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Fターム[2F065QQ26]の内容

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Fターム[2F065QQ26]に分類される特許

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【課題】同一パターンとなるように形成された2つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置において、膜厚の違いなどから生じるパターンの明るさむらの影響を低減して、高感度なパターン検査を実現する。また、多種多様な欠陥を顕在化でき,広範囲な工程への適用が可能なパターン検査装置を実現する。
【解決手段】同一パターンとなるように形成された2つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置を、複数の検出系とそれに対応する複数の画像比較処理方式を備えて構成し、又、異なる複数の処理単位で比較画像間の画像信号の階調を変換する手段を備えて構成し、画像間の同一パターンで明るさの違いが生じている場合であっても、正しく欠陥を検出できるようにした。 (もっと読む)


【課題】少ない投影パターン数で、形状変化が急激な計測対象や不連続な計測対象の高精度な形状計測を可能とする。
【解決手段】三次元形状計測装置は、明るさ変化を有するパターンを計測空間に投影するパターン投影手段と、パターンが投影された計測空間を撮影する撮像手段とを備え、計測空間に存在する計測対象の三次元形状を計測する三次元形状計測装置であって、撮影手段により得られた撮影画像のパターンの明るさ変化からパターンの局所的な配置情報を算出する局所配置情報算出手段と、撮影画像におけるパターンのボケ量を算出するボケ量算出手段と、局所配置情報とボケ量とに基づき、計測対象の三次元形状を算出する三次元形状算出手段とをさらに備える。 (もっと読む)


【課題】 塗装表面欠陥検査方法及び塗装表面欠陥検査装置に関し、表面塗装状態の検査を1回の画像撮像により簡便に且つ高効率に行う。
【解決手段】 縞状明パターンと縞状暗パターンとが交互に配列された明暗パターンの照射光を、1回の照射時間内に前記明暗パターンの切り替えと照射輝度の変調を行って検査対象物の塗装表面に照射する工程と、前記塗装表面からの反射光を撮像装置により画像として取得する工程と、前記取得した画像における輝度情報から前記塗装表面の内部の異物や混入物の影響と前記塗装表面の凹凸欠陥とを区別する画像処理工程とを設ける。 (もっと読む)


【課題】出射光学系の部品の取り付け角度がずれたとき、出射光学系から出射されるレーザ光の光軸方向のずれを相殺するように出射光学系に入射するレーザ光の光軸の方向を調整することができる3次元形状測定装置を提供する。
【解決手段】レーザ光を出射するレーザ光源10とレーザ光を走査する第1ミラー16との間に、直交する2つの回転軸回りに回転可能に支持されたミラー14aを設ける。測定対象物OBからの反射光を受光して受光位置に応じた信号を出力する第1受光センサ24と、第1受光センサ24にて反射した反射光を受光して受光位置に応じた信号を出力する第2受光センサ26を設ける。3次元カメラCAと測定対象物OBが所定の位置関係になるようにセットし、反射光が第2受光センサ26の所定の範囲内にて受光されるように、ミラー14aを回転させる。 (もっと読む)


【課題】測定対象物上に薄膜が形成されている場合でも、測定対象物の温度を従来に比べて正確に測定できる温度測定方法を提供する。
【解決手段】光源からの光を、基板上に薄膜が形成された測定対象物の測定ポイントまで伝送する工程と、基板の表面での反射光による第1の干渉波と、基板と薄膜との界面及び薄膜の裏面での反射光による第2の干渉波を測定する工程と、第1の干渉波から第2の干渉波までの光路長を算出する工程と、第2の干渉波の強度に基づいて、薄膜の膜厚を算出する工程と、算出した薄膜の膜厚に基づいて、基板の光路長と算出した光路長との光路差を算出する工程と、算出した光路差に基づいて算出した第1の干渉波から第2の干渉波までの光路長を補正する工程と、補正された光路長から測定ポイントにおける測定対象物の温度を算出する工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】数秒/枚程度で生産されるパターンドメディアを全面を全数に亘って検査することを可能にするパターンドメディアの形状欠陥検査方法及びその装置を提供する。
【解決手段】基板に形成された寸法が100nm以下の繰り返しパターンを検査する方法において、基板に複数の波長成分を含む光を照射し、この光を照射した基板からの反射光を分光して検出し、この分光して検出して得た信号を処理して分光反射率を求め、この求めた分光反射率から評価値を算出し、予め求めておいた評価値とパターン断面形状との関係に基づいて分光反射率から算出した評価値からパターンの形状欠陥を判定するようにした。 (もっと読む)


