第２電極３２０を含む電極部３００も形成する。第１母基板１１００は可撓性（ｆｌｅｘｉｂｌｅ）基板であってもよい。
【００７３】
次に、図８及び図９に示したように、第１母基板１１００上に液晶フィルム４００を連続的に形成する（Ｓ３２０）。
【００７４】
具体的には、図８のように塗布手段（ＳＴ）等を利用して、第１母基板１１００上に液晶４３０が位置する液晶空間４２０を形成する高分子物質４１０を第１母基板１１００に塗布して第１母基板１１００上に液晶フィルム４００を連続的に形成したり、または図９のように印刷手段（ＰＴ）等を利用して、第１母基板１１００上に予め準備した液晶フィルム４００を印刷して第１母基板１１００上に液晶フィルム４００を連続的に形成する。
次に、第１母基板１１００上に第２母基板１２００を位置させて一方向に移送する（Ｓ３３０）。
【００７５】
具体的には、第２基板２００が連続的に繋がっている第２母基板１２００を用意し、第１ロール（Ｒ１）と対応する第２ロール（Ｒ２）を利用して液晶フィルム４００を間において第２母基板１２００を第１母基板１１００上に位置させ、第１ロール（Ｒ１）と第２ロール（Ｒ２）の回転運動を利用して第１母基板１１００、液晶フィルム４００、及び第２母基板１２００を一方向に移送する。この時、第２母基板１２００は可撓性基板であってもよい。
【００７６】
次に、第１母基板１１００、液晶フィルム４００、及び第２母基板１２００を所定の幅に切断する（Ｓ３４０）。
【００７７】
具体的には、一方向に移送された第１母基板１１００、液晶フィルム４００、及び第２母基板１２００を切断手段（ＣＴ）を利用して所定の幅に切断して第１基板１００、液晶フィルム４００、及び第２基板２００を含む液晶表示装置１００１を製造する。また、各々の第１偏光板５００及び第２偏光板６００は、各々の第１母基板１１００及び第２母基板１２００に付着したり、または各々の第１母基板１１００及び第２母基板１２００から切断された各々の第１基板１００及び第２基板２００に付着してもよい。
【００７８】
前述した工程は連続的に遂行してもよく、これによって液晶表示装置１００１を連続的に製造できる。
【００７９】
以上のように、本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の製造方法は、液晶フィルム４００を利用して液晶表示装置１００１を製造することにより、液晶４３０の配列状態を調節する配向膜などを第１母基板１１００及び第２母基板１２００上に形成する必要がなく、第１母基板１１００及び第２母基板１２００に配向膜が形成されないため、ラビング（ｒｕｂｂｉｎｇ）工程を遂行する必要もない。即ち、本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の製造方法は、液晶表示装置１００１の製造時間及び製造費用を最小化できる。
また、本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の製造方法は、前述のように連続的に液晶表示装置を製造することにより、液晶表示装置１００１の製造時間及び製造費用を最小化できる。
【００８０】
以下、図１０及び図１１を参照して、本発明の第４実施形態に係る液晶表示装置１００４を説明する。
【００８１】
以下、第１実施形態とは異なる特徴的な部分だけ抜粋して説明し、説明が省略された部分は第１実施形態に従う。また、本発明の第４実施形態及び第５実施形態においては、説明の便宜のために、同一する構成要素に対しては本発明の第１実施形態と同一する参照番号を付与して説明する。
【００８２】
図１０は本発明の第４実施形態に係る液晶表示装置を示した断面図である。図１１は図１０に示した本発明の第４実施形態に係る液晶表示装置の電極部を示した平面図である。
図１０及び図１１に示したように、電極部３００は第１基板１００と第２基板２００との間に形成された離隔空間（Ｓ）に電界を形成し、第３電極３３０及び第４電極３４０を含む。
【００８３】
第３電極３３０及び第４電極３４０は相互隣接して第１基板１００上に位置し、酸化インジウムスズまたは酸化インジウム亜鉛などの透明導電物質を含む。第３電極３３０及び第４電極３４０は液晶表示装置１００４が表示するイメージの最小単位である各画素に対応する形状でパターニングされてもよく、第３電極３３０及び第４電極３４０に電圧が印加される時、第３電極３３０は第４電極３４０と共に離隔空間（Ｓ）に電界を形成する。
【００８４】
第３電極３３０及び第４電極３４０は各画素に対応して相互離隔した複数の電極を含み、複数の電極のうちの一つ以上の電極は一回以上折曲した形状を有している。より詳細には、各画素に対応する複数の各々の電極は図１１（ａ）に示したように１回折曲した形状で位置してもよく、または図１１（ｂ）に示したように１回折曲した部分が離隔した形状で位置してもよい。
【００８５】
この場合、第３電極３３０及び第４電極３４０に電圧が印加されると、第３電極３３０及び第４電極３４０の折曲した形状に沿って第３電極３３０と第４電極３４０との間に電界が形成され、この電界に対応してシフトされた液晶フィルム４００内の液晶は各画素に対応してマルチドメインを有することによって、液晶表示装置１００４を正面から見る場合だけでなく液晶表示装置１００４を側面から見る場合においても液晶表示装置１００４は光学的に等方性を有するようになる。即ち、第３電極３３０及び第４電極３４０に含まれている複数の各々の電極が一回以上折曲した形状を有することによって、液晶表示装置１００４が広い範囲で光学的に等方性を有するため、液晶表示装置１００４の視野角が向上する。
【００８６】
以上のように、本発明の第４実施形態に係る液晶表示装置１００４は、液晶４３０が１ｎｍ以上３８０ｎｍ未満の幅（Ｗ）を有する液晶空間４２０内に位置することによって、液晶表示装置１００４の製造時間及び製造費用を最小化できる。
【００８７】
また、本発明の第４実施形態に係る液晶表示装置１００４は、液晶空間４２０が高分子物質４１０によってその位置が支持されることによって液晶空間４２０内に位置する液晶４３０の流動が制限され、外部の圧力によって液晶４３０が流動する現象が最小化され、圧力によって発生する液晶４３０の流動による表示品質の低下を最小化できる。
【００８８】
また、本発明の第４実施形態に係る液晶表示装置１００４は、液晶フィルム４００の液晶空間４２０が１ｎｍ以上３８０ｎｍ未満を有することによって液晶表示装置１００４はブラックイメージに対して光学的に等方性の特性を有し、これによって液晶表示装置１００４はブラックイメージに対する視野角が向上し、液晶表示装置１００４が表示するイメージのコントラスト比が向上する。
【００８９】
以下、図１２を参照して、本発明の第５実施形態に係る液晶表示装置１００５を説明する。
【００９０】
図１２は本発明の第５実施形態に係る液晶表示装置を示した断面図である。
【００９１】
