【課題】基底材の上に形成されたフィルムの厚さを測定することが可能な透明フィルムの厚さ測定装置を提供する。
【解決手段】光源１３から放出される可視光域の連続スペクトルを有する光は、第１の偏光フィルタ１５を通して被測定物１１に照射され、被測定物１１を透過した光が第２の偏光フィルタ１６を通して分光器１４により分光される。演算装置１８は、分光器１４の出力である分光スペクトルを入力し、予め分かっている光源１３の発光スペクトルで正規化して、被測定物１１の分光透過率を計算する。そして、包絡線法を使用して、被測定物１１の基底材の上に形成された透明フィルムの厚さを演算して出力する。第１の偏光フィルタ１５、第２の偏光フィルタ１６のＰ波主軸と、被測定物１１の走行方向とのなす角は、分光スペクトルに振動が現れるような角度に予め設定されている。 （もっと読む）

【課題】接触式のプローブでは計測困難な観察対象の表面粗さ等を精度よく測定しつつ、表面状態を観察することを可能とする。
【解決手段】プローブ２と、低コヒーレント光源７を備える光源装置３と、プローブ２と光源装置４とを接続する単一の光ファイバ４とを備え、光源装置３に、低コヒーレント光Ｌ_０を参照光Ｌ_２と計測光Ｌ_３とに分岐する第１の低コヒーレント光分岐部１３と、参照光Ｌ_２の光路長を調節する光路長調節部２０と、光路長を調節された参照光Ｌ_２と計測光Ｌ_３とを合波して光ファイバ４に入射させる光合波部１５とが備えられ、プローブ２に、参照光Ｌ_２を分岐する第２の低コヒーレント光分岐部と、観察対象Ａから戻る計測光Ｌ_３と参照光Ｌ_２とを合波する低コヒーレント光合波部と、合波された参照光Ｌ_２および計測光Ｌ_３を撮像する撮像素子とが備えられている計測内視鏡１を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、被測定対象の表面性状が検出プローブに適さない場合であっても、被測定対象のエッジを検出可能な非接触変位計測装置を提供する。
【解決手段】光源からの光を被測定対象１２に照射してその反射若しくは透過光を光検出器で受光することにより光軸方向の被測定対象１２の変位を検出するレーザプローブ３５を移動させながら、前記光検出器の出力及び所定の閾値に基づいて前記被測定対象のエッジを検出するようにし、移動した位置情報（Ｘ_１，Ｘ_２，…，Ｘ_Ｎ）、（Ｙ_１，Ｙ_２，…，Ｙ_Ｎ）とともに、得られた出力信号から距離の情報（Ｚ_１，Ｚ_２，…，Ｚ_Ｎ）及び表面性状の情報（ＳＮＲ_１，ＳＮＲ_２，…，ＳＮＲ_Ｎ）を取得し、それら情報に基づき、エッジの位置を特定する。 （もっと読む）

【課題】発光ダイオードのような通常の光源を用いることができる情報媒体を得ること。
【解決手段】トラックに識別マーク（２０）が設けられ、この識別マークは、光源から放射される中心波長（λ）の光、すなわち角度（Θ_i）で情報媒体（１０）に入射する当該光によって検出することができ、これらの識別マークから情報媒体（１０）のポジションを導き出すことができる。この際、前記識別マーク（２０）が、格子周期が（Λ）である少なくとも第１のパターン（２２）でパターン化された領域（２５）によって形成されており、これらの領域は、金属膜（４０）の下面（４０ｂ）および／または金属膜（４０）の表面（４０ａ）に配置されている。この際、第１のパターン（２２）の格子周期（Λ）が、数式Λ＝λ／（ｎ_P^★−ｓｉｎ（Θ_i））、またはΛ＝λ／（ｎ_P^★＋ｓｉｎ（Θ_i））を満足する。 （もっと読む）

