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Fターム[2F065GG24]の内容

光学的手段による測長装置 (194,290) | 光源 (11,799) | 波長 (2,573) | 白色;連続波長 (785)

Fターム[2F065GG24]に分類される特許

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【課題】真空雰囲気中で測定対象物を精度良く測定でき、光ファイバを着脱しても、測定精度に影響の無いエリプソメータを提供する。
【構成】投光部13と受光部14を筺体11の内部に配置し、発光装置12を筺体11の外部に配置し、光配線装置18によって、発光装置12と投光部13とを光接続する。投光部13は入射光を偏光して測定光を生成し、測定対象物7に照射し、反射光を受光部14によって受光して筺体11の外部に配置された分析装置15へ送光すると、分析装置15で膜厚が求められる。測定対象物7を真空雰囲気中で測定でき、光配線装置18と投光部13とを着脱しても、相対的に同じ位置で仮固定され、着脱が測定精度に影響を与えない。 (もっと読む)


【課題】改良されたレベルセンサアレンジメント及びその動作を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置内の基板上の少なくとも1つの実質的な反射層表面の位置を測定するための方法、並びに、関連付けられたレベルセンサ及びリソグラフィ装置が開示される。該方法は、広帯域光源を使用して少なくとも2つの干渉計測定を実行することを含む。各測定間で、広帯域ソースビームの成分波長及び/又は成分波長全体にわたる強度レベルが変化し、強度レベルのみが変化する場合、強度変化はビームの成分波長の少なくとも一部について異なる。あるいは、成分波長及び/又は成分波長全体にわたる強度レベルが異なる測定データを取得するための単一の測定及び後続の測定の処理を、位置を取得するためにも同様に適用することができる。 (もっと読む)


【課題】エッチング実行中にレジスト膜厚の影響を除去し、高い精度で孔深さや段差を算出する。
【解決手段】所定波長幅の光を試料50に照射して、孔52の底面や基板51上面等で反射する光の干渉を含む光を分光ユニット25により分光検出する。データ処理部30では分光スペクトルから光源21の発光スペクトルの影響等を除去した干渉スペクトルを求め、これをフーリエ変換して得られるピークの間隔から孔深さや膜厚等を算出する。チョッパ103は外部参照面104で反射した外部参照光を周期的に遮断・通過させるため、データ処理部30では外部参照光ありのデータとなしのデータとが得られる。例えば、レジスト層53が厚い間は、より高分解能である外部参照光なしのデータに基づいて孔深さ等を算出し、エッチングが進行してレジスト層53が薄くなると、外乱の影響を受けにくい外部参照光ありのデータに基づいて孔深さ等を算出する。 (もっと読む)


【課題】 表面形状測定において、測定対象面と参照面からの反射光により干渉縞を発生させ、各画素の位相を単色光ごとに求め、表面形状を測定において、波長の異なる複数の単色光を得る場合は、抽出手段を増設する必要が生じていた。
【解決手段】 照射手段を介して測定対象面と参照面に波長の異なる複数の単色光を照射し、測定対象面と参照面の両方から反射して同一光路を戻る反射光によって生じる干渉縞の強度値に基づいて、測定対象面の表面高さと表面形状を求める表面形状測定方法において、前記照射手段が、広帯域な波長特性を有する照射光から、音響光学フィルタを用いて任意の異なる波長の単色光を複数抽出し、同時に混在して照射する照射手段を用いる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、取得したスペクトルから基板上に形成した膜の複数の測定点に対する光学定数を唯一の値として求めることができる光学特性測定装置および光学特性測定方法を提供する。
【解決手段】本発明は、光源10と、検出器40と、データ処理部50とを備えている。データ処理部50は、モデル化部と、解析部と、フィッティング部とを備えている。複数の膜モデル式を連立させ、複数の膜モデル式に含まれる光学定数が同一であるとして所定の演算を行ない、算出した膜の膜厚および光学定数を膜モデル式に代入して得られる波形と、検出器40で取得した波長分布特性の波形とのフィッティングを行なうことにより、複数の膜モデル式に含まれる光学定数が同一で、解析部で算出した膜の膜厚および光学定数が正しい値であることを判定する。 (もっと読む)


【課題】プラットフォームの位置を識別するための方法および装置を提供する。
【解決手段】プラットフォームが動いている間、プラットフォームに関連するカメラシステムによって生成された一連の画像内の特徴が識別される。カメラシステムのパースペクティブの移動が、一連の画像内の特徴の位置の移動から識別される。プラットフォームの位置の変化が、パースペクティブの移動に基づいて識別される。 (もっと読む)