図１２に示したように、電極部３００は、第１基板１００上に位置する第５電極３５０及び第２基板２００と液晶フィルム４００との間に位置する第６電極３６０を含む。
【００９２】
第５電極３５０と第６電極３６０は液晶フィルム４００を間において相互対向し、酸化インジウムスズまたは酸化インジウム亜鉛などの透明導電物質を含む。第５電極３５０及び第６電極３６０は液晶表示装置１００５が表示するイメージの最小単位である各画素に対応する形状でパターニングされてもよく、第５電極３５０及び第６電極３６０に電圧が印加される時、第５電極３５０は第６電極３６０と共に離隔空間（Ｓ）に電界を形成する。
【００９３】
以上のように、本発明の第５実施形態に係る液晶表示装置１００５は、液晶４３０が１ｎｍ以上３８０ｎｍ未満の幅（Ｗ）を有する液晶空間４２０内に位置することによって、液晶表示装置１００５の製造時間及び製造費用を最小化できる。
【００９４】
また、本発明の第５実施形態に係る液晶表示装置１００５は、液晶空間４２０が高分子物質４１０によってその位置が支持されることによって液晶空間４２０内に位置する液晶４３０の流動が制限されて外部の圧力によって液晶４３０が流動する現象が最小化され、圧力によって発生する液晶４３０の流動による表示品質の低下を最小化できる。
【００９５】
また、本発明の第５実施形態に係る液晶表示装置１００５は、液晶フィルム４００の液晶空間４２０が１ｎｍ以上３８０ｎｍ未満を有することによって液晶表示装置１００５はブラックイメージに対して光学的に等方性の特性を有するようになり、これによって液晶表示装置１００５はブラックイメージに対する視野角が向上し、液晶表示装置１００５が表示するイメージのコントラスト比が向上する。
【００９６】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【符号の説明】
【００９７】
１００１ 液晶表示装置
１００、２００ 基板
３００ 電極部
３１０、３２０ 電極
４００ 液晶フィルム
４１０ 高分子物質
４２０ 液晶空間
４３０ 液晶
５００、６００ 偏光板
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置はイメージを表示する装置であり、最近、表示装置に対する関心が増加するに伴い、表示装置の性能向上のための多様な技術が登場している。
【０００３】
多様な種類の表示装置のうち、液晶表示装置（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙａｙ ｄｅｖｉｃｅ、ＬＣＤ）が表示装置市場において大きい成功を収めているが、このような液晶表示装置を製造する企業等は自社の液晶表示装置の性能向上のために競争的に多くの技術を開発している。
【０００４】
このような液晶表示装置は両基板の間に位置する液晶層を含んでいる。この液晶層は、両基板の間に液晶材料を注入するか、または滴下（ｄｒｏｐ）することで、両基板の間に形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−０６６５７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、このような液晶層を両基板の間に位置させる工程は液晶表示装置の製造時間を増加させる要因になるという問題があった。
【０００７】
そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、製造時間を短縮することが可能な、新規かつ改良された液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、第１基板、前記第１基板と対向する第２基板、前記第１基板及び前記第２基板のうちの一つ以上の基板に形成され、前記第１基板と前記第２基板との間に電界を形成する電極部、及び前記第１基板と前記第２基板との間に位置し、内部に液晶が位置する一つ以上の液晶空間を含む液晶フィルムを有する液晶表示装置が提供される。
【０００９】
ここで、前記液晶空間は複数であり、前記液晶フィルムは、隣接する前記液晶空間の間に位置し前記液晶空間を形成する高分子物質をさらに含んでもよい。
【００１０】
また、前記液晶空間の幅は１ｎｍ〜３８０ｎｍであってもよい。
【００１１】
また、前記高分子物質は固体であってもよい。
【００１２】
また、前記電極部は、前記第１基板上に位置する第１電極、及び前記第１電極と前記液晶フィルムとの間に位置する第２電極を含んでもよい。
【００１３】
また、前記電極部は、前記第１基板上に位置する第３電極、及び前記第３電極と隣接して前記第１基板上に位置する第４電極を含んでもよい。
【００１４】
また、前記電極部は、前記第１基板上に位置する第５電極、及び前記第２基板と前記液晶フィルムとの間に位置する第６電極を含んでもよい。
【００１５】
また、前記電極部は複数の電極を含み、前記複数の電極のうちの一つ以上は一回以上折曲した形態であってもよい。
【００１６】
また、前記第１基板の外面に付着して第１光軸を有する第１偏光板、及び前記第２基板の外面に付着して前記第１光軸と交差する第２光軸を有する第２偏光板をさらに含んでもよい。
【００１７】
また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、第１基板、及び第２基板を用意する段階、前記第１基板と前記第２基板との間に電界を形成する電極部を前記第１基板及び前記第２基板のうちの一つ以上の基板に形成する段階、内部に液晶が位置する一つ以上の液晶空間を含む液晶フィルムを前記第１基板上に形成する段階、及び前記液晶フィルムを間において前記第１基板と前記第２基板とを合着する段階を含むことを特徴とする、液晶表示装置の製造方法が提供される。
【００１８】
ここで、前記液晶フィルムを形成する段階は、前記液晶フィルムを前記第１基板に印刷することで行ってもよい。
【００１９】
また、前記液晶フィルムを形成する段階は、前記液晶空間を形成する高分子物質を前記第１基板に塗布することで行ってもよい。
【００２０】
また、上記課題を解決するために、本発明のさらに別の観点によれば、第１母基板を一方向に移送する段階、内部に液晶が位置する一つ以上の液晶空間を含む液晶フィルムを前記第１母基板上に前記一方向に連続的に形成する段階、前記液晶フィルムを間において前記第１母基板上に第２母基板を位置させて前記第１母基板、前記液晶フィルム、及び第２母基板を前記一方向に移送する段階、及び前記第１母基板、前記液晶フィルム、及び前記第２母基板を所定の幅に切断する段階を含む液晶表示装置の製造方法が提供される。
【００２１】
ここで、前記第１母基板を移送する段階、前記液晶フィルムを連続的に形成する段階、及び前記第１母基板、前記液晶フィルム、及び第２母基板を移送する段階のうちの一つ以上の段階はロール（ｒｏｌｌ）を利用して行ってもよい。
【００２２】
また、前記液晶フィルムを連続的に形成する段階は、前記液晶空間を形成する高分子物質を前記第１母基板に塗布することで行ってもよい。
