【課題】位置計測系の周期誤差が発生しても、精度良く周期パターンの位置を検出する。
【解決手段】可動ステージの位置を位置計測系を用いて計測し、その計測情報を用いて可動ステージを駆動するとともに、可動ステージ外の周期パターンから成る計測用マークを可動ステージに一部が配置された検出器を用いて検出する。ここで、位置計測系の計測周期（図１０（Ｂ）及び１０（Ｃ）に示される例では０．２５μｍ）の自然数倍と異なるピッチ（図１０（Ｃ）の例では２．０３１２５μｍ（なお、図１０（Ｂ）の例では２μｍ））の周期パターンを計測用マークとして用いることにより、計測周期に等しい位置計測系の周期誤差が発生しても、検出精度を損なうことなく、計測用マークの位置情報を計測することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】被検物の形状測定において、測定プローブと被検物との位置合わせ作業を簡単に
行うことが可能な構成の形状測定装置を提供する。
【解決手段】被検物に対して光プローブ２０を相対移動させて、光プローブ２０により得
られた情報から被検物の三次元形状を非接触で測定するように構成された形状測定装置に
おいて、光プローブ２０を被検物に対して所定の位置となるように移動させる門型構造体
１０と、被検物を少なくとも２つの回転軸方向に回転させる支持装置３０とを有して構成
される。 （もっと読む）

【課題】複数のライン光を照射する低コストで小型なライン照明装置を提供することにある。
【解決手段】本発明のライン照明装置９Ａは、同一基板９４上に色別にそれぞれ複数個一列に配置された光源９１，９２と、複数個の前記光源から照射される色別の光をそれぞれライン状に結像する単一の集光光学系９３もしくは光軸方向に配列された複合の集光光学系と、を備えている。これにより、多種類の光源の光を、１つの集光光学系のみにより集光することができるので、多種類の集光光学系を設計・製作する必要がなく部品点数を減少させて低コスト化を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】 参照光と被検光との相対位置及び光路長差を独立して調整することにより、被検物の面位置を高精度に計測する。
【解決手段】 白色光源からの光を用いて被検物の表面の位置を計測する計測装置は、白色光源からの光を参照光と被検光とに分割し、被検光と参照光とを合成する光学系と、被検光と参照光との干渉光を検出する検出器と、参照光又は被検光の光路内に配置された光学部材であって、参照光と被検光との光路長差及び相対位置とを変更するための光学部材と、光学部材の位置を可変とする位置可変機構とを有する。位置可変機構を用いて光学部材の位置を変更することにより参照光と被検光との光路長差及び相対位置を独立して調整する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、測定対象物の表面形状をより高い精度で測定することができる形状測定装置および形状測定方法を提供する。
【解決手段】本発明の形状測定装置Ｓは、光へテロダイン干渉を行う一面側測定部２および他面側測定部３によって測定対象物ＷＡの厚さを測定するものであって、一面側測定部２が測定対象物に複数の測定光を照射することで、１回の測定で測定対象物ＷＡにおける厚さと表面形状とを測定する。 （もっと読む）

【課題】
Ｘ線など電磁波の回折法によるひずみ測定において、測定中に被測定物の移動や変形により電磁波照射位置が変化した場合に、照射位置のずれを補正し、回折によるひずみ測定を精度良くする装置を提供する。
【解決手段】
試験片の表面の高さを非接触式の距離センサで計測し、試験片位置の変化に応じて同じ位置になるようにステージを移動することで、測定中に試験片に応力を印加するなどしても電磁波の照射位置が同じになるようにする。電磁波照射中に試験片の表面高さを測定する機構と、試験片高さ位置を最初と同じ位置に移動する機構、回折電磁波の回折角を測定する機構を備え、電磁波照射位置を試験片表面の同一位置となるように補正できることから、表面位置変化による測定誤差を回避し、正確な回折角測定が可能となる。 （もっと読む）

【課題】微小な欠陥を検出するために、照明光量を大きくすると、ウェハにダメージを負わせ、感度向上を妨げている。一方、検出範囲を空間的に小さくすると、欠陥以外による散乱光を排除する事ができ、高感度に検出する事ができ、さらに、検出範囲を小さくすることによる検査時間の増大するという課題がある。
【解決手段】本発明の特徴は、試料を移動する搬送系と、試料へ線状照明光を照射する照射光学系と、前記試料の高さを測定する高さ検出系と、複数の画素を有する検出器を備える検出光学系と、前記検出光学系の検出結果を用いて前記試料の異物又は欠陥を検査する処理部と、前記試料の高さを制御する制御部と、を有し前記制御部は、前記高さ検出系の測定結果を用いて、前記線状照明光の変動量が前記画素の大きさよりも小さくなるように、前記試料の高さを制御することにある。 （もっと読む）

