【課題】簡易な構成で、高精度の測定が可能な光学的測定装置を提供することである。
【解決手段】光源の光を測定対象に投光して測定対象の材質、厚さ、成分、水分などの性状を測定する光学的測定装置において、測定対象の形状に対応した開口形状を有するスリットを回転セクタの光学フィルタ上に設け、スリットは光源からの光の結像位置に配置した。このことにより、スリット用のスペースが不要となり、回転セクタ用の設置部品と共用することでスリット設置専用の部品などが不要となり、簡易な装置構成となる。 （もっと読む）

【課題】 半導体素子などに於ける膜の化学的組成、屈折率、厚さ、体積空隙率を試料に非接触且つ非破壊で簡便且つ正確に、しかも、高速に測定できるようにする。
【解決手段】 赤外光源１と、赤外光の波長を選択する光学系２と、波長選択した赤外光の試料３への入射角を変化させるために照射点を中心にして試料３を第１のステージ６と、試料３からの反射光を観測するために試料の回動に連動して照射点を中心にして試料回動角の２倍分の円運動を行う第２のステージ７をもち且つＳ偏光成分とＰ偏光成分とを区別して検出するために赤外光路中に１直角の回動が可能な偏光子をもつ赤外光検出系５とを備えてなる装置で膜の分析を行う。 （もっと読む）

【要 約】
【課 題】簡易な構成で、種々の測定対象に対応して、高精度の測定が可能で、かつ工数を低減し時間ロスの少ない光学的測定装置を提供することである。
【解決手段】光源の光を測定対象に投光して測定対象の材質、厚さ、成分、水分等の性状を測定する光学的測定装置において、測定対象の形状に対応した開口形状を有する複数種類のスリットを回転セクタの光学フィルタに近接して設け、スリットの位置は光源から出た光の結像位置に配置した。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、種々の測定対象に対応して、高精度の測定が可能で、かつ工数と時間ロスを低減できる光学的測定装置を提供することである。
【解決手段】光源の光を測定対象に投光して測定対象の材質、厚さ、成分、水分などの性状を測定する光学的測定装置において、前記測定対象の形状に対応した開口形状の複数のスリットを有する投光スポット制御手段を前記光源からの光の結像位置に配置した。測定対象の形状に相当するスポットとすることで、測定対象の必要部分からの無駄のない大きな測定光量が得られ、測定精度の向上が図れる。 （もっと読む）

【課題】数ｎｍから数１０ｎｍ程度の外径を有するナノカーボンチューブや外径２００ｎｍ以下のより細いナノファイバーの外径を精度良く測定する方法およびその測定装置を提供する。
【解決手段】ナノファイバーの長さ方向に対して垂直に偏向された垂直偏光を、前記ナノファイバーに投射して得られる所定散乱角度の散乱光による測定散乱光強度と、前記散乱角度から算出した計算散乱光強度とから、前記ナノファイバーの外径及び屈折率の関数で表される偏差指標を算出し、この偏差指標を最小とする前記ナノファイバーの外径および屈折率の組み合わせを求めることで、前記ナノファイバーの外径および屈折率を求めることを特徴とするナノファイバーの外径及び屈折率の測定方法である。 （もっと読む）