【００２３】
また、前記液晶フィルムを連続的に形成する段階は、前記液晶フィルムを前記第１母基板に印刷することで行ってもよい。
【００２４】
また、前記第１母基板及び前記第２母基板のうちの一つ以上の基板は可撓性（ｆｌｅｘｉｂｌｅ）基板であってもよい。
【発明の効果】
【００２５】
以上説明したように本発明によれば、液晶フィルムを含むことによって、製造時間が短縮された液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置を示した断面図である。
【図２】図１に示した本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置の電極部を示した平面図である。
【図３】本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置の動作を説明するための図面である。
【図４】本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を示したフローチャートである。
【図５】本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。
【図６】本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。
【図７】本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を示したフローチャートである。
【図８】本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。
【図９】本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。
【図１０】本発明の第４実施形態に係る液晶表示装置を示した断面図である。
【図１１】図１０に示した本発明の第４実施形態に係る液晶表示装置の電極部を示した平面図である。
【図１２】本発明の第５実施形態に係る液晶表示装置を示した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００２８】
また、図面に示した各構成の大きさ及び厚さは説明の便宜のために任意に示したため、本発明が必ずしも示されたとおりであるとは限られない。
【００２９】
図面において多数の層及び領域を明確に表現するために厚さを拡大して示した。また、図面において、説明の便宜のために一部層及び領域の厚さを誇張して示した。層、膜、領域、板などの部分が他の部分「上に」あるとする時、これは他の部分の「直上に」ある場合だけでなく、その中間にさらに他の部分がある場合も含む。
【００３０】
また、明細書全体において、ある部分が他の構成要素を「含む」とする時、これは特に反対となる記載がない限り、他の構成要素を除くのではなく他の構成要素をさらに包含できることを意味する。また、明細書全体において「〜上に」とは、対象の部分の上または下に位置することを意味し、必ずしも重力方向を基準に上側に位置することを意味するものではない。
【００３１】
以下、図１〜図３を参照して、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置を説明する。
【００３２】
図１は本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置を示した断面図である。
【００３３】
図１に示したように、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置１００１は、第１基板１００、第２基板２００、電極部３００、液晶フィルム４００、第１偏光板５００、及び第２偏光板６００を含む。
【００３４】
第１基板１００は、透明なガラス及びポリマーのうちの一つ以上を含む透明基板及び透明基板上に形成されたゲートライン（ｇａｔｅ ｌｉｎｅ）、データライン（ｄａｔａ ｌｉｎｅ）、及び薄膜トランジスター（ｔｈｉｎ ｆｉｌｍ ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、ＴＦＴ）等を含んでもよい。
【００３５】
第２基板２００は第１基板１００と対向し、第２基板２００と第１基板１００との間には離隔空間（Ｓ）が位置する。第２基板２００は透明なガラス及びポリマーのうちの一つ以上を含む透明基板及び第１基板１００に形成された薄膜トランジスターに対応して透明基板上に形成されたブラックマトリックス（ｂｌａｃｋ ｍａｔｒｉｘ、ＢＭ）等を含んでもよい。第２基板２００と第１基板１００との間に形成された離隔空間（Ｓ）には電極部３００が位置している。
【００３６】
電極部３００は第１基板１００と第２基板２００の間に形成された離隔空間（Ｓ）に電界（ｅｌｅｃｔｒｉｃ ｆｉｅｌｄ）を形成し、第１電極３１０及び第２電極３２０を含む。
【００３７】
第１電極３１０は第１基板１００上に位置し、酸化インジウムスズ（ｉｎｄｉｕｍ ｔｉｎ ｏｘｉｄｅ、ＩＴＯ）または酸化インジウム亜鉛（ｉｎｄｉｕｍ ｚｉｎｃ ｏｘｉｄｅ、ＩＺＯ）等のような透明導電物質を含む。第１電極３１０は第１基板１００上に板（ｐｌａｔｅ）状で形成されるか、または一部がパターニング（ｐａｔｔｅｒｎｉｎｇ）された板状で形成されてもよい。第１電極３１０上には絶縁層（ＩＬ）を間において第２電極３２０が位置している。
【００３８】
第２電極３２０は第１電極３１０と液晶フィルム４００の間に位置し、液晶表示装置１００１が表示するイメージ（ｉｍａｇｅ）の最小単位である各画素（ｐｉｘｅｌ）に対応する形状でパターニングされてもよい。第２電極３２０及び第１電極３１０に電圧が印加される時、第２電極３２０は第１電極３１０と共に離隔空間（Ｓ）に電界を形成する。第２電極３２０は酸化インジウムスズまたは酸化インジウム亜鉛などの透明導電物質を含む。
【００３９】
図２は図１に示した本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置の電極部を示した平面図である。
【００４０】
図２に示したように、第２電極３２０は各画素に対応して相互離隔した複数の電極を含み、複数の電極のうちの一つ以上の電極は一回以上折曲したた形態を有している。より詳細には、各画素に対応する各々の複数の電極は図２の（ａ）に示したように１回折曲した形状で位置してもよく、または図２の（ｂ）に示したように１回折曲した部分が離隔した形状で位置してもよい。
【００４１】