【課題】透明な大型平板状製品の欠陥を容易に検査する。
【解決手段】検査対象の平板状透明製品１５を挟んで配置される一対の偏光子１，２と、一方の偏光子１を通して検査対象１５を照明する照明光源４と、一方の偏光子１と検査対象１５との間に配置される位相子３と、照明光源４から照明光が照射され一対の偏光子の他方の偏光子２から出射する透過光を検出する検出手段８と、検査対象１５を保持すると共に検査対象１５を平行移動させる移動手段５０と、検出手段８が検出した透過光データから評価値を算出し該評価値が増大する方向に偏光子１の光学軸の角度θ１と位相子３の光学軸の角度θ２とを独立に制御する演算手段１０とを備える。 （もっと読む）

【課題】セルの内壁からの反射光の影響を削除し、正確にセルの形状を測定することができるグラビア版セル形状測定装置を提供する。
【解決手段】グラビア版セル形状測定装置には、偏光角度変更手段２０を備えたカメラ顕微鏡２が備えられ、それぞれ異なる偏光角度で複数枚のセル画像を撮像する。グラビア版セル形状測定装置がセルの形状を測定する際は、撮像した複数枚のセル画像の中から、画像の平均輝度が一定値以上のセル画像を合成して一枚の合成画像を生成し、生成した合成画像を用いてセルの形状を測定する。 （もっと読む）

【課題】スペーサの形状にかかわらず、比較的広範囲にわたって、しかも高精度に基板間隔調整用スペーサの高さを測定することが可能な液晶パネルの基板間隔調整用スペーサの高さ測定方法及びその測定装置を提供する。
【解決手段】一対の基板間に間隔調整用のスペーサを介設すると共に、両基板間に液晶を封入した液晶パネルにおいて、一方の基板１１の表面側に間隔調整用のスペーサ２１を配置した状態において、計測用透明板１４をスペーサ２１上に載置する。計測用透明板１４をスペーサ２１に押圧接触させる。計測用透明板１４の載置面と基板１１の表面との隙間距離を光学的手段１２を利用して測定することで基板１１の表面上のスペーサ２１の高さを求める。 （もっと読む）

【課題】 光干渉法と偏光解析法を1台の装置において可能にすることによって、基板上に形成した透明な薄膜の屈折率と膜厚や、基板のたわみや膜の段差などを試料面内で２次元的に測定できるようにするとともに、測定精度を向上させた表面測定装置を提供する。
【解決手段】 ある偏光状態にある平面波を試料１に照射し試料１の反射による偏光状態の変化をセンサー１１によって測定することを特徴とする光学式表面測定装置において、反射側のレンズ７の焦点に偏光素子８を置くことを特徴とする表面測定装置。 （もっと読む）

【課題】 検出対象のパラメータを簡単に、正確に検出することができる検出対象のパラメータ検出方法及び検出装置を提供する。
【解決手段】 検光子１３の透過軸方向が入射面に対して任の角度ω_０傾き、偏光子１１の透過軸方向が入射面に対して０°及び９０°傾いている時の透過光強度に基づいて比ｒを求める。また、検光子１３の透過軸方向が入射面に対して任意の角度ω傾き、偏光子１１の透過軸方向が入射面に対して任意の角度α傾いている時の透過光強度を、相異なる少なくとも２つ以上のωとαの組み合わせに対して検出する。そして、検出した複数の透過光強度と比ｒに基づいて検出対象１２のリタデーションや厚さを求める。 （もっと読む）

【課題】光偏向素子の原点位置を高い精度で行うことのできる光ビーム走査装置を提供すること。
【解決手段】光ビーム走査装置１は、光源装置１０と、光源装置１０から出射された光ビームの入射位置により光ビームＬ０の出射方向が変化する光走査領域３６を備えた透過型光偏向ディスク３０と、この透過型光偏向ディスク３０を回転駆動する駆動装置とが構成されている。透過型光偏向ディスク３０には、入射した光ビームＬ０を光走査領域３６とは異なる方向に出射する原点位置検出用出射領域８２が形成され、この原点位置検出用出射領域８２から光ビームが出射される方向には原点位置検出用光検出器８１が配置されている。 （もっと読む）

