【課題】光弾性を有する板状体の欠陥を良好に検出可能な欠陥検出装置を提供することができる。
【解決手段】欠陥検出装置は、光弾性を有する板状体Ｐに光を透過させることにより、該板状体Ｐの欠陥を検出する。欠陥検出装置は、板状体Ｐより前に光が透過する直線偏光子２と、板状体Ｐより後に光が透過する１／４波長板３ａと、１／４波長板３ａより後に光が入射し、透過軸が１／４波長板３ａの遅相軸に対して４５度傾いている直線偏光子３ｂと、を有する。 （もっと読む）

【課題】 膜厚測定方法及び膜厚測定装置に関し、簡単な装置構成により、高速且つ高精度で基板上に形成された大面積の薄膜の膜厚を測定する。
【解決手段】 測定対象となる試料一方向に移動させながら、可視光乃至近赤外光領域の線状の連続波長光を前記試料に照射し、試料からの反射光を１ライン毎に撮像手段により撮像し、撮像した１ライン毎の試料の位置と波長とを座標とした各分光波形データについて、各所定の位置毎に第１主成分乃至第Ｋ主成分を求めて第１主成分乃至第Ｋ主成分のセットからなる分光波形特徴データを作成し、各所定の位置毎に分光波形特徴データを参照用テーブルと比較して最も一致度の高い膜厚値を求め、各所定の位置毎に求めた各膜厚値から二次元膜厚分布を作成する。 （もっと読む）

【課題】被加工物の研削時におけるノイズ信号による誤判定を防止し、被加工物の厚みまたは上面高さ位置を正確に計測することができる計測装置を提供する。
【解決手段】被加工物保持手段に保持された被加工物の上面で反射した反射光と光路長が一定の基準反射光に基づいて被加工物の厚み方向における上面までの２点間の距離を計測する計測装置であって、被加工物の上面で反射した反射光と光路長が一定の基準反射光を受光したイメージセンサーからの検出信号に基づいて分光干渉波形を求め、この分光干渉波形と理論上の波形関数に基づいて波形解析を実行し、被加工物の上面で反射した反射光の光路長と基準反射光の光路長との光路長差に対応して出力される信号強度における現在出力された値と前に出力された値との絶対値の差を求め、この絶対値の差を各光路長差毎の信号強度における現在出力された値に加算し、加算された値が最も高い光路長差を被加工物の厚み方向における上面までの２点間の距離として決定する。 （もっと読む）

【課題】回折構造体の測定パラメータモデルを利用する分光散乱システムおよび方法を提供する。
【解決手段】モデルの固有値を事前計算し、記憶し、ある共通の特性をもつ他の構造体に対して後に再利用する。１つ以上のパラメータの値を求めるために用いられる散乱データは、下敷フィルム特性に対して感度が低くなる波長におけるデータだけに制限することが可能である。代表的な構造体をスラブ２００’（ｉ）のスタックにスライスし、各スラブの近似を行うため四角形ブロック２１０，２１２，２１４，２１６，２１８のアレイを作成することによって三次元グレーティングに対するモデルを構築することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 眼鏡レンズの段付き加工形状を含む眼鏡レンズ加工形状を取得する。
【解決手段】 眼鏡フレームのリムに取り付けられている備え付けレンズに代えて、備え付けレンズよりコバが厚い屈折力を持つ度付きレンズをリムに取り付けるための眼鏡レンズ加工形状取得方法は、備え付けレンズの輪郭を取得するレンズ輪郭取得ステップと、備え付けレンズがリムに取り付けられた状態で、前記備え付けレンズ面上での、リムの内側境界を取得するリム境界取得ステップと、を有し、備え付けレンズの輪郭に基づいて度付きレンズの外形加工形状を取得し、リムの内側境界に基づいて度付きレンズの段付き加工形状を取得することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 透光性板状物体の厚さを全域にわたって短時間で精度よく測定する。
【解決手段】 測定用レーザ光をガラス板Ｇの表面及び裏面で反射させて、反射光をラインセンサ５５に導いてガラス板Ｇの厚さを測定する。測定用レーザ光は、Ｙ軸線回りに回転可能なガルバノミラー４５及びＸ軸線周りに回転可能なガルバノミラー５１を介してガラス板Ｇに照射される。サーボ用レーザ光も、ガルバノミラー４５，５１を介してガラス板Ｇに照射され、反射光はガルバノミラー４５，５１を介して４分割フォトディテクタ６６に導かれる。４分割フォトディテクタ６６により、ガラス板Ｇの表面のＸ軸及びＹ軸線回りの傾きが検出され、この傾きに応じてガルバノミラー４５，５１を駆動するサーボ制御により、測定用レーザ光をガラス板Ｇに対して常に一定方向から入射させる。 （もっと読む）

