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Fターム[2G001SA10]の内容

Fターム[2G001SA10]に分類される特許

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【課題】検査対象物の所定の検査エリアを高速に検査することができるX線検査装置を提供する。
【解決手段】X線検査装置100は、X線を出力する走査型X線源10と、複数のX線検出器23が取り付けられ、複数のX線検出器23を独立に駆動可能なX線検出器駆動部22と、X線検出器駆動部22やX線検出器23からの画像データの取得を制御するための画像取得制御機構30を備える。走査型X線源10は、各X線検出器23について、X線が検査対象20の所定の検査エリアを透過して各X線検出器23に対して入射するように設定されたX線の放射の起点位置の各々に、X線源のX線焦点位置を移動させてX線を放射する。X線検出器23の一部についての撮像と他の一部についての撮像位置への移動が並行して交互に実行される。画像制御取得機構30はX線検出器23が検出した画像データを取得し、演算部70はその画像データに基づき検査エリアの画像の再構成を行なう。 (もっと読む)


【課題】分割して撮像された画像を精度良く連結して1または複数の画像を構築する方法を得る。
【解決手段】分割して撮像された画像を連結して1または複数の画像を構築する方法であって、被撮像物の表面に連続した形状からなるパターンを配し、パターンを配した部分を複数の領域に分割して撮像した後、パターンが連結後の画像上で連続するように、分割撮像した各画像を連結することにより、1または複数の画像を構築する。 (もっと読む)


【課題】放射線の影響によって受光素子の耐久性が低下したりノイズが発生することを回避し得る検査装置を得る。
【解決手段】X線ラインセンサ8は、X線照射器7からのX線K1,K2が照射される領域R1内に配置され、受けたX線を光K3に変換するシンチレータ31と、シンチレータ31から発せられた光K3を、X線K1,K2が照射されない領域R2内に導く光導波路33と、領域R2内に配置され、光導波路33によって導かれた光K3を受光する受光素子32とを有する。 (もっと読む)


【課題】薄膜結晶についても容易に表面形状や結晶性を評価可能な技術を提供する。
【解決手段】X線波面センサは、入射されるX線を複数の光束に分割する波面分割素子と、各光束を試料の異なる領域に照射し、それぞれの反射光を干渉させて検出する計測器とを備える。例えば、X線発生装置10から入射されるX線をX線プリズム12によって波面分割し、一方の光束はそのまま試料14に当て反射光を検出器16で検出する。もう一方の光束は、X線プリズム15によって偏向して試料14に当て反射光を検出器16で検出する。検出器16に現れる干渉縞の向きや間隔から、試料結晶14の表面形状や結晶性の評価が可能となる。 (もっと読む)


【課題】X線検査装置に使用されるX線遮蔽カーテンの耐久性を向上することが可能な技術を提供する。
【解決手段】X線検査装置1は、搬入口2aから搬入された物品3を搬出口2bに搬送するコンベア22と、コンベア22で搬送される物品3にX線26を照射するX線照射部24と、X線照射部24からの物品3を透過したX線26を検出するラインセンサ25と、搬入口2a及び搬出口2bに設けられたX線遮蔽カーテン23とを備えている。X線遮蔽カーテン23はタングステン含有層を有している。 (もっと読む)


【課題】コンピュータ断層撮像方法による正確な再構成画像を、簡単な構成により得る。
【解決手段】複数の被検査体3の投影データよりその被検査体3の内部構造データを再構成するX線断層撮像装置であって、X線源1と、被検査体3の透過X線を撮像する二次元検出手段4と、X線源1のX線焦点1aと二次元検出手段4との間に配置され、被検査体3を載置してX線源1から出射されたX線により形成される円錐の底面の中心とX線焦点を結ぶ線分とほぼ平行な回転軸R2を中心に、設定された角度変位で回転する回転機構と、回転軸R2に対し、被検査体3をその回転軸R2を中心線とする所定角度の頂角を持つ仮想円錐の円錐面10に接した状態に把持する把持手段とを備える。 (もっと読む)