【課題】特定のランドマークを設置しないでも、精度良く撮像装置の姿勢パラメータを取得可能な姿勢キャリブレーションを実現する。
【解決手段】撮像部により撮像された画像に含まれる物体を検出し、検出された少なくとも2つの物体について、それぞれ撮像された画像における正立状態からの回転角度を算出し、算出された前記少なくとも2つの物体の回転角度から撮像装置の設置角度に関する姿勢パラメータを算出する。 (もっと読む)


【課題】反射画像の輝度を適切な輝度に調整することができ、被計測物の三次元形状を正確に計測することが可能な三次元形状計測装置を提供すること。
【解決手段】三次元形状計測装置100は、輝度が正弦波状に変化する縞状の光パターンを異なる位相で複数回、被計測物に投影する投影手段10と、光パターンが投影された被計測物の反射画像を撮像する撮像手段20と、被計測物の反射画像を基に、被計測物の三次元座標を計測する計測手段31と、を有し、光パターンを被計測物に投影する前に、投影手段10より所定の光を被計測物に投影し、所定の光が投影された被計測物の反射画像における各画素の輝度階調値と、所定の光の輝度階調値と、を基に、被計測物の光の最大反射率を算出する反射率算出手段32と、最大反射率に応じて、撮像手段20が受光する受光量を調整する調整手段33と、を備える。 (もっと読む)


【課題】比較的大きなサイズの欠陥を高感度で検出できると共に、高さ又は深さの変化量が1nm又はそれ以下の微細な欠陥も検出できる検査装置を実現する。
【解決手段】照明光源1からの照明ビームを被検査基板21に向けて投射する対物レンズ20と、入射した照明ビームを、互いに干渉性を有する第1及び第2のサブビームに変換すると共に、基板の表面で反射したサブビーム同士を合成し、基板表面の高さ又は深さと関連する位相差情報を含む干渉ビームを出射させる微分干渉光学系16と、出射した干渉ビームを受光する光検出手段28と有する。微分干渉光学系のリターデーション量は、mを零又は正の整数とした場合に、第1と第2のサブビームとの間に(2m+1)π又はその近傍の位相差が形成されるように設定し、前記光検出手段から出力される出力信号のバックグランドの輝度レベルがほぼ零となる検査状態において基板表面を照明ビームにより走査する。 (もっと読む)


【課題】測定対象物の波長毎の反射率を精度良く測定することができる反射率測定装置及び反射率測定方法、並びに本発明による反射率測定装置を備えた膜厚測定装置及び本発明による反射率測定方法を含む膜厚測定方法を提供する。
【解決手段】
反射率測定装置1は、照射光L1を測定対象物へ供給する測定光源30と、照射光L1の強度及び測定対象物からの反射光L2の強度を波長毎に検出する分光検出部80と、照射光L1の波長毎の強度の検出値を、基準測定対象物からの反射光L2の波長毎の強度の検出値に相当する値に変換する変換係数K(λ)を記録する係数記録部92と、照射光L1の波長毎の強度の検出値及び変換係数K(λ)より求まる、基準測定対象物からの反射光L2の波長毎の強度に相当する値に基づいて、波長毎の反射率を算出する反射率算出部93とを備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】測定領域においてハレーションがある場合でもハレーションによる悪影響を軽減して測定領域の高さを計測できる高さ計測装置及び、高さ計測方法を提供する。
【解決手段】高さ計測装置は、高さ方向に撮像位置を変えて画像データを撮像する画像取り込み部と、前記画像データ中の測定領域における高さごとのフォーカス評価値を計測する測定領域フォーカス評価値計測部と、前記画像データ中の前記測定領域の近傍領域における高さごとのフォーカス評価値を計測する近傍領域フォーカス評価値計測部と、前記近傍領域における高さごとのフォーカス評価値と、前記測定領域における高さごとのフォーカス評価値とを基に、前記測定領域における高さを計測する測定領域高さ計測部とを有する。 (もっと読む)


