【課題】パターン形状の測定精度を向上させた検査装置を提供する。
【解決手段】下地層の上に所定のパターンを有するウェハ５のパターンを検査する検査装置であって、対物レンズ７の瞳面もしくは該瞳面と共役な面における領域毎の光の強度情報を検出する撮像素子１８と、パターンの形状変化に対しては強度情報の変化が異なり、下地層の変化に対しては強度情報の変化が同程度である、瞳面もしくは該瞳面と共役な面内の第１領域と第２領域の位置情報をそれぞれ記憶する記憶部と、撮像素子１８で検出される、第１領域の強度情報と、第２領域の強度情報との差異に基づいてパターンの形状を求める演算処理部２０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】ハニカム構造体のセル内の隔壁の欠陥を検出することが可能なハニカム構造体の検査方法を提供する。
【解決手段】一方の端面から他方の端面まで貫通する複数のセルを区画形成する多孔質の隔壁を有するハニカム構造体１００を検査対象とし、ハニカム構造体１００の一方の端面１１を、一方の端面１１との角度θが０°より大きく９０°より小さくなる方向から、撮像装置２１で撮像して、ハニカム構造体１００のセル内の隔壁の欠陥を検査するハニカム構造体の検査方法。 （もっと読む）

【課題】
微小な欠陥を検出すること、検出した欠陥の寸法を高精度に計測することなどが求められる。
【解決手段】
光源から出射した光を、調整する照明光調整工程と、前記照明光調整工程により得られる光束を所望の照明強度分布に形成する照明強度分布制御工程と、前記照明強度分布の長手方向に対して実質的に垂直な方向に試料を変位させる試料走査工程と、照明光が照射される領域内の複数の小領域各々から出射される散乱光の光子数を計数して対応する複数の散乱光検出信号を出力する散乱光検出工程と、複数の散乱光検出信号を処理して欠陥の存在を判定する欠陥判定工程と、欠陥と判定される箇所各々について欠陥の寸法を判定する欠陥寸法判定工程と、前記欠陥と判定される箇所各々について、前記試料表面上における位置および前記欠陥の寸法を表示する表示工程と、を有することを特徴とする欠陥検査方法。 （もっと読む）

【課題】
試料全面を短時間で走査し、試料に熱ダメージを与えることなく微小な欠陥を検出することができるようにする。
【解決手段】
試料を回転可能なテーブルに載置して回転させ、この回転している試料にレーザ光源から発射されたパルスレーザを照射し、このパルスレーザが照射された試料からの反射光を検出し、この検出した試料からの反射光を検出し、この検出して得た信号を処理して試料上の欠陥を検出する欠陥検査方法において、回転している試料にレーザ光源から発射されたパルスレーザを照射することを、このレーザ光源から発射されたパルスレーザの１パルスを複数のパルスに分割し、この分割したそれぞれの分割パルスレーザを試料上の異なる位置に照射することにより行うようにした。 （もっと読む）

【課題】被検査物の表面形状に左右されずに十分な表面検査を行うことができる表面検査装置を提供する。
【解決手段】表面検査装置１は、被検査物であるシリンダライナ１００の外周面１０１に対して斜め方向に第１検査光１１を照射するとともに、垂直方向に第２検査光１２を照射し、ターンテーブル５にてシリンダライナ１００を回転させつつ、各検査光１１、１２の照射部位２１、２２をデジタルカメラ４で撮像して外周面１０１を検査するものである。 （もっと読む）

【課題】 ワークを、軸ズレさせることなく回転させる回転装置等を提供する。
【解決手段】 回転装置５９は、ワーク７１の表面に接触しつつワーク７１を回転させるローラ１３を有する回転ユニット１１と、ワーク７１に対して回転ユニット１１を押しつけるスプリング３１と、スプリング３１の押圧によるワーク７１の軸ズレを防止する軸ズレ防止部と、を含む。 （もっと読む）

【課題】基板が備えるそりやうねりの影響を考慮しながら、正確かつ簡便に、異物の付着や欠陥を有した箇所を異常箇所として検出することができる基板の検査方法、及び、この方法を利用した基板の検査装置を提供する。
【解決手段】基板の表面に対してｐ偏光の光を照射して得られた鏡面反射光から、基板の表面を複数の小領域に分割した分割小領域に対応する画素を有した基板画像を取得し、該基板画像に基づき、異物の付着や欠陥を有した箇所を異常箇所として検出する基板の検査方法であり、ｉ）基板の理論上のブリュースター角θ_Bを含む角度範囲ｄでｐ偏光の入射角を相対的に変化させる入射面内走査とii）入射面と基板とが交わる線を中心軸にして基板を相対的に傾斜させる傾斜走査とを組み合わせて基板画像を取得し、上記で得られた全基板画像において画素の光量が一度もゼロにならない分割小領域を基板の異常箇所として検出するようにする。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハ等の被検査体の端部の欠陥の種類を効率的に自動判別することが可能な検査装置を提供する。
【解決手段】 被検査体の端部を第１の偏光状態の光で照明する照明部と、前記端部で拡散反射される反射光の第２の偏光状態の成分を透過する透過部と、前記透過部を透過した成分により前記端部の第１の像を形成する第１の像形成部と、を有することを特徴とする端部検査装置である。 （もっと読む）