【課題】テクスチャ構造を有する対象物上に形成された薄膜の形状を容易かつ高精度に取得する。
【解決手段】膜形状取得装置１では、上面に複数のテクスチャ凸部を有する基板９上に形成されたシリコン膜の光学モデルにおいて、複数のテクスチャ凸部に一致する薄膜凹部およびその上方に位置する薄膜凸部が設定される。そして、薄膜凸部、薄膜凹部、および、薄膜凸部と薄膜凹部との間の中間部の形状を表すパラメータ群に含まれる各パラメータを有効膜厚にて表現し、有効膜厚を変更することにより各パラメータの値を変更して理論スペクトルの測定スペクトルに対するフィッティングが行われる。これにより、シリコン膜の形状を容易かつ高精度に取得することができる。 （もっと読む）

【課題】パターンの形状測定において、対象構造が計測可能か、又はどの程度の誤差が生じるかを分光反射率測定により事前に知る。
【解決手段】繰り返しパターンを分光検出して分光反射率を求めるとともに検出時に生じる検出波長ごとのノイズの量を求め、分光反射率の情報及び検出時に生じる検出波長ごとのノイズの量の情報と、繰り返しパターンの屈折率と消衰係数とを含む光学的材質の情報及び繰り返しパターンの形状の情報とを用いて繰り返しパターンの形状を算出して所定の精度で繰り返しパターンを計測することが可能かを評価し、評価した結果所定の精度で計測可能と判定した場合に繰り返しパターンと同一のパターンが形成された基板を順次分光検出してパターンの形状を検査するようにした。 （もっと読む）

【課題】対象表面までの距離測定用で改善された範囲対分解能比を持った小型のクロマティック共焦点ポイントセンサ光学ペンを提供すること。
【解決手段】光学ペン２２０は測定範囲対分解能比を拡張する多段の光学的構造を含み、該光学的構造は少なくとも第一および最後の軸方向分散合焦要素２５０Ａ，２５０Ｂを含む。軸方向合焦要素は光学的に結合して光学ペン全体での軸方向色分散量の増加に貢献する。第一の軸方向分散合焦要素は光源放射光を受けてこれを多段の光学的構造内の第一の焦点領域に合焦する。最後の軸方向分散合焦要素は多段の光学的構造内の最後の焦点領域から放射光を受けて測定ビームＭＢを出力する。中間の焦点領域を形成する中間合焦要素を設けてもよい。このような光学的構造によって今までにない拡張された測定範囲Ｒ２、小さいレンズ径、および高い開口数を結合した光学ペンを提供できる。 （もっと読む）

【課題】マイクロレンズとピンホールとの間にビームスプリッタを設けずともマイクロレンズを介すことなく反射光を光検出器に導くことができる三次元画像取得装置を提供する。
【解決手段】共焦点光学系を用いた三次元画像取得装置１０であって、マイクロレンズ板１３は、照明光を集光する複数のマイクロレンズが二次元に配設される。照明側開口板１４は、マイクロレンズの集光位置に設けられた照明側開口部を有し、照明側開口部によりマイクロレンズが集光した照明光を被計測体１７に向けて通過させる。偏光ビームスプリッタ１５は、照明側開口板１４を通過した照明光を透過するとともに、被計測体１７からの反射光を照明光の光路とは異なる光路に反射する。検出側開口板２１は、照明側開口部と光学的に共役な位置に設けられた検出側開口部を有し、検出側開口部により偏光ビームスプリッタ１５で反射された反射光を光検出器に向けて通過させる。 （もっと読む）

