【課題】 酸化膜などの透明膜が存在する被検査対象に対して、回路パターンに起因するノイズを低減させることで、実害になる異物又は欠陥を高感度に検出可能とする。
【解決手段】 基板試料を載置してＸ-Ｙ-Ｚ-θの各方向へ任意に移動可能なステージ部と、回路パターンを斜方から照射する照明系と、照明された検査領域を上方および斜方から検出器上に結像する結像光学系とを有し、該照明系の照射により前記回路パターン上に発生する散乱光および回折光を集光する。更に、回路パターンの直線部分からの回折光を遮光するためにフーリエ変換面上に設けた空間フィルタを有する。更に、上記検出器で受光された上記照射された試料上からの散乱反射光を電気信号に変換し、該変換された電気信号を繰り返すチップ間で比較して不一致により試料上の異物として検査する。 （もっと読む）

【課題】膜が均一でなく、膜厚により結晶成長が大きくなる膜に関しても、膜厚を精度良くリアルタイムで測定できる膜厚測定装置を提供することを目的とする。
【解決手段】鋼板上に付着する膜厚により結晶成長が大きく異なる結晶が成長した表面をもつ膜の膜厚を測定する膜厚測定方法であって、被測定面に対する入射面に平行な方位角の成分及び垂直な方位角の成分を有する直線偏光を被測定面に入射する投光工程と、前記被測定面からの反射光を膜表面および膜内部での正反射成分と、膜表面および膜内部での散乱・拡散反射成分により変化した楕円偏光光を楕円偏光の長軸、短軸、および長軸と短軸の中間の角度にセットした、３つの偏光角で受光する受光工程と、該受光工程で受光した受光量に基づいて、重回帰式により膜厚を推定する膜厚演算処理工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】撮像装置により撮像された周期性パターンのムラの検査をする検査装置において外乱光および光源の散乱光の影響を除去した周期パターンムラ検査装置を提供する。
【解決手段】撮像側平行光学系３１を備え画像を撮像する手段を具備する撮像部３０と、検査対象基板５０を載置し、Ｘ軸及びＹ軸方向に駆動する手段を具備するＸＹステージ２０と、先端に固定した照明側平行光学系１１が設けられ照明側平行光学系を、ＸＹステージに載置した検査対象基板に対し上下方向角度及び平行方向に駆動が可能でありかつ載置した検査対象基板に対して照明の照射位置が一定である様に制御可能な照明光源を備えた照明駆動部１２を具備する斜め透過照明部２０と、照射側平行光学系とＸＹステージの間に配された偏光フィルター３５’及び反射防止膜３６’と、ＸＹステージと撮像側平行光学系の間に配された偏光フィルタ３５ー及び反射防止膜３６とを具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 検査対象物で反射した光を検出することにより刻印文字を検査する場合に、刻印文字の部位にかかわらず確実に検出することができる刻印文字の検査方法及び検査装置を提供する。
【解決手段】 投光手段６から出射する光の進行と共に方位角度が回転する円偏光を車体番号の文字が刻印されたフレーム１に照射して反射させ、この反射光のうち、文字の刻印されていない部分で正反射することにより偏光状態が保持された円偏光は偏光板１５で遮断し、文字が刻印されることにより表面が改質した部分で反射することにより部分偏光状態となった光の大部分は偏光板１５で透過させて、この透過光の強度を測定し、この測定された透過光の強度に基づいて、刻印された文字を認識し、この認識された文字と制御装置９に設定された文字とを比較することにより、設定された文字がフレーム１に正確に刻印されていることを検査する。 （もっと読む）