【課題】内容物の位置ズレを高精度に検出できる分包シート検査システム及び検査方法を提供する。
【解決手段】分包シートの外面に照射光を照射可能な光源と、前記光源から照射された照射光が分包シートの外面で反射された反射光を受けて映像信号を発生させる撮像手段4と、撮像手段4から出力される前記映像信号にエッジ強調処理を行なうことでシール部を強調するとともに、強調されたシール部において、分包シートの外端からポケット部とシール部との境界までの距離をシール長を計測するシール長計測装置6と、分包シートに照射するX線を照射可能なX線源7と、このX線照射に伴うX線透過量を検出するX線検出器8と、シール長の情報を入力してポケット部の位置と適合する検査領域を設定し、X線検出器8で検出されたX線透過量に基づいて、検査領域における内容物を検査する判定手段9とを備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【解決手段】プリアンプ信号のエッジを検出する方法は、プリアンプ信号の第1部分を特定する工程であって、第1部分の各部が第1極性を有する瞬間の傾きを有する工程と、第1部分の直後に続く第2部分を特定する工程であって、第2部分の各部が逆の第2極性を有する瞬間の傾きを有する工程と、、第2部分の直後に続く第3部分を特定する工程であって、第3部分の各部が第1極性を有する瞬間の傾きを有する工程とを含む。その方法は、更に、第2部分の終点と始点の強度の間の第1差を特定する工程と、第3部分の終点の強度と第1部分の始点の強度の間の第2差を特定する工程と、(i)第1差が閾値を超え(ii)第2差が閾値のある割合を超えるとき、エッジを検出する。 (もっと読む)


【課題】非破壊検査の際の半導体素子や電子部品等の被検体の破壊、機能や外観の損傷の発生が防止された透視検査装置を提供する。
【解決手段】放射線を発生し被検体に向けて放出する放射線源1と、被検体101を透過した放射線を検出する放射線検出器4と、被検体101に照射される放射線量を制限する放射線量制限手段8,9,10とを備え、放射線量制限手段8,9,10は、予め測定されている被検体101の放射線照射許容量に基づいて、被検体101に照射される放射線量を制限する。 (もっと読む)


【課題】本発明は厚い窓材を有する撮像窓を備える分析室内の試料に対して、分析室外から分析対象位置を鮮明に撮像できるようにして、分析位置の特定ができなかった試料の分析を可能にするX線分析装置を提供する。
【解決手段】窓材41を有する撮像窓40を備える分析室2内でX線を試料Sに照射して分析を行うX線分析装置であって、窓材41を透過させて試料Sを照明する試料照明手段7と、試料Sを分析室2の外部から撮像する撮像手段8であって、撮像部81とフード82を有し、試料照明手段7からの照射光が、窓材の裏面41bで反射光となって撮像部81内に入射しないように形成されている撮像手段8とを有し、試料照明手段7がフードを取り囲むように配置され、フードの窓近位部82bの端部が撮像窓40に近接しているX線分析装置。 (もっと読む)


【課題】キャピラリーを回転させながらガスフロー測定が可能なキャピラリー及びガス供給装置の提供。
【解決手段】透過法のX線回折測定等に好適なキャピラリー2である。このキャピラリー2は、試料22を配置するための管状部4と、この管状部4の一端側に設けられたガス導入部6とを備えている。管状部4の両端は開放されている。ガス導入部6の内部から管状部4の内部にまで至るガス通路16が形成されている。ガス導入部6は、その外面から上記ガス通路に至るガス導入孔18を有している。ガス導入部の外面は円周面部を有している。この円周面部は、少なくとも、上記ガス導入孔18よりも軸方向一方側の位置及び上記ガス導入孔18よりも軸方向他方側の位置に設けられている。上記円周面部の中心軸線Z1と、管状部4の中心軸線Z2とが、実質的に一致している。 (もっと読む)


【課題】X線荷物検査装置の画像歪みの発生量を数値化評価して、メーカごとに異なるX線荷物検査装置の歪み発生量の違いの比較を可能とする。
【解決手段】寸法形状の明確な金属製歪み評価用テストチャートフレーム200/300を、X線荷物検査装置400にて撮影する。測定装置100は、その撮影画像が、実物形状に対してどの程度歪みんで撮影されているかを数値測定する。これによって、画像歪み量を明確化し、その歪み測定結果を評価する。 (もっと読む)


【課題】透過法のX線回折測定を容易としうるX線回折測定方法の提供。
【解決手段】本発明のX線回折測定方法は、所定の回転軸線Zsまわりに試料48を回転させながらこの回転軸線Zsに略沿った方向の入射X線を試料48に透過させることにより、X線回折が測定される。好ましい測定方法では、貫通孔46を有する試料ホルダー34と、この試料ホルダー34が取り付けられた状態で回転軸線Zsまわりに回転しうる回転体25とが用いられる。この回転体25は、X線を通過させるためのX線通過孔32を有している。X線通過孔32は、上記回転軸線Zsを通過させるように上記回転体25を貫通している。試料ホルダー34の貫通孔46とX線通過孔32とが連通した連通孔が形成されるように試料ホルダー34が取り付けられている。試料48は、試料ホルダー34の貫通孔46の内側に配置される。 (もっと読む)


