【課題】測定値からノイズの影響を除去する。
【解決手段】測定対象物上に複数の測定点Ｐ₁〜Ｐ_Nを設定し、測定点Ｐ₁〜Ｐ_Nの並ぶ方向に沿って振動させながら測定ビームを照射する。測定ビームの振幅Ｗの範囲にＭ個の測定点Ｐ₄〜Ｐ₈が含まれているとすると、Ｍ個の測定点Ｐ₄〜Ｐ₈から得られる２Ｍ個の測定値ｆ₁〜ｆ_2Mから、下記(７ａ）（７ｂ)式、


に従って、フーリエ係数ｂ₁(振幅が測定ビーム径の１／２の場合)、又はｂ₂(振幅が測定ビーム径と等しい場合)を求め各測定点のフーリエ係数ｂ₁又はｂ₂の推移を求め、微小領域の分析を行なう。 （もっと読む）

【課題】事前の設定の手間を簡略化しつつ正確に検査ポイントを探索することのできるパターンマッチング手法を提供する。
【解決手段】撮影画像の一部の画像領域を抽出し、その画像領域の分割画像をテンプレート画像として設定し、テンプレート画像を回転させながらパターンマッチングを行う。また、このパターンマッチングにより、画像領域内に点対称パターンが存在するか否かを判定する。 （もっと読む）

あるシステム及び方法が、再構築により、基板上のオブジェクトの概略構造を決定する。これは、例えば、リソグラフィ装置のクリティカルディメンション（ＣＤ）又はオーバレイ性能を評価するための微細構造のモデルベースのメトロロジーなどに適用できる。基板上のスタック上の格子などのオブジェクトの概略構造を決定するためにスキャトロメータが使用される。ウェーハ基板は上層と下地層とを有する。基板はスタックオブジェクト上の格子を含む第１のスキャトロメトリターゲット領域を有する。スタック上の格子は上層と下地層とからなる。上層は周期格子のパターンを備える。基板はさらに、上層がない、隣接する第２のスキャトロメトリターゲット領域を有する。第２の領域は、パターン形成されていない下地層のみを有する。 （もっと読む）

【課題】高い空間解像度を有しており、検査に要する時間を短くでき、簡易な構成によって半導体デバイスの異常箇所を特定可能な半導体検査装置を提供する。
【解決手段】半導体検査装置１Ａは、ＤＵＴ１７の端子電極にストレス電圧Ｖｓを印加するストレス印加装置２２と、シリコン基板１７ａを透過する波長の光を発生する光源１１と、光源１１から提供された光をシリコン基板１７ａに照射し、シリコン基板１７ａを透過した光に関する干渉像を生成する干渉光学系と、干渉像を撮像して撮像データを生成するＩＲカメラ１９と、撮像データに基づいて、異常発生箇所としてのＤＵＴ１７の発熱箇所を特定するための情報を演算する演算部２１とを備える。ストレス電圧Ｖｓの時間波形は、一定周期の繰り返し波形であって、ＤＵＴ１７の発熱によるシリコン基板１７ａ内部の光学的距離の時間変化を正弦波状とする時間波形である。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイスなどパターンを有するウェハ，液晶基板およびメディア等の欠陥の高精度な異物検出方法および異物検査装置を提供する。
【解決手段】本発明の第１の特徴は、検査対象基板に光を照射する照射光学系と、前記検査対照基板からの光を検出する検出光学系と、前記検査対象基板からの回折光を遮光する空間フィルタとを有する検査装置において、前記空間フィルタは、複数の遮光材と、前記遮光材の形状，角度、または間隔の少なくとも１つを変化させる制御部材と、前記制御部材を制御する制御部と、を有することにある。 （もっと読む）

【課題】検査部内には基板を全面検査するためにＸＹ移動ステージ機構や高速回転機構などの可動部があり、ファンフィルタユニット（以下ＦＦＵ）も、付着異物をゼロにすることは困難である。
【解決手段】本発明は、複数の領域に分割されたファンフィルタユニットと、前記ファンフィルタユニットからの空気を排気するための複数の領域に分割された排気ユニットと、前記ファンフィルタユニットと前記排気ユニットとの間に配置された搬送系とを有し、前記搬送系の動作に応じて、前記ファンフィルタユニットの一部の領域の流量と、前記排気ユニットの一部の領域の流量とを制御することを第１の特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
装置を大型化することなく、欠陥からの散乱光をより広い領域で効率よく集光して検出することにより微細欠陥を感度よく検出することを可能にする装置及びその方法を提供する。
【解決手段】
試料の表面にレーザを照射する照明手段と、試料からの反射光を検出する反射光検出手段と、検出信号を処理して試料上の欠陥を検出する信号処理手段とを備えた試料の表面の欠陥を検査する装置において、反射光検出手段を、試料からの反射光のうち正反射光を除いた散乱光を非球面フレネルレンズを用いて集光して検出する散乱光検出部を備えて構成した。 （もっと読む）