【課題】角度検出感度を向上させるとともに、検出可能な角度範囲を広くする。
【解決手段】波長域が互いに異なる山形輝度分布が互いに重なり合うように帯状面光源を構成し、各波長域の撮影画像の該山形輝度分布に対応する画素値分布に基づいて検査面の角度を2段階で検出する。第1段階では、R、G、Bの画素値間の大小関係と曲線近似情報とに基づいて、光源面上周期内参照光位置xを決定し、第2段階では、明度の値と曲線近似情報とに基づいて、周期内参照光位置xがどの周期iに属するか、すなわち、周期始点位置Xiを求める。次いで参照光位置X=Xi+xを検査ラインでの検出角に変換する。 (もっと読む)


【課題】自由度の高い画像測定装置及び画像測定方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る画像測定装置は、撮像手段と、撮像手段によって被測定対象を撮像して得られた画像情報から被測定対象の座標情報を算出する演算手段とを有し、演算手段は、撮像手段によって被測定対象を撮像して得られた画像情報を、撮像手段に固有の誤差情報によって補正して補正画像情報を得る誤差補正手段と、補正画像情報から被測定対象の座標情報を算出する座標算出手段とを備える。 (もっと読む)


【課題】近赤外線吸収性能の面均一性を容易に測定できる、近赤外線吸収性能の面分布測定方法と、この測定方法を利用した近赤外線吸収フィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】透明基材シート2上に近赤外線は吸収し且つ可視光は吸収しない近赤外線吸収層3を積層した帯状の近赤外線吸収フィルタ1に対して、搬送させながら、その幅方向TD及び流れ方向MDに亘る所定領域面A毎に、近赤外線光源5からの透過光の面分布を、近赤外線領域に感度を有する二次元イメージセンサ5による二次元画像として撮影し、画像処理装置7で画像処理して、その輝度分布から近赤外線吸収性能の面分布を測定し、ディスプレイ8に表示する。更に、判定基準に従い面分布の不良品と良品とをマーキング等で識別できる様にすると良い。この方法を用いて、近赤外線吸収フィルタを製造する。 (もっと読む)


【課題】岩石試料内の単一天然亀裂の開口幅と形状の両方を高い分解能で且つ高精度で同時に測定でき、測定に際して岩石試料が消失することなく、測定に要する時間とコストの負担を軽減できるようにする。
【解決手段】単一亀裂を有する岩石試料を型として、亀裂を境とする2つの透明レプリカ試料14a,14bを、一方は無色の透明樹脂で、他方は染料で着色した透明樹脂で作製し、両者を組み合わせることで亀裂12を復元し、亀裂内に前記染料とは異なる色の染料溶液を満たして岩石レプリカ試験体10とする。それに白色光を照射し、透過光を各染料に対応したバンドパスフィルター20を通して各色毎の2次元平面座標の光強度データをCCDカメラ18で取得し、各色毎の2次元平面座標の吸光度から2種類の染料で着色された部分の厚さをデータ収録装置22で算出して亀裂開口幅と亀裂形状を同時に求める。 (もっと読む)