【課題】レーザ干渉計システムの計測精度を向上させる。
【解決手段】基板ステージ装置には、基板Ｐが載置された微動ステージ２１の位置情報を計測するためのＸ干渉計６０Ｘから照射されるレーザビームＬ１、Ｌ２の光路の上方にエアガイド装置７０が設けられている。エアガイド装置７０は、Ｘ干渉計６０Ｘから照射されるレーザビームＬ１，Ｌ２の上方に沿って配置されたガイド部材７１の下面に気体を噴出し、その気体は、コアンダ効果によりガイド部材７１の下面に付着した状態で、高速でレーザビームに平行に流れる。そして、高速で流れる気体に光路近傍の気体がベルヌーイ効果により引き寄せられることにより、その光路近傍の空気ゆらぎが抑制される。 （もっと読む）

【課題】 三次元的に任意の位置姿勢をとりうる物体の位置姿勢を高精度かつ高速に推定するための技術を提供する。
【解決手段】 物体の位置姿勢を推定する推定装置であって、位置姿勢を推定する対象の対象物体を撮像する撮像手段であって、当該撮像手段から該対象物体までの距離情報を表す距離画像を生成する撮像手段と、前記距離画像を解析して前記対象物体の概略の位置姿勢を推定する概略推定手段と、予め定められた位置姿勢の範囲で物体の詳細な位置姿勢を推定する複数の識別手段と、前記概略推定手段が推定した前記概略の位置姿勢に基づいて、前記複数の識別手段の優先順位を決定する決定手段と、前記決定手段が決定した優先順位の順に、前記複数の識別手段を使用して前記対象物体の詳細な位置姿勢を推定する詳細推定手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、サンプルの厚み情報を短時間で精度よく取得する。
【解決手段】本発明は、取得した位相差像の基準像に対する相関状態を算出し、該相関状態に応じて組織切片ＴＳの厚み情報を取得するようにしたことにより、１つの位相差像から組織切片ＴＳの厚み情報が取得でき、またサンプルの厚み方向の分布を反映した厚み情報を取得することができ、かくして厚み情報を短時間で精度よく取得することができる。 （もっと読む）

【課題】投受光型光電スイッチ方式において、冷間搬送時の丸断面長尺材を、非接触で、安価に、安定して検出する方法を提供する。
【解決手段】鼓形搬送ローラ2上の丸断面長尺材（例えば鋼管）1の片側に広角投光器3を１台設置し、鼓形搬送ローラ2を挟んで丸断面長尺材１の反対側にスポット光受光器4を複数台設置する。スポット光受光器4は広角投光器3の光路内に上下方向に配列し、例えば、搬送される最小外径の丸断面長尺材１がそのローリング移動軌跡内のどの位置にあっても、その位置の丸断面長尺材１により広角投光器3からの光が遮蔽される空間領域内に少なくとも１台は存在させる。 （もっと読む）

【課題】 物体の変位量を高精度に測定可能な変位測定装置を提供すること。
【解決手段】 本発明の一側面としての変位測定装置は、格子パターン６が形成されたスケール７と、スケール７に光を照射する光源と、スケール７の格子パターン６で回折された光を受光する受光素子と、を備える。格子パターン６の形状は、その格子パターン６の格子方向Ｙに一定の周期で変化している。受光素子は、格子パターン６上の、格子方向Ｙにその周期の自然数倍の長さを有する領域１００で回折された光を受光する。 （もっと読む）

【課題】 エンコーダシステムを用いた位置計測装置において、計測誤差による影響を低減させることを目的とする。
【解決手段】 対象物を搭載して移動可能な移動体と、前記移動体の位置を計測可能なエンコーダ型の第１の計測手段と、前記第１の計測手段による計測と同時に、前記移動体の位置を計測可能、あるいは前記対象物または前記移動体に形成されたマークの位置を検出可能な第２の計測手段と、前記第１および第２の計測手段の計測結果にもとづいて、前記第１の計測手段の計測誤差を算出し、該計測誤差にもとづいて前記第１の計測手段を補正する補正手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】被検物の三次元形状を測定する際に必要なメモリの容量を効率的に削減する。
【解決手段】形状測定装置において、ステップＳ５において、スポット光の照射位置が変化したと判定され、ステップＳ６において、過去にデータセットを記録した照射位置でないと判定された場合、測定データ、中間データおよび測定用画像データを含むデータセットを記録する。また、スポット光の照射位置が変化したか否かに関わらず、ステップＳ７において、現在のスポット光の照射位置でまだＮ回データセットを記録していないと判定された場合、データセットを記録し、すでにＮ回データセットを記録していると判定された場合、データセットを記録しない。本発明は、例えば、三次元形状測定装置に適用できる。 （もっと読む）