分離した光周波数を有する互いに直交する直線偏光した２つの成分を含む直線偏光光線が、膜の方に向けられ、その結果、その成分の膜の中の光路の増加によって、一方の光学的な偏光成分が他方に遅れることとなる。一対の検出器は、膜層から反射されたビームを受け取り、膜層に入射するのに先立って測定信号及びビームを発生し、それぞれ参照信号を生成する。測定信号及び参照信号は、位相シフトのために、位相検出器によって分析される。そして、検出された位相シフトは、膜厚の結果のために厚さ計算機に供給される。
格子干渉計は、格子を有するヘテロダイン反射率計システムに含められ得る。それは、０次及び１次のバンドに反射されたビームを回折させ、それは、別個の検出器によって検出される。検出器は、０次ビームを受け取り、別の測定信号を生成する。別の検出器は、１次のビームを受け取り、格子信号を生成する。格子及び参照信号からの測定信号は、位相シフトのために位相検出器によって分析され得る。それは、膜の厚さと関連している。さらに、ゼロ次ビーム測定信号は、格子信号によって、格子によって引き起こされた格子位相シフトを検出するために、位相検出器によって分析される。膜の屈折率は、格子ピッチに対する格子位相シフトとヘテロダイン位相シフト、及び、測定装置の膜の上のビームの波長及び入射角から直接計算され得る。膜厚は、屈折率とヘテロダイン位相シフトを用いて決定される。逆に、膜厚計算は、実際の補正された格子位相シフトと補正されたヘテロダイン位相シフトとからの膜の屈折率を用いて独立して導かれ得る。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置およびリソグラフィ装置によって描像されるフィーチャーの最小寸法を予測する方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射線のビームを調整するように構成された照明装置、およびパターニングデバイスを保持するように構成された支持体を含む。パターニングデバイスは、所望のパターンに従って放射線のビームにパターンを形成するように構成される。リソグラフィ装置は、基板を保持するように構成された基板テーブル、およびパターン形成したビームを基板の目標部分に投影して、基板上にパターン形成した像を形成するように構成された投影システムも含む。装置はさらに、ビームの一部を中断し、パターニングデバイスの少なくとも一部を通るビームの透過を測定するように構成され、配置されたセンサを含む。 （もっと読む）

【課題】 半導体デバイスの製造工程におけるフォトリソグラフィでの露光量およびフォーカス等の露光条件の最適化を個別かつ簡便に実現することができる技術を提供する。
【解決手段】 半導体ウェハのパターンに光を照射し、その反射による散乱光を用いてパターンの形状情報を検出する光学系により、予め作成した複数の形状変形パターンを有するＦＥＭサンプルウェハの波形を検出・保存する。パターンの変形に伴って生じるスペクトル波形上での１つ以上の特徴点を記録し、特徴点の変動モデルを求める。被測定パターンでは、上記と同様にしてスペクトル波形を検出し、波形上の特徴点の変位から、変動モデルを用いて、作成条件の変位（露光量ずれ、フォーカスずれ）を推定する。これにより、露光量とフォーカスを独立にフィードバックすることができ、高精度なプロセス制御が実現できる。 （もっと読む）

【課題】ワークピース表面から反射される光を使用してワークピースの表面を検査するのに使用される方法及び装置を提供する。
【解決手段】光学的テストヘッドは、レーザビームを発生するためのレーザソースを備えている。レーザビームは、ビームの形状を変更するための円筒状レンズと、ビームをワークピース（通常、磁気ディスクプラッター）に集中させるための球面レンズとを通過する。円筒状レンズは、ａ）プラッターの半径方向に沿ってレーザビームを延長させ（半径方向における有効開口数を減少することにより）、そしてｂ）ビームを半径方向に焦点ずれさせる（が、ビームは、通常、周囲方向に焦点が合わされる）。半径方向におけるビームのサイズは、円筒状レンズの位置に実質的に不感である。 （もっと読む）

試験対象物の第１の表面箇所に対する走査干渉分光信号から導出可能な情報と試験対象物の複数のモデルに対応する情報とを比較することを含む方法であって、複数のモデルは、試験対象物に対する一連の特性によってパラメータ化される方法。複数のモデルに対応する情報は、試験対象物の各モデルに対応する走査干渉分光信号の変換分（例えば、フーリエ変換分）の少なくとも１つの振幅成分についての情報を含んでもよい。第２の側面では、モデルは固定された表面高さに対応するとともに、固定された表面高さとは異なる一連の特性によってパラメータ化されている。第３の側面では、比較は、走査干渉分光信号の系統的な影響を明確にすることを含む。 （もっと読む）

【課題】
微細なパターンを高い分解能で検出する欠陥検査方法、その装置及び半導体基板を高歩留まりで製造する方法を提供する。
【解決手段】
Ｘｅランプ３、楕円鏡４、マスク５とからなる輪帯状の照明を形成するランプハウス２４は、輪帯状の照明光を、ＸＹＺステージ２上に載置された微細パターンを形成したウエハ（被検査対象物）１を、コリメータレンズ６、光量調整用フイルタ１４及びコンデンサレンズ７を介して、円又は楕円偏光変換素子により円又は楕円偏光させて、対物レンズ９を介して照明し、その反射光をハーフミラー８ａ、８ｂ、ズームレンズ１３を介し、反射光の画像をイメージセンサ１２ａにより検出する。ステージＸＹＺを移動させ、センサ１２ａにより走査し画像信号を得る。この画像出力をＡ／Ｄ変換器１５ａにより変換して基準画像と比較して不一致を欠陥として検出するものである。 （もっと読む）