【課題】 X線検査装置におけるX軸方向移動ステージやY軸方向移動ステージが移動する際に変形が生じることを未然に防止して、スムーズに移動させることができる機構を、ロープによる簡単な構造で提供する。
【解決手段】 X線発生器AとX線検出器Bとが対向した状態で垂直に配置され、これらの間に検査すべきサンプルCを載置するテーブル1が水平面上で直角に交わるX軸並びにY軸方向に移動可能なX−Y移動ステージ上に組み付けられているX線検査装置において、前記X−Y移動ステージのX軸方向移動ステージまたはY軸方向移動ステージ若しくはその両方が、移動方向と直交する左右側部で少なくとも1本の有端状ロープ11によってステージ移動時に同期的に移動方向に引っ張られるように形成されている構造。 (もっと読む)


【課題】本発明は高輝度X線源を提供することにより、これを用いた高分解能かつ高倍率のX線検査装置を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも、電子放出陰極を有する電子銃と、陽極と、電子レンズと、該電子銃から放出された電子ビームが照射されることによりX線を放出するターゲット部とを有するX線源であって、該電子放出陰極としてダイヤモンドを用いたことを特徴とするX線源であって、該ダイヤモンドが、柱状形状を有し、少なくとも1箇所の電子放出部となる先鋭部を有し、前記先鋭部の先端半径もしくは先端曲率半径が10μm以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】搬送路上を順次搬送されてくる被検査物がX線遮蔽カーテンに当接しても、X線遮蔽カーテンが被検査物の搬送を阻止することなく被検査物中の異物の検出が行えるX線異物検出装置を提供する。
【解決手段】被検査物を搬送する搬送手段と、搬送手段により搬送される被検査物にX線を照射するX線照射手段と、被検査物を透過した前記X線を検出するX線検出手段と、被検査物の搬送経路に設けられ搬送方向に直交する水平軸線を有し、回動自在な金属板でなり、垂直方向に吊り下げられ、搬送される前記被検査物と当接することにより揺動可能で、かつ搬送手段の搬送方向と反対方向に凸部を有しているX線遮蔽部材とを備える。 (もっと読む)


【課題】直立搬送される被検査物がX線遮蔽部材を通過する際の衝突抵抗を緩和して転倒することを防止し、また、筐体外にX線が漏洩することを更に防止する。
【解決手段】被検査物Wの出入口4a,4bを備える筐体2と、被検査物Wを搬送路に沿って入口4aから出口4bに搬送する搬送手段6と、筐体2内にて被検査物WにX線を照射して検査するX線検査手段と、搬送路を遮断するように設けられ、搬送される被検査物Wが当接することにより被検査物Wを通過させるX線遮蔽部材10とを備えるX線検査装置1において、X線遮蔽部材10は、基端側15が搬送路外に位置し、先端側16が搬送路上にあるとともに基端側15より搬送方向Y下流側に位置したものが搬送路の幅方向Zに対向して設けられ、先端側16同士が搬送路のセンターラインL上にて当接していることで閉状態となり且つ閉状態に常時付勢されている一対の遮蔽板11a,11bを有する。 (もっと読む)


【課題】 蛍光X線分析装置による半導体封止樹脂中の有害元素管理方法において、誤差の少ない測定方法を用いて管理を行なう。
【解決手段】 本発明は、半導体封止樹脂中の有害元素管理方法であって、蛍光X線分析装置により定性分析を行ない含有判定する工程と、試料の上下面を一致させてX線照射面全体に試料を並べる試料準備工程と、試料の一方面およびその対向面を蛍光X線分析装置により測定し定量分析を行なう工程と、前記定量分析工程から得られた2つのデータのうち共存元素の影響が少ない方の定量結果を用いて閾値判定をする工程、を有することを特徴とする有害元素管理方法である。この方法によれば、半導体製品の封止樹脂中の有害元素を精度よく測定・管理することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】固液界面の注目対象である特定元素(イオン)の構造もしくはその周辺の局所構造を容易に解析することができる評価方法と評価装置を提供する。
【解決手段】注目対象が含有される液体試料Sに対して、注目対象(X線の吸収原子)とは異なる材料からなる電極4を接触させる。この電極界面の液体試料SにX線エネルギーを変えながらX線を照射し、電極4近傍の注目対象にX線を吸収させて注目対象から電子を放出させ、その電子の放出に伴って電極4に生じる電気量を測定する。このX線エネルギーと電気量との関係から電極界面における注目対象またはその周囲の構造情報を解析する。 (もっと読む)


【課題】光学系21のフォーカスを自動的に調整できるX線イメージ管11における撮像装置20のフォーカス調整装置31を提供する。
【解決手段】光学系21のフォーカス状態を測定する指標となる治具32を、X線イメージ管11および撮像装置20を用いて撮像する。撮像したデータから、測定手段33がフォーカス状態を測定する。測定したフォーカス状態に応じて、制御手段34がフォーカス調整手段23により光学系21のフォーカスを調整する。 (もっと読む)


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