【課題】従来技術では、偏光状態の違いにより正しく欠陥と、異物との弁別を行うことができない場合も考えられる。
【解決手段】上記課題を達成するために、本発明の第１の特徴は、試料を載置する搬送系と、前記試料の第１の領域に第１の光を照射し、前記試料の第２の領域に第２の光を照射する照射光学系と、前記試料からの光を受光する受光系と、前記照射光学系での時間遅れを記憶する記憶部と、前記受光結果と、前記時間遅れとを用いて、試料に由来する欠陥と異物とを弁別する処理部とを有することにある。本発明の第２の特徴は、前記第１の光の状態と、前記第２の光の状態とを観察する光学条件観察部と、前記光学条件観察部での観察結果をフィードバックする観察結果フィードバック部と、前記フィードバックを用いて前記第１の光と、前記第２の光との光学条件を同じにする光学条件制御部とを有することにある。 （もっと読む）

【課題】表面に膜が形成されたウエハでも安定してアライメントマークと周辺部のコントラストが高い画像データを取得できるようにしたものを提供する。
【解決手段】照明光となる光源と前記光源からの光を物体に照射し、また反射光を集光結像する結像光学系と前記結像光学系の集光点に設置し、物体の画像を取り込むカメラと取り込んだ画像を処理する画像処理機能からなるアライメント測定装置を備えた欠陥検査装置において、画像の取り込みを少なくとも２つの異なる波長帯域の反射光において行い、それぞれの反射光に対応した物体の画像情報を適切に演算処理することによってアライメントマークのコントラストを高めるように構成する。 （もっと読む）

【課題】欠陥座標精度を向上し、検出欠陥座標誤差を低減可能な光学式欠陥検査装置を実現する。
【解決手段】標準試料に作り込み欠陥が形成され異物欠陥判定機構１１により、欠陥が判定されてデータ処理部１２に欠陥データが供給される。データ処理部１１は、標準試料の作り込み欠陥と検出欠陥との座標ずれ量を算出し、感度（装置感度（輝度、明るさ等））の確認を行い、ハードによる補正の実行に進む、座標ずれが一定値未満であれば、ソフトによる補正を実行する。ソフト補正の場合、標準試料全体の座標補正を行い座標ずれ量を算出し確認する。座標ずれ量が許容外であれば標準試料の分割した領域毎に座標補正を行う。 （もっと読む）

【課題】エッジグリップ方式チャックにおいては、定期的なメンテナンス（清掃等）が不可欠となる。しかし、清掃等のメンテナンスを行う場合、人が作業を行う以上作業にムラが生じる可能性を否定できない。また、人を介することで新たな塵を付着させたり傷を付けたり、部品を破壊したりといったリスクも考慮しなければならない。
【解決手段】本発明は上記課題を解決するためにウエハチャックを検査光学系より後方に移動し、前記検査光学系より後方で、前記ウエハチャックを清掃することを特徴とする。また、本発明は、ウエハチャックヘ供給される空気の流量と、前記ウエハチャックへ供給される空気の排気量を制御することを他の特徴とする。 （もっと読む）

【課題】斜方検出系の合焦位置と照明の位置とを高精度に検出し、照明の位置を高精度に設定可能な欠陥検査装置を実現する。
【解決手段】照明系３００は合焦領域２０２を通過するように略一定速度で走査し、合焦領域２０２付近の基準チップ２０５の画像を取得する。取得した画像の様子から、合焦位置を求める。照明光３０１を、求めた合焦位置に向けて移動させ、１枚画像を取得し、照明認識位置を算出する。合焦位置と照明認識位置とのずれ量を算出し、ずれ量が許容値以上であれば、ずれ量が一定以下となるまで、照明系３００を移動させる。 （もっと読む）

【課題】
信号加算の効果を最大化するために，複数の方向にラインセンサを配置する装置構成が有効である。ただし，本構成においては，検査中に発生するウエハの垂直方向への高さ変動により画素ずれが発生するため，同一座標同士の散乱光信号を精度良く加算することが困難になる。
【解決手段】
検出器毎のHaze信号を利用したパターンマッチングを行うことにより画素ずれの大きさを検出し，座標補正を行うことで同一座標同士の散乱光信号を精度良く加算可能にする。または照明領域の位置ずれ検出，正反射光の入射位置ずれ検出のいずれかの手段によりウエハ高さ変動の大きさを検出し，これに基づき座標補正を行うことで同一座標同士の散乱光信号を精度良く加算可能にする。 （もっと読む）

【課題】暗視野光学式検査装置では、ＴＴＬにおけるリアルタイムでの合焦追従対応が困難である。また、斜め方向からの反射光の位置ズレを検出する方式では、撮像用レンズとの誤差や温度変化等の環境変化および合焦制御ユニットの経時変化によるズレ（オフセット）量を補完することが困難である。さらに検査時の環境等により合焦位置が変化してしまうため、ＴＴＬ開始時においてもある程度の合焦が保たれていなければ、高精度にするためには画像のサンプル数を増やしたりする必要があるため時間がかかってしまう。
【解決手段】ＴＴＬとＳ字カーブ制御を同時積載し、合焦位置認識はＴＴＬ、合焦位置追従動作にはＰＳＤ（ＣＣＤ）方式というように用途を切替えることで、より高精度で短時間の検査を行うことができる。また、ＴＴＬ実行時に前回の合焦位置情報をフィードバックすることにより、ＴＴＬの時間を短縮することができる。 （もっと読む）