【課題】基板と重畳する薄膜との間の界面等の２つの材料の間の界面の特性を調べる改善された超高速光技術を提供する。
【解決手段】機械的特性及び熱特性の測定による薄膜と薄膜間の界面との特性調査のためのシステムにおいて、レーザ１３６からの光は、薄膜や、複数の薄膜で作製された構造物に吸収され、光の透過あるいは反射の変化が測定されて、解析器１３４を使用して分析される。反射や透過の変化が使用されて、構造物で生成される超音波に関する情報を与える。この測定方法及び装置の使用から得られる情報は、（ａ）初期の方法と比較して改善された速度および精度での薄膜の厚さの測定、（ｂ）薄膜の熱特性、弾性特性、光特性の測定、（ｃ）薄膜内の応力の測定、（ｄ）粗さと欠陥との存在を含む、界面の特性の特性調査、を含む。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子のガラス基板へ光を照射して、有機膜の特性を解析する。
【解決手段】試料解析装置１は、ガラス基板５１が上側となるようにステージ４に有機ＥＬ素子５０を載置し、ガラス基板５１へ向けて光を照射して有機ＥＬ素子５０に係る振幅比及び位相差を測定する。また、試料解析装置１は、照射した光の反射光Ｋ１〜Ｋ３に応じた構造のモデルを選択し、選択したモデルから振幅比及び位相差を有機ＥＬ素子５０の空間６０の厚み寸法に応じて第１演算処理又は第２演算処理で求める。試料解析装置１は測定した結果及びモデルから演算により求めた結果を比較してフィッティングを適宜行うことで、いくつかのモデルの中からベストモデルを決定し、有機ＥＬ素子５０に係る特性を解析する。 （もっと読む）

【課題】複数枚の基板の張り合わせ等に際し、単一のカメラにより複数組の重畳マーク像を撮像することができる画像認識装置、基板の位置合わせ装置および基板の張り合わせ装置を提供する。
【解決手段】それぞれが相互に離間して配置した同一パターンの複数のアライメントマークＭを形成した複数枚の透光性の基板を、間隙を存して相互に平行に且つ相互のパターンが略合致するように重ね、この状態で重畳した複数組の重畳マーク像を撮像して複数枚の基板の相互位置を位置認識する画像認識装置において、重畳マーク像を撮像する単一の撮像カメラ５と、複数の重畳マーク像を、これに対応する分岐撮像光路３３から撮像カメラ５の主撮像光路３１を経て撮像カメラ５の視野内に取り込む光学部品ユニットと、撮像カメラの視野内に取り込んだ複数の重畳マーク像の撮像結果を画像処理し、複数枚の基板の相互位置を位置認識する画像認識手段と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】複数の品位検査を行いながらも、パネル部材の搬送回数の低減によって傷、汚れの付着を効果的に抑制可能で、しかも搬送時間の短縮やオペレータの拘束回数の低減によって処理スループットを向上可能な優れたパネル部材検査装置を提供する。
【解決手段】パネル部材に行う複数の検査レシピを、そのパネル部材を所定の収容場所から搬入して搬出するまでの一度の搬入出工程の間で行うように構成した装置であって、前記パネル部材を載置するためのパネル載置台３と、前記複数の検査レシピをそれぞれ実行可能な複数の異なる検査機器６と、複数の実行すべき検査レシピに応じて、前記パネル載置台３と前記検査機器６との相対移動を制御する移動制御部８ｂと、複数の実行すべき検査レシピを、対応する検査機器６にそれぞれ実行させるための制御を行う検査レシピ実行制御部８ｃとを具備して成るようにした。 （もっと読む）