本発明は、オブジェクトの表面の表面プロファイルをマッピングするための装置であって、スロープデータを生じさせる装置に言及する。装置のスロープデータは、測定誤差を含むことがあり、本発明により、かかる測定誤差が、検出され、補正される。計算エンティティは、測定値が測定誤差を示す表面位置を決定するために、すべての測定値について、スロープデータのカールを計算することが提案される。第２のステップにおいて、測定値が補正されることができるという提案が与えられる。
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【課題】照明光を短波長化しなくても、確実に繰り返しピッチの微細化に対応できる表面検査装置および表面検査方法を提供する。
【解決手段】本発明の表面検査装置は、被検査基板を照明するための直線偏光の発散光束を射出する光源手段と、前記直線偏光の発散光束を該光束の主光線が所定の入射角を有するように入射して前記被検査基板に導く光学部材と、前記検査基板からの光束のうち前記直線偏光とは偏光方向が直交する直線偏光を受光する受光手段と、前記光源手段と前記受光手段との間の光路中に配置され、前記光学部材に起因して発生する偏光面の乱れを解消する少なくとも１つの偏光補正部材と、を有し、前記受光手段で受光した光に基づいて前記被検査基板の表面の検査を行う。 （もっと読む）

【課題】静的部品のみの簡単な構造で、取り扱いが容易であり、しかも精度良く半導体ウェハの輪郭を検出できるコンパクトなウェハ輪郭検出装置を提供する。
【解決手段】非光学活性体である半導体ウェハ３００の一方の面側から、所定方向の偏光Ｒａを照射する光照射部１と、前記一方の面側からみてウェハ３００の外輪郭を含んでその外側まで拡がるように、当該ウェハ３００の他方の面側に配置されるとともに、前記光照射部１からの偏光Ｒａを回転又は軽減して反射する反射部材２と、前記ウェハ３００及び反射部材２からの反射光を受光可能な位置に配置され、その反射光のうちの、前記所定方向の偏光Ｒａのみ又はその偏光Ｒａを除いた光のみを検出する光検出部３と、を備えるようにした。 （もっと読む）

【課題】
従来の解像度を改善して欠陥検出感度を向上させる方法では、微細欠陥と同様に高い空間周波数の構造体である微細パターンが最明部と成っている場合には、微細欠陥の濃淡コントラストが向上すると同時に微細パターンの濃淡コントラストも同時に向上するため、それ以上微細欠陥の検出感度を向上させることができないという問題があった。
【解決手段】
本発明では、照明瞳面に複数の小開口に分割した開口絞りを置き、各小開口の遮光／透光を独立に制御することにより、微細欠陥の濃淡コントラストがより強調されるような入射角のみで被検査物体を照明する。 （もっと読む）

移動する不織布材料のウェブの繊維配向を測定する画像ベースの技術であって、（ａ）異なる偏光特性を有する少なくとも４つの平面偏光された実質的に垂直の入射光ビームを用いて、ウェブの一方の側上の少なくとも４つの光スポットを本質的に同時に照射するステップと、（ｂ）対応する平面偏光された入射光ビームの偏光平面に対して既知の角度である少なくとも１つの直線区間に沿ったウェブの反対側上の出射光スポットの分散を測定するステップであって、少なくとも１つのこの直線区間が、透過出射光スポットの中心を実質的に横切って位置し、透過出射光スポットの幅を実質的に横切って延在する、ステップと、（ｃ）少なくとも４つの平面偏光された光ビームに対して、透過出射光スポットの分散のばらつきを計算するステップと、（ｄ）そのばらつきから繊維配向を推定するステップとを含む技術。 （もっと読む）