【課題】複数回印刷ヘッドを走査して爪部に印刷を施す場合に、n回目の走査終了後n+1回目の走査までの間に指が動いてしまった場合でも、走査ごとの画像のずれを防いで高品質の印刷を行うことのできるネイルプリント装置及び印刷制御方法を提供する。
【解決手段】爪部Tを複数の領域に分けて複数回の走査により1つのデザイン画像を印刷する場合に、各回の走査開始前(S3)に爪部Tの位置情報を取得する(S2)とともに、n+1回目の走査を開始する前に、n回目の走査開始前の爪部Tの位置情報とn+1回目の走査開始前の爪部Tの位置情報とを比較して(S8)爪部Tの位置変化を検出して(S9)、n+1回目の走査開始前に爪部Tの位置変化が検出されたときは、爪部Tの位置変化に応じて、n+1回目の走査を行う際の印刷開始位置を補正し(S10)、この補正後の印刷開始位置から、次の印刷を開始するように印刷制御する(S9)。 (もっと読む)


【課題】被計測物が様々な屈折率で、かつ様々な厚さの透明媒質の下に配置されていても、その被計測物の高さを容易に計測する。
【解決手段】高さ計測装置1は、照明光から分岐された第1照明光を被計測物6に導く対物レンズ24と、照明光から分岐された第2照明光を参照ミラー28に導く対物レンズ26と、第2照明光の光路長を調整する移動部36と、被計測物6及び参照ミラー28で反射される2つの照明光の干渉像を撮像する高速度カメラ12と、対物レンズ24と被計測物6とを光軸方向に相対移動するピエゾ駆動装置18と、を備える。 (もっと読む)


【課題】回折次数の重なりを防止しつつ基板の特性を精度良く求める技術を提供する。
【解決手段】角度分解分光法に対しては、4つのクアドラントを有する照明プロファイルを有する放射ビームが使用される。第1および第3クアドラントが照明される一方、第2および第4クアドラントは照明されない。したがって、結果として生じる瞳面は4つのクアドラントに分けられ、ゼロ次回折パターンのみが第1および第3クアドラントに現れて一次回折パターンのみが第2および第3クアドラントに現れる。 (もっと読む)


【課題】利用者による特別な動作が無くても利用者の位置を確認することが可能な位置確認システムを提供する。
【解決手段】位置確認システム1Aにおいて、発光装置20は、当該発光装置に固有の信号が含まれるように変調された光を発光し、受光装置30Aは、反射装置で反射した光を受光したときに、受光した光に含まれる信号を制御装置40へ出力し、制御装置40は、発光装置20に固有の信号と当該発光装置20の設置場所とが関連付けて記憶された記憶部41と、受光装置30Aから出力された信号を用いて記憶部41を参照することによって、信号に関連付けられた設置場所を記憶部41から読み出す位置確認部42と、を備える。 (もっと読む)


【課題】光干渉を利用して温度を適切に測定することができる温度計測システム、基板処理装置及び温度計測方法を提供する。
【解決手段】温度計測システム1は、光源10、分光器14、光伝達機構11,12、光路長算出部16及び温度算出部20を備える。光源10は、測定光を発生させる。光伝達機構11,12は、測定対象物13の表面13a及び裏面13bからの反射光を分光器14へ出射する。分光器14は、反射光の強度分布である干渉強度分布を測定する。光路長算出部16は、フーリエ変換し光路長を算出する。温度算出部20は、光路長と温度との関係に基づいて測定対象物13の温度を算出する。光源10は、分光器14の波長スパンΔwに基づいた条件を満たす半値半幅Δλの光源スペクトルを有する。分光器14は、波長スパンΔwと計測最大厚さdとに基づいた条件を満たすサンプリング数Nで強度分布を測定する。 (もっと読む)


【課題】湾曲面からの反射光を適切にカットし又は湾曲面からの反射光を適切に選択して透過させることを課題とする。
【解決手段】湾曲したフロントガラス面に対する相対位置が一定となるように設置され、そのフロントガラス面からの反射光(水平偏光成分S)をカットする鉛直偏光領域を備えた偏光フィルタ層を介して、撮像領域からの光を画像センサ206上の各撮像画素で受光して撮像する撮像装置において、上記鉛直偏光領域は、透過軸方向が異なる複数のフィルタ領域部分から構成されており、各フィルタ領域部分の透過軸方向は、当該フィルタ領域部分へ入射してくるフロントガラス面上からの反射光の最大偏光成分の偏光方向に基づいて設定される。 (もっと読む)


【課題】計測対象物の物理情報を高精度に得るために有利な技術を提供する。
【解決手段】計測装置33は、光源1からの光を計測対象物3に入射させる計測光と参照面4に入射させる参照光とに分割するビームスプリッタ2aと、前記計測対象物3で反射された前記計測光と前記参照面4で反射された前記参照光とを合成して合成光を生成するビームコンバイナ2bとを有し、前記合成光に基づいて前記計測対象物3の物理情報を得るように構成されている。前記計測装置33は、前記計測光と前記参照光との空間コヒーレンスを変更するコヒーレンス制御部10を備える。 (もっと読む)


