【課題】その屈折率が未知の薄膜試料における膜厚や屈折率といった光学特性をより高い精度を測定することが可能な光学特性測定装置および光学特性測定方法を提供する。
【解決手段】測定されたそれぞれの入射角における絶対反射率スペクトルに現れる極値（ピーク位置およびバレイ位置）を抽出する。抽出した極値に対応する波長λの逆数である波数１／λを順次取得する。そして、波数１／λの小さい順（昇順）、すなわち波長λの長い順に並べ替えて、最も波長λの長いものを次数Ｎ＝１とし、次数Ｎを１ずつインクリメントした整数を残りのものに順次割当てる。次数Ｎと波数１／λとの関係に対して、フィッティングによってパラメータを決定する。 （もっと読む）

【課題】同一測定装置にて、電荷輸送層の膜厚と電荷発生層の光吸収特性を測定する。
【解決手段】デバイスの機能層の特性測定装置は、光学顕微鏡装置３０と分光特性測定装置である分光光度計４０と演算装置５０とを備え、光学顕微鏡装置３０は、光源である照明装置３５と、前記光源を用いて明視野照明と暗視野照明とのいずれかに切り替える切り替え部３３と、対物レンズ２０とが設けられ、対物レンズ２０を通過した電子写真感光体１００の表面からの反射光は、光ファイバ３７を介して分光光度計４０に送られ、分光光度計４０において測定された分光特性のデータは、演算装置５０に送られ、電荷輸送層の膜厚と電荷発生層の光吸収特性が求められる。 （もっと読む）

【課題】非接触、非破壊で鋼管に対する樹脂ライニングの接着状況や樹脂ライニングにおけるピンホールの有無などの物理的（界面状態）欠陥を高精度かつ効率的に検出可能にする。
【解決手段】レーザ発振器１からレーザビームを受けて鋼管１４ａの表面に励起された超音波を鋼管１４ａおよび樹脂ライニング１４ｂ内に進行させて、これらの界面Ｐと樹脂ライニング１４ｂ内面とから反射される各超音波対応の反射光をそれぞれレーザ干渉計８により検出し、検出した前記各反射光の情報に基づいて、演算処理部１１が鋼管１４ａと樹脂ライニング１４ｂとの界面Ｐにおける欠陥情報を演算する。 （もっと読む）

【課題】波長依存性を有する多層膜試料の膜厚をより高い精度を測定することが可能な多層膜解析装置および多層膜解析方法を提供する。
【解決手段】波数変換部７２１は、バッファ部７１に格納される波長毎に、波数Ｋ_１（λ）および波数変換反射率Ｒ_１’（λ）（＝Ｒ（λ）／（１−Ｒ（λ）））を順次算出し、バッファ部７３１へ出力する。バッファ部７３１は、波数変換部７２１から順次出力される波数Ｋ_１（λ）と波数変換反射率Ｒ_１’（λ）とを対応付けて格納する。フーリエ変換部７４１は、バッファ部７３１に格納される波数変換反射率Ｒ_１’（Ｋ_１）を波数Ｋ_１についてフーリエ変換を行って、パワースペクトルＰ_１を算出する。ピーク探索部７５１は、フーリエ変換部７４１によって算出されたパワースペクトルＰ_１の中に現れるピークを探索し、各ピーク位置に対応する膜厚を取得する。 （もっと読む）

【課題】支持ピン３の位置再現性を向上させること、及び載置板２と支持ピン３間の移載において基板Ｗの水平方向のずれを防止することである。
【解決手段】基板Ｗの反りを測定する反り測定系７、及び当該基板Ｗの反り以外の物理量又は化学量を測定する通常測定系６に用いられる基板測定用ステージ１であって、前記通常測定系６の通常測定位置Ｐ１、及びその通常測定位置Ｐ１から下方に離間した退避位置Ｐ２の間を移動可能な載置板２と、前記載置板２に設けられた貫通孔２１に挿通可能であり、前記反り測定系７の反り測定位置Ｐ３に固定された複数の支持ピン３と、前記載置板２を前記通常測定位置Ｐ１及び前記退避位置Ｐ２の間で昇降移動させる駆動機構と、を備え、前記反り測定位置Ｐ３が、前記通常測定位置Ｐ１及び退避位置Ｐ２の間に設定されている。 （もっと読む）