この場合、第１電極３１０及び第２電極３２０に電圧が印加されると、第２電極３２０の折曲した形状に沿って第１電極３１０と第２電極３２０との間に電界が形成され、この電界に対応してシフト（ｓｈｉｆｔ）された後述する液晶フィルム４００内の液晶は各画素に対応してマルチドメイン（ｍｕｌｔｉ ｄｏｍａｉｎ）を有するようになることによって、液晶表示装置１００１を正面から見る場合だけでなく液晶表示装置１００１を側面から見る場合においても、液晶表示装置１００１は光学的に等方性（ｉｓｏｔｒｏｐｙ）を有するようになる。即ち、第２電極３２０に含まれている各々の複数の電極が一回以上折曲した形状を有することによって、液晶表示装置１００１が広い範囲で光学的に等方性を有するため、液晶表示装置１００１の視野角が向上する。
【００４２】
以上のような電極部３００上には液晶フィルム４００が位置している。
【００４３】
図１をさらに参照すると、液晶フィルム４００は第１基板１００と第２基板２００との間に位置し、高分子物質４１０、液晶空間４２０、及び液晶４３０を含む。
【００４４】
高分子物質４１０は第１基板１００と第２基板２００との間に形成された離隔空間（Ｓ）を満たしており、固体からなる。高分子物質４１０内には複数の液晶空間４２０が形成され、高分子物質４１０は隣接する液晶空間４２０の間に位置している。このように高分子物質４１０が固体からなることによって、液晶空間４２０は高分子物質４１０内で高分子物質４１０によってその位置が支持される。
【００４５】
本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置１００１において高分子物質４１０は固体からなるが、本発明の他の実施形態に係る液晶表示装置における高分子物質は流体からなってもよく、この場合、液晶空間４２０は高分子物質４１０内で流動できるように配列されてもよい。
【００４６】
液晶空間４２０は高分子物質４１０内で無秩序に配列されたりまたは整列して配列されてもよく、その内部に液晶４３０が位置している。液晶空間４２０内に位置する液晶４３０は、離隔空間（Ｓ）に電界が印加されない場合、放射型（ｒａｄｉａｌ）、両極型（ｂｉｐｏｌａｒ）、環状型（ｔｏｒｏｉｄａｌ）、及び一軸型（ａｘｉａｌ）等の多様な配列形状を有し、一般的な状態（電界が印加されない状態）で液晶空間４２０内に位置する液晶４３０の形態は限定されない。
【００４７】
液晶空間４２０は円形、三角形または四角形などの多角形の形状で形成されてもよく、最大幅（Ｗ）は１ｎｍ〜３８０ｎｍであってもよい。より詳細には、液晶空間４２０は第１基板１００と第２基板２００との間に位置する高分子物質４１０内で外部から加えられる圧力または相互隣接する液晶空間４２０間の圧力によって多様な形状を有してもよいが、液晶空間４２０が有する最大幅（Ｗ）は１ｎｍ〜３８０ｎｍであり、このうち１ｎｍ以上３８０ｎｍ未満が望ましい。ここで、液晶空間４２０の最大幅Ｗとは、第１基板１００に垂直な方向の幅及び第１基板１００に平行な方向の幅のうち、最大となる幅を意味する。
【００４８】
以下、液晶空間４２０が最大３８０ｎｍ未満の幅（Ｗ）を有する理由について説明する。
【００４９】
一般の従来の液晶表示装置において両基板の間に位置する液晶は、両基板の間に電界が印加される時、バックライトユニット（ｂａｃｋ ｌｉｇｈｔ ｕｎｉｔ）等から液晶表示装置を透過する光の光軸を変化させる役割を果たし、両基板の間に電界が印加されない時、液晶表示装置を透過する光の光軸を変化せずに通過させるために配向膜などによって整列状態が維持された。即ち、従来の液晶表示装置は両基板の間に位置する液晶の最初整列状態を調節しなければならない必要があった。
【００５０】
一方、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置１００１は、液晶フィルム４００の液晶空間４２０が１ｎｍ以上３８０ｎｍ未満の幅（Ｗ）を有することによって、第１基板１００と第２基板２００との間の離隔空間（Ｓ）に電界が印加されない時、液晶表示装置１００１を透過する光がそのまま液晶フィルム４００を透過する。その理由として、人間は光中の可視光を認識するが、この可視光は概して３８０〜７７０ｎｍの波長を有しており、液晶空間４２０が可視光が有する最小波長である３８０ｎｍより小さい３８０ｎｍ未満の幅（Ｗ）を有することによって、液晶表示装置１００１を透過する可視光は液晶空間４２０内に位置する液晶４３０の配列形態に係わらずに液晶フィルム４００を透過することになる。
【００５１】
このように、液晶フィルム４００が位置する離隔空間（Ｓ）に電界が印加されない場合、バックライトユニットなどから液晶表示装置１００１に照射される光は液晶フィルム４００を透過するが、第１基板１００の外面に付着した第１偏光板５００及び第２基板２００の外面に付着した第２偏光板６００によって液晶フィルム４００を透過した光は外部に視認されない。詳細には、各々の第１偏光板５００及び第２偏光板６００は各々の第１基板１００及び第２基板２００に付着しており、第１偏光板５００が第１光軸を有する光だけを通過させる場合、第２偏光板６００が第１光軸と交差する第２光軸を有する光だけを通過させることによって、離隔空間（Ｓ）に電界が印加されずに第１偏光板５００及び液晶フィルム４００を通過した光は第２偏光板６００を通過できず、これによって液晶表示装置１００１を観察する観察者はブラック（ｂｌａｃｋ）イメージを認識するようになる。
【００５２】
即ち、第１基板１００と第２基板２００との間の離隔空間（Ｓ）に電極部３００によって電界が形成されない場合、液晶フィルム４００は液晶空間４２０内に位置する液晶４３０の配列形態とは係わらずに液晶フィルム４００に照射される光をそのまま透過させる。
以下、図３を参照して、第１基板１００と第２基板２００との間の離隔空間（Ｓ）に電極部３００によって電界が形成される場合について説明する。
【００５３】
図３は本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置の動作を説明するための図面である。
【００５４】
図３に示したように、第１基板１００と第２基板２００との間の離隔空間（Ｓ）に電界（ＥＦ）が形成される場合、電極部３００に含まれている第１電極３１０と第２電極３２０との間に形成される電界（ＥＦ）によって液晶空間４２０内に位置する液晶４３０は電界（ＥＦ）の方向及び強さに対応してシフトされて電界（ＥＦ）の方向及び強さにより一定の配列を有するようになり、バックライトユニットなどから液晶フィルム４００に照射されて液晶フィルム４００を透過した光は一定の配列を有する液晶４３０によって偏光され、液晶フィルム４００を透過した光が第１偏光板５００を先に透過した光である場合に第２偏光板６００を通過し、第２偏光板６００を先に透過した光である場合に第１偏光板５００を通過するようになって、液晶表示装置１００１を観察する観察者はホワイト（ｗｈｉｔｅ）イメージを認識するようになる。
【００５５】
ここで、ホワイトイメージとはブラックでないイメージをいい、液晶表示装置１００１を透過する光の経路上にカラーフィルター（ｃｏｌｏｒ ｆｉｌｔｅｒ）のような色変換手段が位置する場合、観察者はカラーフィルターが有する色を有するイメージを認識するようになる。
【００５６】