【課題】検出用走査を行うことなく、ワンショット撮影により、高さ方向のダイナミックレンジの大きい、被検面の1ライン上の微細な凹凸形状情報を容易に取得し得る、形状測定装置および形状測定方法を提供する。
【解決手段】 空間的にインコヒーレントで広帯域スペクトルを有する光を射出する面状の光源10からの照明光を、対物レンズ13A、Bを介して参照面14および被検面20に照射し、得られた参照光と測定光を干渉させ、その干渉光をスリット16Aにより線状に整形し、分光器16により分光し、2次元撮像手段17により得られたスペクトル干渉情報に基づき被検面20の形状を解析する。光源10、被検面20、スリット16A、および光源10、参照面14、スリット16Aは各々互いに共役である。被検面20を介する系路の光路長と、参照面14を介する経路の光路長との間にオフセットが設けられる。 (もっと読む)


【課題】試料の表面形状の測定精度を大幅に向上させることのできる、走査型白色干渉計による試料の表面形状の測定方法を提供する。
【解決手段】対物レンズの下にビームスプリッター及びミラーを配し、試料表面を含めて、マイケルソン型などの干渉計を構成し、試料までの距離又はミラーまでの距離をピエゾアクチュエーターで走査し、それによりできる干渉波形をCCDカメラで撮影して動画ファイルデータとして記録し、データ収集間隔をナイキスト間隔(干渉波形の周期の1/2)よりも広く取って試料の表面形状を測定する、走査型白色干渉計による試料の表面形状の測定方法において、得られた収集波形についてヒルベルト変換を行い、包絡線と位相を得、こうして得られた位相が0になる走査位置と試料の表面高さとの関係を用いて位相が0になる走査位置から試料表面の高さを算出する。 (もっと読む)


【課題】試料の表面形状を測定する際に、干渉波形の包絡線と位相との両方に基き試料の表面形状を算出できるようにした走査型白色干渉計による試料の表面形状の測定方法を提供する。
【解決手段】撮影した動画ファイルデータに基づき、試料の表面上の位置に対応する各画素において、ヒルベルト変換を用いて干渉波形の包絡線と位相を算出し、包絡線がピークになる走査位置と、位相が0になる走査位置を算出し、両位置の差から、試料表面の反射光の位相変化による位置ずれの値を検出し、その値の大きさから、その画素の試料表面が他の画素の試料表面と同種であるか異種であるかを判定し、同種のもの同士で干渉波形の位相が0になる走査位置のずれの平均値を算出しておき、各画素で、位相が0になる位置から対応する試料の表面上の物質での位相が0になる走査位置のずれの平均値を引くことで、反射光の位相変化の影響が消されて試料の表面形状が測定される。 (もっと読む)


【課題】走査型白色干渉計を用いて試料の表面形状を測定する際に、少ないデータ数で精度よく試料の表面形状を測定できるようにするデータ処理方法を提供する。
【解決手段】走査型白色干渉計のデータ処理方法は、干渉計で得た動画ファイルデータを読み出し、それぞれの画素において時間軸方向のデータに基き、ヒルベルト変換を用いて、時間軸上での位置で、干渉計の光路差が0になる走査距離に対応した干渉波形の最大のピークの位置を求め、それを全画素で表わす。 (もっと読む)


【課題】 記録材からの透過光を検知することにより記録材の厚さを判別する方法では、記録材の白色度の違いにより記録材の厚みを精度良く判別できない可能性があった。
【解決手段】 カラーセンサにより記録材の白色度又は色度を検知し、記録材の白色度又は色度と透過光量に基づいて、記録材の厚さの判別を行うことにより、記録材の白色度又は色度に関わらず、記録材の判別精度を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】簡素な構成を採用しつつ検出光量ムラの発生を抑制可能とした走査型検出測定装置を提供する。
【解決手段】本発明の走査型検出測定装置は、レーザ光を射出する発光素子と、発光素子から供給されるレーザ光を走査しつつ標本に照射する走査光学系と、標本から生じる光を検出する検出光学系と、発光素子と走査光学系との間に設けられレーザ光の一部を発光素子に向けて反射させる反射光学素子と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】試料を詳細かつ適切に評価することができる形状測定装置、及び形状測定方法を提供する。
【解決手段】本発明の一態様にかかる形状測定装置は、観察窓51と、基板54とを有する試料保持ユニット11と、観察窓51又は基板54を介して、試料53を加圧するシリンダ56、57と、試料51の形状を測定するため試料51を照明するとともに、照明光の焦点位置を光軸方向に走査可能な共焦点光学系30と、共焦点光学系30を介して、試料保持ユニット11に保持された試料からの反射光を検出するラインセンサ15〜17と、焦点位置を光軸方向に走査した時での検出結果によって、形状を測定する処理部18と、を備え、観察窓51の表面51aに焦点位置を合わせて、観察窓51の表面形状を測定するものである。 (もっと読む)


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