【課題】オーバーレイ測定、非対称性測定、およびインダイオーバーレイターゲットの再構築を可能にする。
【解決手段】四分くさび光デバイス（ＱＷ）は、基板から散乱した放射の回折次数を別々に再誘導し、第１方向および第２方向の各々に沿って照明から回折次数を分離する。例えば、０次（０、０’）および１次（−１、＋１’）を、各入射方向について分離する。マルチモードファイバ（ＭＦ）での捕捉の後、スペクトロメータ（Ｓ１−Ｓ４）を使用して波長（Ｉ_０’（λ）、Ｉ_０（λ）、Ｉ_＋１’（λ）、およびＩ_−１（λ））の関数としての空間的に再誘導された回折次数の強度を測定する。そして、これをオーバーレイエラーの計算、または単一格子の非対称パラメータの再構築に用いる。 （もっと読む）

【課題】測定対象物に投影される縞の像の歪みを防止することができ、また、影の問題や、ハレーションの問題等を解消することができる３次元測定装置を提供すること。
【解決手段】３次元測定装置１００は、投影部２０と、撮像部３０とを含む。投影部２０は、基板１０に向けて垂線を下ろしたときの基板の表面（投影面）との交点３の周囲の領域である投影可能領域２に縞を投影可能とされる。撮像部３０は、投影可能領域２内に複数の撮像領域１を有する。投影可能領域２は、広範な領域とされているので、投影可能領域２内には複数の撮像領域１を設けることができる。撮像可能領域２内における撮像領域１の位置等は、影あるいはハレーションの影響の排除等を目的として設定される。 （もっと読む）

【課題】広帯域干渉法によって透明な膜の厚さを測定する方法を提供する。
【解決手段】広帯域干渉法によって膜のコレログラムを作成する工程と、コレログラムにフーリエ変換を適用して、フーリエ位相関数を得る工程と、フーリエ位相関数の線形成分を取り除く工程と、残りの非線形成分に第２積分変換を適用して非線形成分の積分振幅関数を得る工程と、積分振幅関数のピーク位置を特定する工程と、波長に依存する膜の屈折率を考慮して前記膜の厚さを前記ピーク位置の横座標の２倍値として決定する工程と、を含む。最後の２つの工程の代わりに、前記積分振幅関数のピーク位置を特定する工程と、前記ピーク位置の横座標の２倍値として膜の厚みを決定する工程と、を含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】基板表面に薄膜を形成する基板処理で、処理の進行具合をリアルタイムで把握して処理の終了時点を精度よく検出できる方法を提供すること。
【解決手段】基板１上に絶縁膜２を形成する基板処理装置１０であって、絶縁膜２を波長可変単色光ｓで照射し、絶縁膜２および基板１からの各反射光を干渉させる干渉光発生手段１２と、所望膜厚での干渉光強度Ｉが極小になるように単色光ｓの基準波長λ_０を設定する基準波長設定部２８と、基準波長を挟む２波長（λ_１、λ_２）間で単色光ｓを波長変調する変調部２６と、これに応じた干渉光強度Ｉを検出する干渉光検出器１８と、絶縁膜２が所望膜厚に達する直前から所望膜厚に達するまでの干渉光強度Ｉの変化に基づいて、最大波長（λ_２）時と最小波長（λ_１）時の干渉光強度の差分ΔＩが零または所定値になる時点を基板処理の終了時点として検出する終了時点検出手段２０とを備える。 （もっと読む）

【課題】部品およびはんだに対する３次元計測結果に基づく検査の結果や検査対象部位の状態を、ユーザが容易に確認できるような表示を行い、検査結果の確認作業を支援する。
【解決手段】基板上の部品およびはんだに、それぞれ異なる手法の３次元計測を実施し、それぞれの計測により得た３次元情報をはんだ付け部毎および種別毎に読出可能に蓄積する。そして、これらの蓄積情報に基づき、はんだ付け部位毎に部品とはんだとの関係を表す画像を生成し、この画像を含む画面を検査結果の確認用の画面として表示する。好ましい確認用画面では、はんだの３次元情報が表す立体形状を部品のはんだへの接合面の近傍位置で切断した場合に得られるはんだの断面を正面として、このはんだの断面と部品との関係を示す画像（ＹＺ図またはＸＺ図）が表示される。 （もっと読む）