【課題】生産性、耐久性及び検査品質などを向上させることができるロータリー式空缶連続光検査装置、及び、容器の公転移動装置の提供を目的とする。
【解決手段】ロータリー式空缶連続光検査装置１は、空缶αを公転させる二連式スターホイール３２、公転する空缶αを保持し往復移動させる往復移動手段２、移動された空缶αの開口端が係入する光シール環盤３６、空缶αの外面に光を照射する上ライト４２、下ライト４４、及び、光検知器を有し、往復移動手段２が、ヘッド１０６、円板カム９６、サポートプレート２５及びＬＭガイド２４などを備えている。 （もっと読む）

【課題】基板表面の離散的であって線状に分布する欠陥(線状スクラッチ欠陥)を他のランダムに分布する微小な欠陥と区別して分類することを可能にする。
【解決手段】基板表面欠陥検査装置１０００は、基板１を載置して回転可能なステージ手段１９０と、基板１に光を照射する照明光源１１０と、基板１からの反射・散乱光を検出する検出手段１２０，１３０，１４０と、検出される信号を増幅してＡ／Ｄ変換するＡ／Ｄ変換手段１５１，１５２，１５３と、このＡ／Ｄ変換手段で変換された検出器から出力される信号を処理して基板上の欠陥を検出して検出した欠陥を分類する欠陥検出手段１６０とを備えて構成し、欠陥検出手段１６０は、検出器から出力される信号を処理して基板の表面の微小な欠陥を抽出し、この抽出した微小な欠陥の中から線状の領域に離散的に存在する線状欠陥を検出するようにした。 （もっと読む）

【課題】パターンマッチングし難い条件にあるアライメントマークを持つ半導体ウエハについて、高精度な試料の位置合わせ、高感度な検査を実現する。
【解決手段】アライメントマークの画像データのパターン幅計測、輝度分布取得が可能な解析手段と、積算処理、減算処理、２値化処理、膨張処理、収縮処理が可能な画像処理手段を備え、画像データに処理を加えて、アライメントマークを明瞭にした後にパターンマッチングを行うようにする。 （もっと読む）

【課題】被検査物表面の微細な欠陥を検出可能な表面検査装置の検査ヘッドを提供する。
【解決手段】レーザーダイオード１４から射出された検査光を導いて被検査物１００の表面に投光し、その反射光を受光して反射光の強度を検出するフォトディテクタ１５に反射光を導く投受光ファイバ１１を有し、フォトディテクタ１５の検出結果に基づいて被検査物１００の表面を検査する表面検査装置の検査ヘッド１であって、投受光ファイバ１１が、２本の光ファイバ１１ａ、１１ｂの一部を熔融延伸接合した熔融延伸部１１ｃを有する光ファイバカプラであり、熔融延伸部１１ｃから分岐した一方の光ファイバ１１ａはレーザーダイオード１４からの検査光を導き、他方の光ファイバ１１ｂはフォトディテクタ１５に反射光を導き、熔融延伸部１１ｃの端面１１ｆから検査光が被検査物１００の表面に投光され、その反射光を端面１１ｆが受光する。 （もっと読む）

【課題】数秒／枚程度で生産されるパターンドメディアを全面を全数に亘って検査することを可能にするパターンドメディアの形状欠陥検査方法及びその装置を提供する。
【解決手段】基板に形成された寸法が１００nm以下の繰り返しパターンを検査する方法において、基板に複数の波長成分を含む光を照射し、この光を照射した基板からの反射光を分光して検出し、この分光して検出して得た信号を処理して分光反射率を求め、この求めた分光反射率から評価値を算出し、予め求めておいた評価値とパターン断面形状との関係に基づいて分光反射率から算出した評価値からパターンの形状欠陥を判定するようにした。 （もっと読む）