【課題】従来に多色印刷を行いときの色の位置合わせでは、トナーの反射率が光源の色彩によって異なったり、トナー担持体の反射光により反射形状が乱れたりするので、種々の補正手段が必要であり、高価なものとな成ると共に精度も不足気味であった。
【解決手段】本発明により、複数の異なる色による画像形成部を有した多色画像形成装置の色ずれ補正において、単一偏光光を投光する投光部と透光光とは異なる偏光光を受光する受光部とを有する光センサと、トナー位置検出用パターンとして発光波長に対し反射率の高いトナーは単独で形成したパターンと、発光波長に対して反射率の低いトナーは反射率の高いトナーを下地として形成したパターンとを有し、各トナーパターンを光センサで検出して各色の色ずれを補正する多色画像形成装置とすることで課題を解決する。 （もっと読む）

【構成】 干渉センシング装置は、各々が、対応する複数の選択された波長における発光を与える複数の単一縦モードレーザ源、各レーザからの発光を周波数または位相変調するための少なくとも１つの変調器、および光ファイバ中に書き込まれたブラッググレーティングによって形成される、複数のファブリ・ペロー干渉計を備え、各干渉計は前記複数の波長の１つに応答し、対応する干渉計の経路長に依存する、反射されたもしくは透過された光出力信号を生成し、さらに光出力信号を復調し、各干渉計の光路長を表す、対応する複数の計測信号を生成する１つもしくはそれ以上の復調器を備える。 （もっと読む）

【課題】露光の際の焦点位置の検出精度を向上することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置２０は、露光光を出射する露光用光源２３を含む照明光学系２２と、露光光を基板１に導く投影光学系２４と、露光時の焦点位置検出用の検出光を出射する検出光光源２９と、該検出光光源２９から出射された検出光を特定の偏光とすることが可能な偏光子３０と、該偏光子３０により特定の偏光とされた検出光を基板１に照射した際の反射光を検出する光検出器３２とを備える。 （もっと読む）

【課題】 ０次回折光を使用してＬ／Ｓパターンのピッチを測定する方法を提供する。
【解決手段】 物体の表面に、入射直線偏光を、入射直線偏光の振動方向がＬ／Ｓパターンの長さ方向と一致せず、かつ垂直にならないように入射し、入射直線偏光と物体の表面の法線とのなす角をαとするとき、表面によって反射された反射光のうち、入射直線偏光と振動方向が直角な反射直線偏光のみを検出し、検出された光のうち０次回折光の強度を特定する工程を、入射直線偏光の入射角α又は波長λを変えながら行い、検出された０次回折光の強度が急変してピーク値をとるときの、入射直線偏光の入射角α又は波長λに基づいて、特定の式によりＬ／Ｓパターンのピッチを測定する。 （もっと読む）

【課題】 画像処理精度を向上させた偏光イメージング装置を提供する。
【解決手段】
それぞれ透過軸が異なる２つ以上の偏光子の領域に分かれており、入射される入力光のうち、前記各領域において当該入力光の無偏光成分を透過させると共に、前記各領域によって偏光方向が異なる前記入力光の偏光成分を透過させる偏光子ユニットを１個又は複数個含む偏光子アレイと、前記各領域を透過した光を独立に受光する受光素子アレイと、前記受光素子アレイからの前記偏光成分及び無偏光成分を処理する画像処理部と、を有する偏光イメージング装置（１００）により解決することができる。 （もっと読む）

【課題】 より簡便かつ短時間に酸化膜の膜厚測定を行うことができるようにする。
【解決手段】 膜厚測定方法は、予め準備された金属または合金の酸化膜または薄膜の膜厚とエリプソメトリで測定される位相差Δとの関係から、エリプソメトリで測定される位相差Δのみを用いて金属または合金の酸化膜または薄膜の膜厚を求める。基板処理装置は、予め準備された金属または合金の酸化膜または薄膜の膜厚とエリプソメトリで測定される位相差Δとの関係から、エリプソメトリで測定される位相差Δのみを用いて金属または合金の酸化膜または薄膜の膜厚を求める膜厚測定器を有する。 （もっと読む）