【課題】新規な接触面積測定装置を提供することを目的とする。
【解決手段】接触面積測定装置は、試料７に接する光透過性基板６と、前記試料７とは反対側から、前記光透過性基板６に光を照射する照射手段と、前記試料７からの反射光と前記光透過性基板６からの反射光とから生じる干渉画像を取得する干渉画像取得手段１２と、前記干渉画像の輝度値情報を補正処理し、得られた補正輝度値情報から輝度値ヒストグラムを作成する輝度値ヒストグラム作成手段１４と、前記輝度値ヒストグラムから接触面積を算出する接触面積演算手段１５を有し、前記補正処理は、割り算演算を有する式により、補正画像輝度を算出する。ここで、補正画像輝度は、式（補正画像輝度＝（対象画像輝度／参照画像輝度）×定数）により算出することが好ましい。また、参照画像輝度は、荷重ゼロ時の元画像に対し、ガウスぼかしフイルター処理して求めることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】光路長差が小さくなっても被加工物の厚みまたは上面高さ位置を正確に計測することができる計測装置を提供する。
【解決手段】被加工物保持手段に保持された被加工物の基準面から上面までの距離を計測する計測装置であって、被加工物の上面で反射した反射光と基準面で反射した基準反射光を受光したイメージセンサーからの検出信号に基づいて分光干渉波形を求め、この分光干渉波形における各波長毎の隣接する１またはｎ個隣の光強度との差を演算して分光干渉差分波形を求め、分光干渉差分波形と理論上の波形関数に基づいて波形解析を実行し、被加工物の上面で反射した反射光の光路長と基準面で反射した基準反射光の光路長との光路長差に基づいて被加工物の基準面から上面までの距離を求める。 （もっと読む）

【課題】光学マルチ波長インターフェロメトリーを使用した薄膜素子測定方法の提供。
【解決手段】光学マルチ波長インターフェロメトリー使用の薄膜素子測定方法が開示される。本発明は異なる波長での薄膜の反射係数を使用して薄膜の厚さと光学定数を測定する。試験表面と参考表面の間の反射位相差由来の位相差は異なる波長での測定を行うことで参考光束と試験光束の間の空間経路差に由来する位相差と区別され、なぜならそれらは測定波長変化に伴い異なった変化を示すためである。反射位相がそれから得られる。薄膜の測定反射率と結合され、薄膜の反射係数が得られる。各点の反射係数が収集され、該薄膜の厚さと２次元の光学定数分布が計算される。表面輪郭が、参考光束と私見光束の間の空間経路差を通して知られる。これらは動的干渉計で測定されて振動影響が回避される。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、単レンズ又は多レンズ光学系の光学面の間隔が確実かつ高精度に測定され得る装置及び方法を指定することである。
【解決手段】多レンズ光学系（３８）の光学面（Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３）の間隔を測定する方法の場合に、光学系のセンタリング状態は、光学系（３８）の少なくとも２つの光学面（Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３）を考慮することにより記録される。光学系（３８）は、センタリング状態を考慮して、光学系（３８）の光軸（４０）が参照軸（３４）とできる限り揃うように調節される。次のステップでは、光学面（Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３）の間隔が、短コヒーレンス干渉計（２４）を用いて決定される。この目的のために光学系（３８）に向けられる測定光線（５０）は、参照軸（３４）に沿っている。試験片（３８）の事前の調節により、光学系の少なくとも２つの光学面を考慮して、高精度の測定が得られる。 （もっと読む）

【課題】 複数波長による表面形状の測定方法およびこれを用いた装置によって測定する場合に発生するクロストーク現象のクロストーク補正係数を算出する。
【解決手段】 測定対象面の平面領域内から輝度の異なる６点以上の干渉輝度信号を取得し、前記輝度信号に干渉縞モデルとクロストークモデルとの組み合わせを適合（フィッティング）することにより、クロストーク補正係数を一括して算出するクロストーク補正係数算出方法、また、該方法を実行できる装置を提供する。 （もっと読む）