【課題】高速域、旋回状態、制動状態等の種々な状況におけるタイヤの接地面形状や接地圧分布を測定する。
【解決手段】タイヤ踏面Ｔｓを接地させる表面１４ｓを裏面側から透視しうる光透過可能な接地板１４と、合成樹脂１００重量部に対して応力発光体微粒子を１０〜１００重量部含有させた応力発光組成物からなりかつ前記接地板１４の前記表面１４ｓに形成される応力発光層１５とからなる。 （もっと読む）

【課題】薄膜干渉光を発生する測定対象物の質量と、体積とを同時に測定可能な質量・体積測定装置の提供。
【解決手段】本発明の質量・体積測定装置は、水晶振動子を有し、この水晶振動子の電極上に付着する測定対象物の質量を、振動数変化に基づいて測定する質量測定手段と、前記水晶振動子の電極上の測定対象物に光を照射する光照射器を有し、前記測定対象物の体積を、照射された光の反射光によって生じる干渉光に基づいて測定する体積測定手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】膜厚に起因するピークシフトの影響を除去することである。
【解決手段】薄膜試料Ｗに向かって電子線を照射する電子線照射部と、前記電子線の照射によって薄膜試料Ｗから発生する光）Ｌを分光し、検出する光検出部と、前記光検出部からの出力信号を受信して光）Ｌのスペクトルのピーク波長である測定ピーク波長を算出するピーク波長算出部４１と、膜厚既知の標準試料により得られた膜厚とその膜厚におけるピーク波長である基準ピーク波長との関係を示す基準データを格納する基準データ格納部Ｄ１と、前記基準データから前記薄膜試料Ｗの膜厚に対する基準ピーク波長を算出する基準ピーク波長設定部４２と、前記測定ピーク波長及び前記基準ピーク波長をパラメータとして、前記薄膜試料Ｗの状態を分析する分析部４３と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】導電性ポリマー層形成後に導電性ポリマー層の膜厚不良を効率よく検査できるようにした有機ＥＬパネル基板の導電性ポリマー層の膜厚不良検査装置及びそれを用いた膜厚不良検査方法を提供することを目的とする。
【解決手段】有機ＥＬパネル基板の導電性ポリマー層の膜厚不良検査装置１００は、想定される導電性ポリマー層の膜厚範囲から最低３水準の膜厚での分光反射率を予め測定する分光反射率測定手段１０と、該分光反射率測定定手段１０により得られた結果から最も反射率に差が生じる波長を透過するバンドパスフィルタ２２を備えた撮像手段２０と、撮像したアナログデータ画像をデジタルデータ画像に変換するＡ／Ｄ変換手段３０と、デジタルデータ画像を処理する画像処理手段４０と、膜厚の正常、不良を判断処理する膜厚不良判断処理手段５０と、各手段の制御を司る制御手段６０と、から構成されている。 （もっと読む）

【課題】 設定された領域におけるサンプルを透過あるいは反射したテラヘルツ波の時間波形を取得することができる装置の提供。
【解決手段】 １４は、発生部１２が発生させたテラヘルツ波１０がサンプル１９を透過したテラヘルツ波１１を検出するための検出部１３が検出するタイミングを変化させるための遅延部である。
１５は、前記遅延部１０４を用いて得る、前記透過したテラヘルツ波の時間波形を取得するための波形取得部である。
前記記憶部１６が予め記憶しているサンプル１９に関する情報に基づいて設定される前記時間波形に関する領域で、前記検出部１３が前記透過したテラヘルツ波を検出するように前記遅延部１４、２４を制御する。
そして、前記領域における前記透過したテラヘルツ波の時間波形を取得する。 （もっと読む）

【課題】像保持体における保護層の状態をより適切に把握可能な画像形成装置を提供する。
【解決手段】照射ユニットにより反射光強度の測定が行われる（ステップ１０１）。次いで、ピーク有無判断部は、反射光強度にピークが存在するか否かを判断する（ステップ１０２）。その後、膜厚算出部は、ＯＣ層の膜厚を算出する（ステップ１０３）。次いで、判断部は、ステップ１０３にて算出されたＯＣ層の膜厚が、所定の閾値よりも小さいか否かを判断する（ステップ１０４）。判断部は、膜厚が所定の閾値よりも小さいと判断した場合には、制御部に対して、膜厚が所定の閾値よりも小さい旨の判断結果を出力する（ステップ１０５）。そして、制御部は、外部表示部に画像形成ユニットの交換を要求する旨を表示し（ステップ１０６）、画像形成装置における各部（各装置）の動作を停止させる（ステップ１０７）。 （もっと読む）