【課題】少なくとも一つの測定方向で互いに可動自在で配置されている二つの対象物の、位置を検出するための位置測定装置を提供する。
【解決手段】位置測定装置には光源および、光源から送られた光線を二つ以上の分光光束に分割する分光手段を含んでいる。分光光束は、少なくとも二つの分光光路を通過する。分光光路からの干渉分光光束が、多数の光電式検知要素に当たるので、変位に従う位置信号を検知要素を介して検出することができる。光源は、ファイバ格子逆カップリング手段付き半導体レーザとして構成されている。 （もっと読む）

【課題】 高精度に物体の変位量を測定可能な変位測定装置を提供することを目的とすること。また、特にそれを具備した露光装置、及び精密加工機器を提供すること。
【解決手段】 変位測定装置２００は、格子パターン４が形成されたスケール５と、スケール５に光を照射する光源１と、光源１からの複数の回折光のそれぞれを円偏光に変換する波長板６と、波長板６を透過した複数の回折光を重ね合わせて干渉させる光学素子７と、干渉させた光を受光する受光素子１０とを備える。そして、波長板６に入射する複数の回折光が互いに偏光方向の等しい直線偏光になるように、光源１からの光を直線偏光に変換する直線偏光生成手段５０を備える。 （もっと読む）

【課題】被覆が剥離された被覆電線端部の良否をより一層的確に検査することのできる被覆電線検査装置を提供する。
【解決手段】被覆が剥離された被覆電線Ｒの端部の状態を検査する被覆電線検査装置Ｂであって、前記被覆電線Ｒを搬送する搬送ユニットと、被覆が剥離された前記被覆電線Ｒの芯線Ｓを撮像する撮像手段３ａ、３ｂと、該撮像手段３ａ、３ｂにより撮像された画像に基づいて前記剥離の良否を判定する判定手段６と、該判定手段６による判定が不良であった場合に、前記剥離の良否を目視で判定すべく、前記被覆電線Ｒを前記搬送ユニットにより前記撮像手段３ａ、３ｂ側に搬送させて、該撮像手段３ａ、３ｂにより再度撮像される前記芯線Ｓの画像を表示する表示手段７とを備えている。 （もっと読む）

【課題】高温ガラス容器の品質をモニタリングし、向上させ、制御することを可能にするために、高温ガラス容器がそれらを製造するＩ．Ｓ．機から流れるときに、ホットエンドにおいて高温ガラス容器をモニタリングするシステムおよび方法を提供すること。
【解決手段】そのシステムは、高温ガラス容器からの放射をモニタリングし、各高温ガラス容器の画像を抽出し、高温ガラス容器の画像を分析し、その高温ガラス容器の画像を容器の品質を示す情報と一緒に操作者が視認できる表示画面に提示して、ガラス成形プロセスの偏差をすぐに識別可能にし、ガラス容器の品質を連続して改善する。そのシステムおよび方法は、以前に知られた、高温ガラス容器をモニタリングする試みを妨げる条件およびパラメータと関係がなく、ガラス容器の生産の品質を高くし、かつ均質性を実質的に向上させることを可能にする。 （もっと読む）

【課題】 エンドミルやツイストドリル等の複雑な形状を有する旋削工具の測定において、被測定工具の軸線と被測定工具が連結され駆動手段により回動されるチャック部軸線とが同軸に連結されなくても簡単、迅速に、かつ高精度に測定可能な工具検査方法とその装置を提供する。
【解決手段】 被測定工具支持具と被測定工具押付具とで被測定工具のシャンク部を該シャンク部の軸線が振れることなく回動可能に挟持させる工程と、被測定工具と被測定工具を回動させる駆動手段とをたわみ軸継手を介して着脱自在に連結する工程と、前記駆動手段を駆動させて前記被測定工具支持具と被測定工具押付具とで挟持された被測定工具を回転させる工程と、前記回転する工具の外径等所要な部位を非接触で測定する工程とを備えた。 （もっと読む）

【課題】被検物に対する被検面の形状測定データの座標を高精度に求めること。
【解決手段】マーク形成工程（Ｓ１）と、形状測定工程（Ｓ２）と、マーク検出工程（Ｓ３）と、座標算出工程（Ｓ４）とからなる干渉計測方法であり、Ｓ１のマーク形成工程では、被検物の被検面に基準マークを形成する。マーク検出工程では、形状測定工程で得られた形状測定データからエリアセンサの座標系を基準とする基準マークの位置を検出する。座標算出工程では、マーク形成工程にて形成された被検物の座標系を基準とする基準マークの位置情報と、マーク検出工程にて検出されたエリアセンサの座標系を基準とする基準マークの位置情報との対応関係を求める。この対応関係に基づき、形状測定工程により得られた形状測定データを被検物の座標系に変換する演算を行う。 （もっと読む）