以上のように、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置１００１は、液晶４３０が１ｎｍ以上３８０ｎｍ未満の幅（Ｗ）を有する液晶空間４２０内に位置することによって、液晶４３０の配列状態を調節する配向膜などが第１基板１００及び第２基板２００上に形成される必要がなく、これは製造時間及び製造費用節減の要因として作用して、液晶表示装置１００１の製造時間及び製造費用が最小化する。
【００５７】
また、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置１００１は、液晶空間４２０が固体からなる高分子物質４１０内で高分子物質４１０によって位置が支持されるため、液晶空間４２０内に位置する液晶４３０の流動が制限され、外部の圧力によって液晶４３０が流動する現象が最小化する。これによって、タッチ（ｔｏｕｃｈ）等によって液晶表示装置１００１に圧力が加えられる場合、圧力によって液晶４３０が流動することが最小化され、液晶４３０の流動による表示品質の低下を最小化できる。
【００５８】
また、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置１００１は、液晶フィルム４００の液晶空間４２０が１ｎｍ以上３８０ｎｍ未満を有することによって、第１基板１００と第２基板２００との間の離隔空間（Ｓ）に電界が印加されない時、液晶表示装置１００１を透過する光がそのまま液晶フィルム４００を透過する。即ち、液晶表示装置１００１を正面から観察する時だけでなく、液晶表示装置１００１を側面から観察する時においても光が液晶表示装置１００１の液晶フィルム４００を透過するため、液晶表示装置１００１はブラックイメージに対して光学的に等方性の特性を有するようになり、これは視野角が向上する要因として作用する。即ち、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置１００１は、ブラックイメージに対する視野角が向上し、液晶表示装置１００１が表示するイメージのコントラスト比（ｃｏｎｔｒａｓｔ ｒａｔｉｏ）が向上する。
【００５９】
以下、図４〜６を参照して、本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の製造方法について説明する。本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の製造方法は、前述した本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置１００１を製造する方法である。
【００６０】
図４は本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を示したフローチャートである。図５及び図６は本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。
【００６１】
まず、図４に示したように、第１基板１００及び第２基板２００を用意する（Ｓ２１０）。
【００６２】
具体的には、フォトリソグラフィ（ｐｈｏｔｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）工程などのメムス（ＭＥＭＳ、ｍｉｃｒｏｅｌｅｃｔｒｏｍｅｃｈａｎｉｃａｌ ｓｙｓｔｅｍｓ）技術を利用して第１基板１００及び第２基板２００を用意する。この時、第１基板１００上に第１電極３１０及び第２電極３２０を含む電極部３００も形成する。
【００６３】
次に、図５及び図６に示したように、第１基板１００上に液晶フィルム４００を形成する（Ｓ２２０）。
【００６４】
具体的には、図５のように印刷手段（ＰＴ）等を利用して第１基板１００上に予め準備した液晶フィルム４００を印刷して第１基板１００上に液晶フィルム４００を形成したり、または図６のように塗布手段（ＳＴ）等を利用して液晶４３０が位置する液晶空間４２０を形成する高分子物質４１０を第１基板１００に塗布して第１基板１００上に液晶フィルム４００を形成する。
【００６５】
次に、第１基板１００と第２基板２００を合着する（Ｓ２３０）。
【００６６】
具体的には、第１基板１００及び第２基板２００のうちの一つ以上の基板の周縁にシーラント（ｓｅａｌｅｎｔ）を塗布した後、シーラントを利用して液晶フィルム４００を間において第１基板１００と第２基板２００を合着する。
【００６７】
この後、各々の第１基板１００の外面及び第２基板２００の外面に各々の第１偏光板５００及び第２偏光板６００を付着して液晶表示装置１００１を製造する。
【００６８】
以上のように、本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の製造方法は、液晶フィルム４００を利用して液晶表示装置１００１を製造することにより、液晶４３０の配列状態を調節する配向膜などを第１基板１００及び第２基板２００上に形成する必要がなく、第１基板１００及び第２基板２００に配向膜が形成されないため、ラビング（ｒｕｂｂｉｎｇ）工程を遂行する必要もない。即ち、本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の製造方法は、液晶表示装置１００１の製造時間及び製造費用を最小化できる。
【００６９】
以下、図７〜９を参照して、本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の製造方法について説明する。本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の製造方法は、前述した本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置１００１を製造する方法である。
【００７０】
図７は本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を示したフローチャートである。図８及び図９は本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を説明するための図面である。
【００７１】
まず、図７及び図８に示したように、第１母基板１１００を一方向（Ｏｎｅ ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）に移送する（Ｓ３１０）。
【００７２】
具体的には、フォトリソグラフィ工程などのメムス技術を利用して第１基板１００が連続的に繋がっている第１母基板１１００を用意し、第１ロール（Ｒ１）を利用して第１母基板１１００を一方向に移送する。この時、第１母基板１１００上に第１電極３１０及び第２電極３２０を含む電極部３００も形成する。第１母基板１１００は可撓性（ｆｌｅｘｉｂｌｅ）基板であってもよい。
【００７３】