【課題】基板位置検出装置において、装置の大型化を抑制しつつ高速かつ高精度な位置検出を実現する。
【解決手段】膜厚測定装置の基板位置検出装置では、撮像部５１の撮像素子５１１による基板９上の撮像領域が、位置検出部５の撮像部回転機構５２により回転される。これにより、基板９を保持するステージを回転する機構を設けることなく、基板９のエッジ９２を周方向の複数の撮像位置において容易に撮像して基板９の位置を検出することができる。その結果、基板を水平方向に移動する機構の上に基板を回転させる機構を設ける従来の装置に比べて、膜厚測定装置の基板の位置検出に係る構造の大型化を抑制することができるとともに高速かつ高精度な基板９の位置検出を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】 反射フィルム用の蒸着膜厚は、フィルムの耐透湿度を上げるためにした３０ｎｍから６０ｎｍ程度の半透明金属蒸着膜厚とは異なり、蒸着膜厚１００ｎｍ以上のより金属板に近い膜厚を求められている。特に液晶表示などの反射フィルム用には、できるだけ反射効率をあげることが要求されていて、可視光領域では銀蒸着が最も高反射率となることが知られている。しかし、銀は高価であるため、膜厚が厚ければ厚いほどよいというわけにはいかず、膜厚制御が必要となっている。解決しようとする問題点は、より金属板に近い膜厚の銀蒸着を、安価に連続的に測定する方法を提供することである。
【解決手段】 透明基板上に形成される銀蒸着膜に、３１０ｎｍから３４０ｎｍの範囲の紫外線を照射し、その透過率と銀蒸着膜厚との相関関係により、１００ｎｍから４００ｎｍの銀蒸着膜の膜厚測定をする。 （もっと読む）

【課題】 処理基板上の規則的な構造を有するパターンに光を入射し、回折して得られる回折光の測定結果から、より正確にパターンの寸法や形状の評価を行う。
【解決手段】 複数の層が積層された基板の光学的な検査方法であって、予測される複数の構造を含む基板構造を複数作成し（301）、複数の基板構造からなる基板構造ライブラリＡを作成し（302）、基板構造について計算された光強度が収められた光強度ライブラリＢを作成し（304）、構造が決定されている層の構造を含む複数の構造を新たに作成する工程と（401）、光強度ライブラリＢの基板構造の中から光強度ライブラリＣを作成し（404）、基板に特定の角度で光を入射し、回折もしくは反射して得られる光強度を検出し（501）、検出した光強度と光強度ライブラリＣに収められた光強度と比較して、前記基板の構造を求める（503）。 （もっと読む）

【課題】吸光性膜の厚さを広範囲にわたって干渉の影響を受けることなく解析可能な方法を提供する。
【解決手段】ガラスからなる透明基材９０にアモルファスシリコンからなる吸光性膜９１が被膜されている。この吸光性膜９１に照射部１０Ｘから検査光Ｌ１を照射し、反射検出部１０Ｙで反射率（Ｒ）を検出するとともに、透過検出部２０Ｘで透過率（Ｔ）を検出する。これら検出結果からＸ＝Ｔ／（１−Ｒ）を算出し、その算出値と、記憶部３３に格納した膜厚とＸとの関係データとに基づいて、吸光性膜９１の膜厚を解析する。 （もっと読む）

【課題】屈折率差の小さいベース樹脂上の光透過性膜を形成してなる被測定物における光透過性コート膜の膜厚を、非接触、非破壊で確実にかつ精度よく測定する膜厚測定方法、この方法を実施するための膜厚測定装置を提供すること。
【解決手段】所望波長領域のスペクトル光を放射する光源からの光を照明領域を制限した顕微鏡光学系を介した対物レンズにより集光し、集光光束をベース樹脂上の光透過性コート膜に垂直入射させ、前記光透過性コート膜表面とベース樹脂表面とにより反射して互いに干渉した反射光を、前記対物レンズを介して顕微鏡光学系に戻し、検出光伝送用ファイバにより分光手段に導いて分光し、分光した分光スペクトル強度から反射率を演算する際に、前記反射率を任意の大きさに拡大することにより前記反射率が極小及び極大となる波長を求め、前記極小と極大を与える各波長と、前記膜の屈折率とに基づき前記光透過性コート膜の膜厚を演算算出することを特徴とする薄膜コート層膜厚測定方法。 （もっと読む）