【課題】計測された回折スペクトルと特性領域における複数のシミュレートされた回折スペクトルとの類似性を比較して、格子構造パラメータを決定する方法を提供する。
【解決手段】光波散乱計測方法は、Ａ）格子構造パラメータを入力し、Ｂ）前記パラメータを基礎として入射光値に渡り回折形状を計算し、Ｃ）前記パラメータのうち１以上を増分的に変更し、Ｄ）ステップＢを繰り返し、変更された格子構造パラメータを基礎として前記入射光値に渡り追加的な回折形状を計算し、Ｅ）増分的に増大する格子構造パラメータ値の変更が回折形状内にしきい値を超える変化を発生させる、計算された回折形状の特性領域を識別し、Ｆ）計算された回折形状の特性領域をライブラリに格納し、Ｈ）サンプル基板上で光波散乱計測を実行し、入射光値に渡って散乱シグナチャを生成し、Ｇ）散乱シグナチャをライブラリ内の計算された回折形状と比較し、Ｈ）選択された類似レベルまで散乱シグナチャとマッチする、計算された回折形状を識別する。 （もっと読む）

【課題】使用する偏光素子数を減らしてコストダウンを図りつつ、トナーの付着量を正確に測定する方法を実現すること。
【解決手段】像担持体上に付着したトナー像へ測定光を照射する光照射手段と、その反射光を受光する受光手段とを有するトナー量測定装置において、測定光の照射角度が像担持体に対するブリュースター角に設定されていることを特徴とする。そして、前記測定光がＰ偏光に偏光されていることを特徴とする。又、前記反射光のＰ偏光成分を選択して受光する受光手段を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
透明基板上に堆積させた透明膜や吸収膜の誘電率テンソルと膜厚を同時に決定できるように改良したラングミュア・ブロジェット膜の膜厚と誘電率分散の同時決定方法を提供する。
【解決手段】
入射面および入射角と偏光状態を変えて基板の透過スペクトルを測定して測定データを得る第１のステップと、入射面および入射角と偏光状態を変えて上記基板の反射スペクトルを測定して測定データを得る第２のステップと、前記第１のステップと同じ条件で上記基板に薄膜を付着させた試料の透過スペクトルを測定して測定データを得る第３のステップと、前記第１のステップと同じ条件で上記試料の反射スペクトルを測定して測定データを得る第４のステップと、上記の各ステップで得られた測定データに最小二乗法による演算処理を実行して膜厚と光学的周波数領域における異方的な誘電率の値及びその分散誘電率を共に決定する第５のステップとからなる。 （もっと読む）

【課題】 侵入検知に伴う検知用光ファイバの損傷の恐れが少なく、長い距離のフェンスでも要する光ファイバ長を低減でき、侵入者を検知し進入箇所を特定できる侵入者検知装置付きフェンス。
【解決手段】 侵入者検知機能付きフェンスを、フェンスの枠体に張られて固定された網と、フェンスの延設方向に亘って延設された光ファイバと、光ファイバの端部に接続された投光受光解析装置とを備え、網は複数の区画毎に枠体を区画の内側に向かって弾性変形させて張られるとともに、光ファイバは、複数の区間に順次配設され少なくともフェンスの上縁側に位置する枠体に沿って取り付けられ、投光受光解析装置は、光ファイバにその一端から投光し、光ファイバにおいて損傷に至らない変形を受けた箇所で発生する散乱光を一端側から受光して光ファイバが変形を受けたことを検出し、且つ、その箇所までの距離を算出するように構成されてなるようにした。 （もっと読む）