次に、図８及び図９に示したように、第１母基板１１００上に液晶フィルム４００を連続的に形成する（Ｓ３２０）。
【００７４】
具体的には、図８のように塗布手段（ＳＴ）等を利用して、第１母基板１１００上に液晶４３０が位置する液晶空間４２０を形成する高分子物質４１０を第１母基板１１００に塗布して第１母基板１１００上に液晶フィルム４００を連続的に形成したり、または図９のように印刷手段（ＰＴ）等を利用して、第１母基板１１００上に予め準備した液晶フィルム４００を印刷して第１母基板１１００上に液晶フィルム４００を連続的に形成する。
次に、第１母基板１１００上に第２母基板１２００を位置させて一方向に移送する（Ｓ３３０）。
【００７５】
具体的には、第２基板２００が連続的に繋がっている第２母基板１２００を用意し、第１ロール（Ｒ１）と対応する第２ロール（Ｒ２）を利用して液晶フィルム４００を間において第２母基板１２００を第１母基板１１００上に位置させ、第１ロール（Ｒ１）と第２ロール（Ｒ２）の回転運動を利用して第１母基板１１００、液晶フィルム４００、及び第２母基板１２００を一方向に移送する。この時、第２母基板１２００は可撓性基板であってもよい。
【００７６】
次に、第１母基板１１００、液晶フィルム４００、及び第２母基板１２００を所定の幅に切断する（Ｓ３４０）。
【００７７】
具体的には、一方向に移送された第１母基板１１００、液晶フィルム４００、及び第２母基板１２００を切断手段（ＣＴ）を利用して所定の幅に切断して第１基板１００、液晶フィルム４００、及び第２基板２００を含む液晶表示装置１００１を製造する。また、各々の第１偏光板５００及び第２偏光板６００は、各々の第１母基板１１００及び第２母基板１２００に付着したり、または各々の第１母基板１１００及び第２母基板１２００から切断された各々の第１基板１００及び第２基板２００に付着してもよい。
【００７８】
前述した工程は連続的に遂行してもよく、これによって液晶表示装置１００１を連続的に製造できる。
【００７９】
以上のように、本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の製造方法は、液晶フィルム４００を利用して液晶表示装置１００１を製造することにより、液晶４３０の配列状態を調節する配向膜などを第１母基板１１００及び第２母基板１２００上に形成する必要がなく、第１母基板１１００及び第２母基板１２００に配向膜が形成されないため、ラビング（ｒｕｂｂｉｎｇ）工程を遂行する必要もない。即ち、本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の製造方法は、液晶表示装置１００１の製造時間及び製造費用を最小化できる。
また、本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の製造方法は、前述のように連続的に液晶表示装置を製造することにより、液晶表示装置１００１の製造時間及び製造費用を最小化できる。
【００８０】
以下、図１０及び図１１を参照して、本発明の第４実施形態に係る液晶表示装置１００４を説明する。
【００８１】
以下、第１実施形態とは異なる特徴的な部分だけ抜粋して説明し、説明が省略された部分は第１実施形態に従う。また、本発明の第４実施形態及び第５実施形態においては、説明の便宜のために、同一する構成要素に対しては本発明の第１実施形態と同一する参照番号を付与して説明する。
【００８２】
図１０は本発明の第４実施形態に係る液晶表示装置を示した断面図である。図１１は図１０に示した本発明の第４実施形態に係る液晶表示装置の電極部を示した平面図である。
図１０及び図１１に示したように、電極部３００は第１基板１００と第２基板２００との間に形成された離隔空間（Ｓ）に電界を形成し、第３電極３３０及び第４電極３４０を含む。
【００８３】
第３電極３３０及び第４電極３４０は相互隣接して第１基板１００上に位置し、酸化インジウムスズまたは酸化インジウム亜鉛などの透明導電物質を含む。第３電極３３０及び第４電極３４０は液晶表示装置１００４が表示するイメージの最小単位である各画素に対応する形状でパターニングされてもよく、第３電極３３０及び第４電極３４０に電圧が印加される時、第３電極３３０は第４電極３４０と共に離隔空間（Ｓ）に電界を形成する。
【００８４】
第３電極３３０及び第４電極３４０は各画素に対応して相互離隔した複数の電極を含み、複数の電極のうちの一つ以上の電極は一回以上折曲した形状を有している。より詳細には、各画素に対応する複数の各々の電極は図１１（ａ）に示したように１回折曲した形状で位置してもよく、または図１１（ｂ）に示したように１回折曲した部分が離隔した形状で位置してもよい。
【００８５】
この場合、第３電極３３０及び第４電極３４０に電圧が印加されると、第３電極３３０及び第４電極３４０の折曲した形状に沿って第３電極３３０と第４電極３４０との間に電界が形成され、この電界に対応してシフトされた液晶フィルム４００内の液晶は各画素に対応してマルチドメインを有することによって、液晶表示装置１００４を正面から見る場合だけでなく液晶表示装置１００４を側面から見る場合においても液晶表示装置１００４は光学的に等方性を有するようになる。即ち、第３電極３３０及び第４電極３４０に含まれている複数の各々の電極が一回以上折曲した形状を有することによって、液晶表示装置１００４が広い範囲で光学的に等方性を有するため、液晶表示装置１００４の視野角が向上する。
【００８６】
以上のように、本発明の第４実施形態に係る液晶表示装置１００４は、液晶４３０が１ｎｍ以上３８０ｎｍ未満の幅（Ｗ）を有する液晶空間４２０内に位置することによって、液晶表示装置１００４の製造時間及び製造費用を最小化できる。
【００８７】
また、本発明の第４実施形態に係る液晶表示装置１００４は、液晶空間４２０が高分子物質４１０によってその位置が支持されることによって液晶空間４２０内に位置する液晶４３０の流動が制限され、外部の圧力によって液晶４３０が流動する現象が最小化され、圧力によって発生する液晶４３０の流動による表示品質の低下を最小化できる。
【００８８】
また、本発明の第４実施形態に係る液晶表示装置１００４は、液晶フィルム４００の液晶空間４２０が１ｎｍ以上３８０ｎｍ未満を有することによって液晶表示装置１００４はブラックイメージに対して光学的に等方性の特性を有し、これによって液晶表示装置１００４はブラックイメージに対する視野角が向上し、液晶表示装置１００４が表示するイメージのコントラスト比が向上する。
【００８９】
以下、図１２を参照して、本発明の第５実施形態に係る液晶表示装置１００５を説明する。
【００９０】
図１２は本発明の第５実施形態に係る液晶表示装置を示した断面図である。
【００９１】
図１２に示したように、電極部３００は、第１基板１００上に位置する第５電極３５０及び第２基板２００と液晶フィルム４００との間に位置する第６電極３６０を含む。
【００９２】