【課題】
磁気ディスク検査において、カセットから取り出した磁気ディスクの両面を検査し、検査結果に応じたグレード分けをして再びカセットに戻すまでのトータルをスループットを高い状態を維持しつつ、低発塵環境の中で実施することを可能にする。
【解決手段】
カセットに収納された複数の未検査の基板をカセットから取出し、このカセットから取出した複数の基板を磁気ディスク検査装置の複数の基板取出・供給位置で複数の回転駆動部に載置し複数の検査位置に搬送し、この複数の基板を複数の回転駆動部で回転させながら光を照射して光学的に検査し、光学的な検査を終了した複数の基板を複数の基板取出・供給位置に搬送し、この搬送された複数の基板を取出し、この取出した複数の基板を検査が終了した基板を収納するカセットに光学的な検査の結果に応じて分別して収納するようにした。 （もっと読む）

【課題】
検査対象基板において不規則な回路パターン部分では、パターンからの散乱光によって欠陥信号が見落とされ、感度が低下する課題があった。
【解決手段】
光源から出射した光を検査対象基板上の所定の領域に所定の複数の光学条件をもって導く照明工程と、前記所定領域において、前記複数の光学条件に対応して生じる複数の散乱光分布の各々につき、所定の方位角範囲および所定の仰角範囲に伝播する散乱光成分を受光器に導き電気信号を得る検出工程と、該検出工程において得られる複数の電気信号に基づいて欠陥を判定する欠陥判定工程とを有することを特徴とする欠陥検査方法を提案する。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、オートフォーカス動作を行わなくとも、多分割セル方式によるＳ／Ｎ向上を可能とし、高感度の検査を実現できる光学式表面欠陥検査装置または光学式表面欠陥検査方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、被検査体に検査光を照射し、該被検査体の表面からの散乱光を受光器に結像し、該受光器からの出力に基づいて前記被検査体の表面の欠陥を検査する光学式表面欠陥検査装置または光学式表面欠陥検査方法において、前記受光器は一端が前記散乱光を受光する円形上の受光面を形成し、他端が複数の受光素子に接続された光ファイバーバンドルを有し、該光ファイバーバンドルは前記受光面において扇形状を有する複数のセルに分割され、該セル単位で該受光素子に接続されており、複数の前記セルの出力に基づいて前記検査を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の粗さを得る方法、及び基板の粗さを得るための装置において、ウェハ加工途中の微細な凹凸のパターンを有するパターン付きウェハの表面粗さを測定することを可能にすることで、ウェハ間の膜厚や膜質のばらつきによる歩留まりを向上させることを目的とする。
【解決手段】基板に形成されたパターンに関する設計情報を得る第１のステップと、前記設計情報を用いて、前記基板の表面粗さを得ることができる表面粗さ測定領域を得る第２のステップとを有する基板の粗さを得る方法、及び基板の粗さを得るための装置である。 （もっと読む）

【課題】安価でありながら、被検査基板へ照明仰角の変更に伴う調整を容易に行うことが可能な欠陥検査装置を実現する。
【解決手段】レンズホルダ５１０に支持された平行平面基板５１１及びシリンドリカルレンズ５１２は水平面５３０に対して同じ傾斜角θで対称に配置され、シリンドリカルレンズ５１２の回転に伴う光１０１の焦点位置での光軸ずれを防ぐことができ同一焦点位置で光１０１の光軸を一致させたまま光１０１をモータ５２５、ベルト５１６により回転機構により回転できる。レンズホルダ５１０と回転機構は上下方向移動機構５２６に接続され、移動機構５２６のガイド５２４に沿って移動させることによりシリンドリカルレンズ５１２の焦点位置が調整される。これにより、照明光の仰角変更に伴い、容易に線状照明光の位置、焦点、回転位置を調整することができる。 （もっと読む）

【課題】セラミック成型体に対して検査液を適量かつ持続的に付与でき、簡便にセラミック成型体の外観を検査できる外観検査装置を提供する。
【解決手段】外観検査装置１では、検査対象のセラミック成型体Ｓが載置される載置部１１が複数の孔を有する多孔質体からなり、載置部１１の底面１１ｂ側が検査液貯留部１３内に配置されている。したがって、検査液貯留部１３内の検査液Ｖが毛管現象によって載置部１１の底面１１ｂから載置面１１ａに伝わり、載置面１１ａにおいて、セラミック成型体Ｓに対して検査液Ｖを適量かつ持続的に付与できる。これにより、外観検査装置１では、簡便にセラミック成型体Ｓの外観を検査することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】周期的に繰り替えられて形成された部分を有するワークの撮像及び検査に要する時間を短縮できるワーク検査装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】基準パルスＰＡに基づいてワークＷの歯部Ｗ１と撮像タイミングとを同期させ、撮像したｋ（ｋは整数）番目の画像と（ｋ＋１）番目の画像との差分を得る画像処理を行い、差分のデータに基づいて欠陥を検出するようにした。 （もっと読む）