光学的薄膜アレイを分析するためのイメージ分析ワークステーションが開示されている。開示されている一実施態様は、それぞれが目的とする分析物のための固定化された捕捉試薬を包含する複数の個別的にアドレス可能な位置を提供する単一の光学的薄膜テスト表面を含む個別のアレイに関連する。ここでは、これらを『アレイ状の光学的薄膜テスト表面』と呼ぶ。好ましくは、個別のアレイ状の光学的薄膜が少なくとも４、より好ましくは少なくとも１６、さらに好ましくは少なくとも３２、それよりも好ましくは少なくとも６４、もっとも好ましくは１２８個もしくはそれを超える数の個別的にアドレス可能な位置を包含する。個別的にアドレス可能な位置の１ないしは複数は、コントロール信号（たとえば、正規化信号用、および／または正および／または負のコントロールとして作用する信号）または基準信号（すなわち、デバイス内におけるアレイ状の光学的薄膜テスト表面の相対的なアラインメントを決定するために使用される情報）を提供することができる。
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一実施形態において、ウエハー（１２２）端部を検査するシステムは、ウエハー表面（１２２）上に放射光を指向させる放射光標的アセンブリと、ウエハー表面（１２２）からの反射光を収集する反射光収集アセンブリと、ウエハー（１２０）の端部表面（１２６）の周囲で表面分析計アセンブリを回転させる手段と、ウエハー（１２０）の端部で単一または複数の欠陥を検出する手段を備えたことを特徴とする表面分析計アセンブリを備える。
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【課題】膜厚ムラを精度良く検出する。
【解決手段】ムラ検査装置１は、基板９を保持するステージ２、基板９の膜９２が形成された上面９１に向けて線状光を出射する光出射部３、基板９からの反射光を受光する受光部４、受光部４にて受光される光の波長帯を切り替える波長帯切替機構５、基板９から波長帯切替機構５に至る光路上に配置されるとともに膜９２からの反射光のうちＳ偏光光を選択的に透過する偏光子６、ステージ２を移動する移動機構２１、および、受光した光の強度分布に基づいて膜厚ムラを検査する検査部７を備える。Ｓ偏光光に対する反射率の変動は無偏光光やＰ偏光光に対する反射率の変動に比べて大きいため、ムラ検査装置１では、偏光子６により受光部４にて受光される光をＳ偏光光とすることにより、ラインセンサ４１の膜厚ムラに対する感度を向上して膜厚ムラを精度良く検出することができる。 （もっと読む）

【課題】 観察物体の形状に係わらず、つまりエッジ部分や平面状部分が混在しているか否かといったことに係わらず、その形状分布、或いは位相分布といった形状を示す情報を高精度に計測できる形状計測装置を提供する。
【解決手段】 演算処理部４２は、画像取得部４１が取得したリターデーション量がθ、−θの２つの微分干渉画像から差画像Ｄ、和画像Ｓを形成し、形成した差画像Ｄ、及び和画像Ｓを用いて関連成分画像を形成する。次に関連成分画像上のエッジを抽出し、その抽出結果を用いて領域分割を行う。その分割後は、画像コントラスト変化が比較的に大きい領域はデコンボリューション処理により、その変化が比較的に小さい領域は積分処理により、位相成分をそれぞれ算出し、算出した位相成分の合成を行う。 （もっと読む）

【課題】ＳＯＩ基板表面上の薄膜の厚さを、分子汚染に伴う問題を回避するとともにシステムの複雑性を伴うことなく高精度で測定する方法およびシステムを提供する。
【解決手段】シリコン−オン−インシュレータ（ＳＯＩ）基板などの多層構造基板の上の薄膜について単一波長偏光解析（ＳＷＥ）を行うこのシステムは、上記多層構造基板の表面層の厚さ以下の吸収距離を有する測定用ビームを用いる。例えば、ＳＯＩ基板の場合は、上記表面シリコン層の厚さ以下の吸収距離をもたらす波長をもつように測定用ビームを選ぶ。このシステムには、スループットを損なうことなく測定の精度を高めるように同時並行クリーニング動作を行うクリーニング用レーザを備えることができる。測定用ビーム源は、測定用ビームの吸収距離が前記表面層の厚さ以下になりクリーニング用ビームの吸収距離がその表面層の厚さ以上になるように、測定用ビームを一つの波長で、クリーニング用ビームをそれよりも大きいもう一つの波長でそれぞれ生ずるように構成する。
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【課題】 光測長器で円筒面など一方向に曲率を有する曲面の変位測定を行う場合に、被測定面に存在する微細な凹凸の影響を受けずに、精度よく測定を行うことができるようにする。
【解決手段】 レーザー光源１から出射するビームのスポット径を変更するスポット径調整手段を備えている。したがって、干渉計２から出射され、対物レンズ光学系４により集光される集光ビームは、被測定物体５の表面に大きさ可変な集光スポットＰとして照射される。これにより、集光スポットＰの大きさを集光スポットＰが被測定物体を走査する際に横断する傷等（符号Ｑ）に対し十分大きく設定することで、変位測定信号の乱れを排除できる。 （もっと読む）