第５電極３５０と第６電極３６０は液晶フィルム４００を間において相互対向し、酸化インジウムスズまたは酸化インジウム亜鉛などの透明導電物質を含む。第５電極３５０及び第６電極３６０は液晶表示装置１００５が表示するイメージの最小単位である各画素に対応する形状でパターニングされてもよく、第５電極３５０及び第６電極３６０に電圧が印加される時、第５電極３５０は第６電極３６０と共に離隔空間（Ｓ）に電界を形成する。
【００９３】
以上のように、本発明の第５実施形態に係る液晶表示装置１００５は、液晶４３０が１ｎｍ以上３８０ｎｍ未満の幅（Ｗ）を有する液晶空間４２０内に位置することによって、液晶表示装置１００５の製造時間及び製造費用を最小化できる。
【００９４】
また、本発明の第５実施形態に係る液晶表示装置１００５は、液晶空間４２０が高分子物質４１０によってその位置が支持されることによって液晶空間４２０内に位置する液晶４３０の流動が制限されて外部の圧力によって液晶４３０が流動する現象が最小化され、圧力によって発生する液晶４３０の流動による表示品質の低下を最小化できる。
【００９５】
また、本発明の第５実施形態に係る液晶表示装置１００５は、液晶フィルム４００の液晶空間４２０が１ｎｍ以上３８０ｎｍ未満を有することによって液晶表示装置１００５はブラックイメージに対して光学的に等方性の特性を有するようになり、これによって液晶表示装置１００５はブラックイメージに対する視野角が向上し、液晶表示装置１００５が表示するイメージのコントラスト比が向上する。
【００９６】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【符号の説明】
【００９７】
１００１ 液晶表示装置
１００、２００ 基板
３００ 電極部
３１０、３２０ 電極
４００ 液晶フィルム
４１０ 高分子物質
４２０ 液晶空間
４３０ 液晶
５００、６００ 偏光板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板、
前記第１基板と対向する第２基板、
前記第１基板及び前記第２基板のうちの一つ以上の基板に形成され、前記第１基板と前記第２基板との間に電界を形成する電極部、及び
前記第１基板と前記第２基板との間に位置し、内部に液晶が位置する一つ以上の液晶空間を含む液晶フィルムを含むことを特徴とする、液晶表示装置。
【請求項２】
前記液晶空間は複数であり、
前記液晶フィルムは、隣接する前記液晶空間の間に位置し前記液晶空間を形成する高分子物質をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記液晶空間の幅は１ｎｍ〜３８０ｎｍであることを特徴とする、請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記高分子物質は固体であることを特徴とする、請求項２または３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記電極部は、
前記第１基板上に位置する第１電極、及び
前記第１電極と前記液晶フィルムとの間に位置する第２電極を含むことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記電極部は、
前記第１基板上に位置する第３電極、及び
前記第３電極と隣接して前記第１基板上に位置する第４電極を含むことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記電極部は、
前記第１基板上に位置する第５電極、及び
前記第２基板と前記液晶フィルムとの間に位置する第６電極を含むことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記電極部は複数の電極を含み、
前記複数の電極のうちの一つ以上は一回以上折曲した形状であることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記第１基板の外面に付着し、第１光軸を有する第１偏光板、及び
前記第２基板の外面に付着し、前記第１光軸と交差する第２光軸を有する第２偏光板をさらに含むことを特徴とする、請求項１〜8のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
第１基板、及び第２基板を用意する段階、
前記第１基板と前記第２基板との間に電界を形成する電極部を前記第１基板及び前記第２基板のうちの一つ以上の基板に形成する段階、
内部に液晶が位置する一つ以上の液晶空間を含む液晶フィルムを前記第１基板上に形成する段階、及び
前記液晶フィルムを間において前記第１基板と前記第２基板とを合着する段階を含むことを特徴とする、液晶表示装置の製造方法。
【請求項１１】
前記液晶フィルムを形成する段階は、前記液晶フィルムを前記第１基板に印刷することでなされることを特徴とする、請求項１０に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記液晶フィルムを形成する段階は、前記液晶空間を形成する高分子物質を前記第１基板に塗布することでなされることを特徴とする、請求項１０に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１３】
第１母基板を一方向に移送する段階、
内部に液晶が位置する一つ以上の液晶空間を含む液晶フィルムを前記第１母基板上に前記一方向に連続的に形成する段階、
前記液晶フィルムを間において前記第１母基板上に第２母基板を位置させ、前記第１母基板、前記液晶フィルム及び第２母基板を前記一方向に移送する段階、及び
前記第１母基板、前記液晶フィルム、及び前記第２母基板を所定の幅に切断する段階を含むことを特徴とする、液晶表示装置の製造方法。
【請求項１４】
前記第１母基板を移送する段階、前記液晶フィルムを連続的に形成する段階、及び前記第１母基板、前記液晶フィルム、及び第２母基板を移送する段階のうちの一つ以上の段階はロールを利用して遂行されることを特徴とする、請求項１３に記載の液晶表示装置の製造方法
【請求項１５】
前記液晶フィルムを連続的に形成する段階は、前記液晶空間を形成する高分子物質を前記第１母基板に塗布することでなされることを特徴とする、請求項１３に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１６】
前記液晶フィルムを連続的に形成する段階は、前記液晶フィルムを前記第１母基板に印刷することでなされることを特徴とする、請求項１３に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１７】
前記第１母基板及び前記第２母基板のうちの一つ以上の基板は可撓性基板であることを特徴とする、請求項１３〜１６のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１】
第１基板、