【課題】物体表面の角度の検出感度を向上させることができると共に、計測装置から物体表面までの計測距離に依存することなく精密に物体表面の角度を計測することができる表面角度計測方法及び表面角度計測装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
計測対象2の表面に計測光を照射すると共に、当該計測対象2で反射した計測反射光を受光することで計測対象2の表面の傾斜角度を計測する表面角度計測装置1において、計測反射光を金属薄膜11で受光すると共に、金属薄膜11で表面プラズモン共鳴を生じさせるプラズモンフィルタ部9を備える。さらに、その表面プラズモン共鳴が生じた金属薄膜11からの反射光の強度を計測する強度検出部15と、強度検出部15で計測された反射光の強度を基に、計測対象2の表面の傾斜角度を算出する傾斜角度算出手段を有する演算部4と、を備える。 (もっと読む)


【課題】 合焦状態(ピント位置)の異なる複数枚(複数チャンネル)の画像から被写体までの距離を推定し、ドクターに診断上の様々な価値を提供する画像処理装置、画像処理方法、撮像装置及びプログラム等を提供すること。
【解決手段】 画像処理装置は、合焦状態が異なる複数の画像を取得する画像取得部と、取得された複数の画像について、注目領域に対して設定される基準点の設定処理を行う基準点設定部351と、複数の画像について、基準点に対応する画素値に基づいて、基準点に対応する実空間上の対応点までの距離情報を推定する距離推定部352と、推定された距離情報に基づいて、基準点が設定された注目領域に対して付加される情報である付加情報を生成する付加情報生成部356と、を含む。 (もっと読む)


【課題】回転中の工具と被加工物間の間隙を直接測定する手法を確立する。
【解決手段】回転工具とそれに対向配置した被加工物との間の間隙を超える幅を有するパルス化レーザ光を発生して、発生レーザ光の光軸を被加工平面に対して傾斜させて間隙に照射する。パルス化レーザ光は、回転工具の1回転又は整数回転当たり1パルスの発振パルス周期を有し、該発振パルスオン期間の間に回転工具の同一角度範囲に照射する。間隙に照射されて該間隙により遮蔽されずに回折した光を受光センサーにより検出して、間隙長さを測定する。 (もっと読む)


【課題】保護テープが貼着された被加工物の厚みを正確に検出し、被加工面に傷を付けることがない厚み検出装置および厚み検出装置を装備した研削機を提供する。
【解決手段】チャックテーブルに保持され加工され厚みが減少する被加工物の厚みを検出する厚み検出装置であって、被加工物の上面および下面で反射する反射光を受光したイメージセンサーの検出信号に基づき分光干渉波形を求め、分光干渉波形と理論上の波形関数に基づき波形解析を実行し、被加工物の上面および下面で反射した反射光間の光路長差に基づき被加工物の厚みを求める第1の演算手段と、イメージセンサーの検出信号に基づき特定波長を通過する分光干渉波形の数をカウントする第2の演算手段とを備え、被加工物の厚みが所定の厚みに達するまでは第1の演算手段により被加工物の厚みを求め、被加工物の厚みが所定の厚みに達したならば第2の演算手段により被加工物の厚み減少量を求める。 (もっと読む)


【課題】 同一の測定対象物について、干渉反射光の光強度分布を繰り返し取得することにより、高精度の膜厚測定を行う干渉膜厚計を提供する。
【解決手段】 検出光を生成する光源と、検出光の参照面による反射光及び測定対象物による反射光からなる干渉反射光L3を生成する干渉光学系と、干渉反射光L3を分光する分光手段と、分光された干渉反射光L3を検出し、波長ごとの光強度分布を取得する光強度分布取得手段と、光強度分布に基づく特性曲線について、空間周波数ごとの特性強度分布を求める特性強度分布算出手段と、タイミングを異ならせて取得した2以上の光強度分布からそれぞれ求められた2以上の特性強度分布を合成する特性強度合成手段と、合成後の特性強度分布に含まれる2以上のピークの空間周波数に基づいて、測定対象物の膜厚を算出する膜厚算出手段により構成される。 (もっと読む)


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