【課題】基材の表面への透光性膜の成膜、又は基材の表面に成膜された透光性膜の膜処理を行う基材処理装置において、透光性膜の膜物性のリアルタイム測定を実施し、高精度な膜物性制御を行う。
【解決手段】基材処理装置１は、基材１０の表面への透光性膜の成膜、又は基材１０の表面に成膜された透光性膜の膜処理を行っている基材１０に対して、透光性膜側から光Ｌを照射する光照射手段５０と、成膜中又は膜処理中の基材１０からの光Ｌの反射光Ｒを受光し、反射光Ｒに含まれる、透光性膜の表面で反射される第１反射光と、透光性膜と基材１０との界面で反射される第２反射光との干渉光を検出し、ピークバレー法により透光性膜の膜物性を測定する膜物性測定手段６０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】
基板上の異物を検査する方法において、特に基板からの散乱光ノイズを低減して微小な異物を検出する。
【解決手段】
照明光学系の入射角度を小さくし、検出分解能の高い検出光学系および検出画素の小さい検出器により検出領域を充分に小さくするようにした。
照明光学系の入射角度を大きくすることにより、光が回折する際の位相差を小さくできるので、基板からの散乱光を低減できる。また、これにより、鏡面ウエハ上に付着した微粒子（微小な異物）の検出が可能になる。 （もっと読む）

【課題】照明光を短波長化しないで、繰り返しピッチの微細化に対応できる検査装置を提供する。
【解決手段】被検査基板２０を照明するための直線偏光の発散光束を射出する光源手段Ｌｓと、前記直線偏光の発散光束を、その光束の主光線が所定の入射角を有するように入射して、前記被検基板に導く光学部材３５と、前記被検基板からの光束のうち前記直線偏光と偏光方向が直交する直線偏光成分を受光する受光手段３８、３９と、前記光源手段と前記受光手段との間の光路中に配置される補正部材に、応力歪を設定することにより、前記光学部材に起因して発生する偏光面の乱れを解消する補正手段１０と、前記受光手段で受光した光に基づいて前記被検査基板の表面の欠陥を検出する検出手段１５とを備える。 （もっと読む）

【課題】照明光を短波長化しないで、繰り返しピッチの微細化に対応できる検査装置を提供する。
【解決手段】被検査基板２０を照明するための発散光束を射出する光源手段Ｌｓと、発散光束を、その光束の主光線が所定の入射角を有するように入射して、被検基板に導く照射部材３５と、被検基板からの光を集光し、被検基板の像を結像する結像手段３６、３７と、結像された像を撮像する撮像手段３９と、光源手段から照射部材に至る光路中に設けられた第１の偏光板３４と、結像手段から撮像手段に至る光路中に設けられた第２の偏光板３８と、第１の偏光板と第２の偏光板との少なくとも一方を光軸と垂直な面内で回動させる回動手段と、回動手段による複数の回動位置における撮像手段により得られる画像により被検査基板の表面の欠陥を検出する検出手段１５とを備える。 （もっと読む）

本発明は、受信器３’を備えた移動可能ユニットの位置および方位を測定する位置決めの方法に関する。受信器３’は、走査ユニット２’で検出され、その走査ユニット２’で、受信器３’に関する少なくとも距離および方向を測定する。走査ユニットで放射される放射線が、受信器３’で検出される。放射線の入射方向および受信器軸に関する放射線の入射方向が導出される。一方、受信器軸ＥＡに関わる入射放射線のオフセットが測定される。移動可能ユニットの位置および方位が、少なくとも位置情報としての、距離、受信器３’に関する方向、オフセット、および、入射方向から導出される。移動可能ユニットを光学接続ＯＶで任意に制御する。
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