前記第１基板と対向する第２基板、
前記第１基板及び前記第２基板のうちの一つ以上の基板に形成され、前記第１基板と前記第２基板との間に電界を形成する電極部、及び
前記第１基板と前記第２基板との間に位置し、内部に液晶が位置する一つ以上の液晶空間を含む液晶フィルムを含むことを特徴とする、液晶表示装置。
【請求項２】
前記液晶空間は複数であり、
前記液晶フィルムは、隣接する前記液晶空間の間に位置し前記液晶空間を形成する高分子物質をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記液晶空間の幅は１ｎｍ〜３８０ｎｍであることを特徴とする、請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記高分子物質は固体であることを特徴とする、請求項２または３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記電極部は、
前記第１基板上に位置する第１電極、及び
前記第１電極と前記液晶フィルムとの間に位置する第２電極を含むことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記電極部は、
前記第１基板上に位置する第３電極、及び
前記第３電極と隣接して前記第１基板上に位置する第４電極を含むことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記電極部は、
前記第１基板上に位置する第５電極、及び
前記第２基板と前記液晶フィルムとの間に位置する第６電極を含むことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記電極部は複数の電極を含み、
前記複数の電極のうちの一つ以上は一回以上折曲した形状であることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記第１基板の外面に付着し、第１光軸を有する第１偏光板、及び
前記第２基板の外面に付着し、前記第１光軸と交差する第２光軸を有する第２偏光板をさらに含むことを特徴とする、請求項１〜8のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
第１基板、及び第２基板を用意する段階、
前記第１基板と前記第２基板との間に電界を形成する電極部を前記第１基板及び前記第２基板のうちの一つ以上の基板に形成する段階、
内部に液晶が位置する一つ以上の液晶空間を含む液晶フィルムを前記第１基板上に形成する段階、及び
前記液晶フィルムを間において前記第１基板と前記第２基板とを合着する段階を含むことを特徴とする、液晶表示装置の製造方法。
【請求項１１】
前記液晶フィルムを形成する段階は、前記液晶フィルムを前記第１基板に印刷することでなされることを特徴とする、請求項１０に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記液晶フィルムを形成する段階は、前記液晶空間を形成する高分子物質を前記第１基板に塗布することでなされることを特徴とする、請求項１０に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１３】
第１母基板を一方向に移送する段階、
内部に液晶が位置する一つ以上の液晶空間を含む液晶フィルムを前記第１母基板上に前記一方向に連続的に形成する段階、
前記液晶フィルムを間において前記第１母基板上に第２母基板を位置させ、前記第１母基板、前記液晶フィルム及び第２母基板を前記一方向に移送する段階、及び
前記第１母基板、前記液晶フィルム、及び前記第２母基板を所定の幅に切断する段階を含むことを特徴とする、液晶表示装置の製造方法。
【請求項１４】
前記第１母基板を移送する段階、前記液晶フィルムを連続的に形成する段階、及び前記第１母基板、前記液晶フィルム、及び第２母基板を移送する段階のうちの一つ以上の段階はロールを利用して遂行されることを特徴とする、請求項１３に記載の液晶表示装置の製造方法
【請求項１５】
前記液晶フィルムを連続的に形成する段階は、前記液晶空間を形成する高分子物質を前記第１母基板に塗布することでなされることを特徴とする、請求項１３に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１６】
前記液晶フィルムを連続的に形成する段階は、前記液晶フィルムを前記第１母基板に印刷することでなされることを特徴とする、請求項１３に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１７】
前記第１母基板及び前記第２母基板のうちの一つ以上の基板は可撓性基板であることを特徴とする、請求項１３〜１６のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２０１２−６３７３１（Ｐ２０１２−６３７３１Ａ）
【公開日】平成２４年３月２９日（２０１２．３．２９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２６０２３１（Ｐ２０１０−２６０２３１）
【出願日】平成２２年１１月２２日（２０１０．１１．２２）
【出願人】（３０８０４０３５１）三星モバイルディスプレイ株式會社 (764)
【氏名又は名称原語表記】Ｓａｍｓｕｎｇ Ｍｏｂｉｌｅ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏ．， Ｌｔｄ．
【住所又は居所原語表記】Ｓａｎ ＃２４ Ｎｏｎｇｓｅｏ−Ｄｏｎｇ，Ｇｉｈｅｕｎｇ−Ｇｕ，Ｙｏｎｇｉｎ−Ｃｉｔｙ，Ｇｙｅｏｎｇｇｉ−Ｄｏ ４４６−７１１ Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ ＫＯＲＥＡ
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年３月２９日（２０１２．３．２９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１１月２２日（２０１０．１１．２２）
【出願人】（３０８０４０３５１）三星モバイルディスプレイ株式會社 (764)
【氏名又は名称原語表記】Ｓａｍｓｕｎｇ Ｍｏｂｉｌｅ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏ．， Ｌｔｄ．
【住所又は居所原語表記】Ｓａｎ ＃２４ Ｎｏｎｇｓｅｏ−Ｄｏｎｇ，Ｇｉｈｅｕｎｇ−Ｇｕ，Ｙｏｎｇｉｎ−Ｃｉｔｙ，Ｇｙｅｏｎｇｇｉ−Ｄｏ ４４６−７１１ Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ ＫＯＲＥＡ
【Ｆターム（参考）】
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