【課題】 複数の受光素子により光ビームの暗線の位置（全反射減衰角θ_ＳＰ）の検出を行う測定装置において、測定精度を向上させる。
【解決手段】 光ビームを検出する各フォトダイオード17ａ、17ｂ、17ｃ……に接続された差動アンプ18ａ、18ｂ、18ｃ……の中から、全反射減衰角θ_ＳＰに対応する微分値Ｉ´＝０に最も近い出力が得られているものを選択し、次に、選択した差動アンプを中心として前後２ｃｈ分の合計５ｃｈの作動アンプの出力に基づいて３次の近似式を算出し、この近似式を作動アンプの出力（微分値）と全反射減衰角θ_ＳＰ（暗線）の位置との関係を示す関係式として、この関係式と上記で選択した作動アンプの出力とに基づいて全反射減衰角θ_ＳＰの位置を求める。
（もっと読む）

【課題】偏光解析装置及び分光光度計により算出されるデータと測定値の一致を向上させる。
【解決手段】偏光解析装置及び分光光度計を有する光学測定システムが較正され、先ず偏光解析装置と分光光度計が互いに独立して較正される。次いで、試料の分光光度計の層厚（ｄ_{ｐｈｏｔｏ}）が分光光度計を用いて初めの入射角（θ_ｉｎｉｔ）で決定される。次いで、試料の偏光解析装置の層厚（ｄ_ｅｌｌｉ）が偏光解析装置を用いて決定される。分光光度計の層厚（ｄ_{ｐｈｏｔｏ}）と偏光解析装置の層厚（ｄ_ｅｌｌｉ）の差の絶対値が所定の絶対値より小さくなるまで、初めの入射角（θ_ｉｎｉｔ）を変えることにより分光光度計と偏光解析装置が互いに合わされる。 （もっと読む）

【課題】 光源から出射された光を検出側に伝送する光ファイバの屈曲やストレスによる偏波の乱れを減少させることにより高精度な定点検出や変位計測を可能とする。
【解決手段】 光源１２から出射された可干渉性又は干渉性の低い光は、偏光板１３に入射すると、消光比が例えば３０ｄＢのように高い直線偏光となる。この消光比の高い直線偏光を集光レンズ１４によって集光し、かつ直線偏光ビームの偏波軸を、偏波保持タイプの光ファイバ１５の光学軸に合わせて偏波保持タイプの光ファイバ１５に入射する。このように、偏光板１３によって直線偏光とされたビームを偏波保持タイプの光ファイバ１５に入射するとき、上記ビームの偏波軸を、上記光ファイバ１５の光学軸３４に合わせると、上記光ファイバ１５の屈曲やストレスによる消光比の変動を少なくすることができる。 （もっと読む）

【課題】電子写真用クリーニングブレードの板状体に対して、表面の歪み等を検出可能にし、偏光レンズを用い、ハロゲン光を照射して透明ないしは半透明の板状体の歪みを検査し、板状体の表面の歪みを判別する板状体の歪み検出方法及び板状体の歪み検出装置を提供する。
【解決手段】上記の透明または半透明の板状体の歪み検出装置は、投光手段と、少なくとも２つの偏光素子と、該板状体を透過した光を撮像するための撮像手段と及び、該撮像手段により得られた画像のデジタル処理手段とを有し、該板状体は該少なくとも２つの偏光素子の間に配置されており、該投光手段と該撮像手段とが対向して配置され、該板状体に投光された光が該板状体を透過する。 （もっと読む）

【課題】 高感度を有し、オーバレイ測定の改善された精度を提供するスキャトロメトリシステム及び方法を提供する。
【解決手段】 スキャトロメトリ測定で使用するオーバレイターゲットグレーティングの設計方法は、Ａ）サンプル層パラメータを選択し、Ｂ）第１ターゲット特性を有する第１ターゲットグレーティングを選択し、Ｃ）入射光の角度範囲にわたって第１ターゲット特性のオーバレイオフセット変化の標準偏差を平均して、数学モデル化ターゲットでの反射光のＡＳＤを計算し、Ｄ）第１増分によって第１ターゲットグレーティング特性をシフトさせ、Ｅ）ステップＣから繰り返して、Ｆ）ステップＣとステップＥのＡＳＤを比較し、大きい方を新たな開始グレーティング特性とし、Ｇ）最大の所望のＡＳＤが得られるまで、ステップＣ−Ｆを繰り返し、Ｈ）実際のターゲットを、上記ＡＳＤと対応するターゲットグレーティング特性を有するように設計する。 （もっと読む）