【課題】吸光度に基づいて膜厚を測定する方法において、膜厚と吸光度との相関が強い波長範囲を指定することにより、正確な膜厚の測定ができる着色膜厚測定方法を提供する。
【解決手段】測定対象となる膜（サンプル）を特定し、前記サンプルと同一成分、同一構造の膜であって、膜厚が既知の膜（リファレンス）を用意し、前記リファレンスに対して、波長ごとに、膜厚と吸光度との相関度を求め、相関度の大きな波長範囲を指定し、当該指定された波長範囲で、膜厚と吸光度との関係を記述した検量線を作成して記憶し、前記サンプルの吸光度を測定し、前記指定された波長範囲の吸光度を前記検量線に当てはめることによって、サンプルの膜厚を求める。 （もっと読む）

【課題】帯状基材に対して塗膜の膜厚分布を精度良く測定し、また、塗膜を精度良く形成すること。
【解決手段】膜厚分布測定装置１００は、センサ１１０によって検知された帯状基材１０の幅方向端部１１の位置を基準として、帯状基材１０の幅方向に沿って、帯状基材１０に形成された塗膜２０の膜厚分布を測定する。塗膜形成装置３００は、ローラ２００で搬送される帯状基材１０の幅方向端部１１の位置を検知するセンサ１１０で検知された帯状基材の幅方向端部１１の位置を基準として、帯状基材１０の幅方向に沿って、帯状基材１０に形成された塗膜２０の膜厚分布を測定する膜厚分布測定部１００を備えている。そして、当該膜厚分布測定部１００で測定された塗膜２０の膜厚分布に基づいて、帯状基材１０に形成される塗膜２０が、塗膜２０の位置、塗膜２０の幅および塗膜２０の厚さについて、精度良く形成されるように、塗工部４００を適切に制御する。 （もっと読む）

【課題】表面にパターンのある基板上に形成した薄膜層の膜厚が許容範囲内か否かの判別を、高額な膜厚測定器を使わずに短時間で容易に行える方法を提供する。
【解決手段】表面にパターンのある基板上に設けられた薄膜層の膜厚が許容範囲内か否かを判別する方法であって、所定口径を有する光ビームで薄膜層形成前の基板の平均分光反射率（Ｖ_０（λ））を測定し、膜厚が許容範囲内の薄膜層形成後該層の平均分光反射率（Ｖ_１（λ））を測定し、縦軸がＶ_１（λ）／Ｖ_０（λ）で横軸が波長の反射比曲線を形成し、該曲線の山や谷の波長Ｗ_１ｉをｉ個算出して基準値として保存し、別の基板上に薄膜層を形成した後反射比曲線を形成し、かつ波長Ｗ_２ｉをｉ個算出し、ｉ個のＷ_１ｉとＷ_２ｉから演算した値を判別基準値と比較して膜厚の良否判別を行う。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、薄膜試料の温度を広い範囲に連続的に変化させながら、前記薄膜試料の偏光パラメータ（Ψ、Δ）を測定することにより、特定の圧力および温度において、前記薄膜試料の膜厚L、屈折率n、消衰係数k等の物性を求め、ナノ空孔の量と大きさや比表面積、熱膨張率、分解脱離に伴う熱光学特性などの評価を目的とした、圧力温度可変偏光解析測定方法を提供することである。
【解決手段】偏光解析装置において、光学的に透明な窓を設けた試料評価室内に試料を配置し、該窓には、該試料評価室内の気体圧力と温度を変化させても、試料台に載置された試料に照射する入射光に対して垂直な光学面、および、試料から反射する反射光に対して温度を変化させても垂直な光学面が設けられていることにより、種々の圧力をもつ所定の雰囲気中において、種々な温度における試料の屈折率、消衰係数又は膜厚を求めることを可能とした偏光解析装置である。 （もっと読む）