【課題】作業者の負荷が大きいという問題や作業効率が低いという問題がある。
【解決手段】取得部１１は、半導体パターンが写されたパターン画像を取得する。入力部１２は、描写フィールドのフィールドサイズと、描写フィールドの継ぎ目の幅とを受け付ける。制御部１４は、入力部１２が受け付けたフィールドサイズおよび継ぎ目の幅に基づいて、その継ぎ目に相当する半導体パターン上の領域である非検査領域を特定する。検査部１５は、取得部１１が取得したパターン画像を用いて、半導体パターンから制御部１４にて特定された非検査領域を除いた最終検査領域内の欠陥を少なくとも検査し、その最終検査領域内の欠陥を示す最終検査結果を出力する。 （もっと読む）

【目的】検査処理の運用をできるだけ妨げないでレーザ光源の保守を行う検査システムを提供する。
【構成】パターン検査システム１００は、レーザ光源装置１０３と、前記レーザ光を照明して、被検査試料のパターンの光学画像を取得する光学画像取得装置１５０と、前記光学画像を入力し、前記光学画像を比較対象画像と比較する比較装置１４０と、前記レーザ光源装置と前記光学画像取得装置とを制御する制御装置１６０と、を備え、制御装置１６０は、定期的に前記レーザ光源装置からレーザ光源装置１０３の保守動作の必要性の程度を示す識別子と前回保守動作を行なってからの経過時間とを入力し、前記識別子と前記経過時間との少なくとも１つに基づいて保守動作実行コマンドを前記レーザ光源装置に出力し、前記レーザ光源装置１０３は、前記保守動作実行コマンドに基づいて、前記レーザ光源装置１０３の保守動作を実行することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レーザアニールによる結晶化を利用した半導体薄膜の形成において、その結晶化度を従来よりも高精度に評価することが可能な半導体薄膜の形成方法を提供する。
【解決手段】ｐ−Ｓｉ膜２３の結晶化度の検査処理の際に、ｐ−Ｓｉ膜２３およびａ−Ｓｉ膜２３０へ向けて照射光Ｌoutを照射し、ｐ−Ｓｉ膜２３およびａ−Ｓｉ膜２３０の透過画像を取得する。画像処理用コンピュータ１５において、ｐ−Ｓｉ膜２３（結晶化領域５１）の透過輝度とａ−Ｓｉ膜２３０（未結晶化領域５０）の透過輝度との透過コントラストを求める。この際、予め形成された基準マーク６を用いて、結晶化領域５１内および未結晶化領域５０内におけるコントラスト算出用領域６０，６１を特定し、これらのコントラスト算出用領域６０，６１を用いて透過コントラストを求める。そして、求めた透過コントラストに基づいて、ｐ−Ｓｉ膜２３に対する選別を行う。 （もっと読む）

【課題】欠陥が多くても検査対象面の全体についての欠陥の検査結果を出力可能な欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】欠陥検査装置１は、設定部２と検査部３を含む。設定部２は、予め定められた欠陥サイズごとに、目標となる検査カバレッジを示す目標検査カバレッジを設定する。検査部３は、欠陥サイズごとに、その欠陥サイズの欠陥についての検査カバレッジが、その欠陥サイズの目標検査カバレッジとなるように、基板４の検査対象面４ａ上の欠陥の中から検査対象となる欠陥を特定し、その特定された欠陥についての情報を、検査対象面４ａの全体についての検査結果として出力する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、検出感度を向上させることができるパターン検査装置及びパターンを有する構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】被検査体に形成されたパターンの光学画像に基づいて検出データを作成する検出データ作成部と、前記パターンに関する参照データを作成する参照データ作成部と、テンプレートを構成する画素における論理を任意に設定することができる可変テンプレートを有するテンプレートマッチング部と、前記検出データと、前記参照データと、を比較して欠陥部を検出する欠陥検出部と、を備えたことを特徴とするパターン検査装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】複数の画像データから高精細な画像を表す高精細画像データを生成する高精細画像生成処理において、生成する高精細画像の出力時における画質の低下が抑制されるような画像データを生成することを可能とする。
【解決手段】画像生成装置は、生成する高精細画像データの出力に用いる出力装置に関する情報を出力装置情報として取得し、出力装置情報に基づいて出力装置での出力に適した高精細画像の画像サイズを生成画像サイズとして設定する生成画像サイズ設定部を備える。また画像生成装置は、複数の画像データから、時系列に並んだ複数の画像データを合成元画像データとして取得し、取得した合成元画像データを合成して、設定した生成画像サイズの高精細画像を表す高精細画像データを生成する画像合成部を備える。 （もっと読む）