【目的】インテグレータレンズによって形成される複数の集光点に起因した光学素子の劣化を回避可能な検査装置を提供することを目的とする。
【構成】パターン検査装置１００は、レーザ光を発生する光源１０３と、レーザ光を入射し、入射されたレーザ光を分割して光源群を形成するインテグレータレンズ２０６と、インテグレータレンズの入射面の手前に配置され、インテグレータレンズに入射するレーザ光を散乱させる散乱板２０４と、インテグレータレンズを通過したレーザ光を照明光として用いて、複数の図形パターンが形成された被検査試料におけるパターンの欠陥を検査する検査部１５０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】十分な検査速度を確保しつつ、卵の全周面の透過光画像を確実に撮影して卵の品質を検査することができる卵検査装置を提供する。
【解決手段】検査対象の卵４を搬送方向に沿って列状に搬送する搬送装置１と、搬送装置上の撮影領域内に設定した複数の撮影位置で卵４の検査画像を撮影する撮像装置３を備え、搬送装置１は、卵４が鋭端部と鈍端部との間の卵軸廻りに回転しながら各撮影位置の間を転動する搬送軌道５と、搬送軌道上の卵４を搬送方向後方から押す支持部材７と、支持部材を搬送方向に沿って移動させる支持部材駆動部を有し、搬送軌道５は、検査画像を撮影する撮影位置の相互間の区間軌道長が、支持部材間に相当する卵の搬送ピッチよりも長く、かつ卵の卵軸廻りの全周角を前記撮影位置の数で除した区分角度の整数倍の回転角度に卵を回転させるのに必要な長さを有する。 （もっと読む）

【課題】現在の手動検査プロセスを置き換える自動化検査システムおよび方法を提供すること。
【解決手段】自動化欠陥検査システム（１０）が発明され、これはパターン化されたウェハ、全ウェハ、破損ウェハ、部分ウェハ、ワッフルパック、ＭＣＭなどを検査するために使用される。この検査システムは、特に、スクラッチ、ボイド、腐食およびブリッジング、などの金属化欠陥、ならびに拡散欠陥、被覆保護層欠陥、書きこみ欠陥、ガラス絶縁欠陥、切込みからのチップおよびクラック、半田隆起欠陥、ボンドパッド領域欠陥、などの欠陥のための第二の光学的ウェハ検査のために意図され、そして設計される。 （もっと読む）

【課題】微細な欠陥の検出を容易に行うことができるパターン検査装置、およびパターン検査方法を提供することである。
【解決手段】実施形態に係るパターン検査装置は、被検査体に向けて光を出射する光源と、前記被検査体からの光を検出する検出部と、前記検出部からの出力に基づいてパターン検査を行う検査部と、を備えている。そして、前記光源は、前記光の波長を変化させる。また、前記検査部は、前記検出部からの出力に基づいて回折像を作成し、最も鮮明な回折像に関する光の波長と、対比する回折像に関する光の波長と、を比較することで、前記パターン検査を行う。 （もっと読む）

【課題】金属製部品及びプラスチック製部品の表面及び内部に存在する微細なキズ、バリを、画像処理技術を用いて検知する検出装置において、目視検査を超える検出精度、検出速度を有し、かつ従来の画像処理技術を使用する自動検出装置を超える検出精度を有する検出装置、及び検出方法を提供する。
【解決手段】検査部品と全く同じ形状の無欠陥標準部品とを、全く同じように回転、傾動、停止させる機構を有し、停止させるごとに両部品の画像を撮影するカメラを有し、撮影を効果的に行うための照明を有し、撮影した両部品の画像をコンピューター上で重ね合わせて比較する処理を行う画像処理コンピューターを有し、両部品の画像の不一致をキズ、バリとして表示するモニターを有する検出装置により、金属製部品及びプラスチック製部品の表面及び内部に存在する微細なキズ、バリを検出する。 （もっと読む）

【課題】
表面検査装置では、より粒径の小さいＰＳＬを使用することで、より小さい欠陥を検査することが可能となる。しかし、ＰＳＬの粒径は、有限である。このことから、従来の表面検査装置では、近い将来に半導体製造工程の検査で必要となるＰＳＬに設定の無いほど小さい粒径の欠陥をどのように検査するかということに関しては配慮がなされていなかった。
【解決手段】
本発明は、被検査物体で散乱，回折、または反射された光の、波長，光量，光量の時間変化、および偏光の少なくとも１つを模擬した光を発生する光源装置を有し、前記光を表面検査装置の光検出器に入射させるより微小な欠陥を検査することができる。 （もっと読む）

【課題】パターン化位相差フィルムの欠陥を精度よく検出する。
【解決手段】投光機１１と撮影装置１２との間に、第１及び第２偏光板１３，１５を配置する。第１及び第２偏光板１３，１５の間に、検査対象のパターン化位相差フィルム２０を配置する。撮影装置１２側でフィルム２０と第２偏光板１５との間にλ／４波長板１４を配置する。第２偏光板１５を回転させて、第１偏光板１３の透過軸をフィルム２０の光学軸に対し４５°傾けた状態で、第２偏光板１５の透過軸を前記λ／４波長板１４の光学軸に対して＋４５度にした第１状態で撮影装置１２により第１画像を撮影する。第２偏光板１５の透過軸をλ／４波長板１４の光学軸に対して−４５度にした第２状態で撮影装置１２により第２画像を撮影する。第１画像と第２画像とを第１及び第２位相差領域が一致する位置で重ね合わせて合成する。得られた合成画像に基づき欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】容器内に好適に光を照射して異物を撮像できる異物検査装置を提供することを課題とする。
【解決手段】正立した容器２を載置する台座３ａと、台座３ａに載置された容器２の上方で水平方向に広がって容器２を上方から押さえつける保持キャップ４ｂを有する容器保持装置４と、容器２を底部の側から撮像した画像データを取得する撮像装置５２と、照明装置５１と、を含んで構成される異物検査装置とする。保持キャップ４ｂは白色や乳白色の樹脂で形成され、照明装置５１は、容器２を押さえつけている保持キャップ４ｂの下方から保持キャップ４ｂに向かって上方に光を照射し、照明装置５１が照射した光を保持キャップ４ｂが下方に向かって乱反射するように構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】容器の外側表面に付着した異物と、容器に封入された固形物の商品に混入した異物と、を好適に識別できる異物検査装置を提供することを課題とする。
【解決手段】容器２を載置するとともに水平面内で回転自在に設けられる台座３ａと、台座３ａに載置された容器２を外側から周囲に沿って一周に亘って撮像した画像データを取得する撮像装置５２と、台座３ａに載置されて台座３ａとともに回転する容器２の外側表面をクリーニングする回転ブラシ５４と、画像データに基づいて作成する検査画像データから輝度が周囲と異なる特異部を抽出する制御装置５３と、を備える異物検査装置とする。そして、制御装置５３は、台座３ａを２回転以上させて回転回数と等しい数の１回転ごとの検査画像データを作成し、少なくとも２つの検査画像データで位置が同じ特異部を抽出したときに、容器２に異物が混入したと判定することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プレスキャン機能を実施することによって、表面欠陥が存在するときの光ディスク再生デバイスの読み出し性能を向上させる。
【解決手段】光ディスク再生デバイスは、第１および第２のレーザと、光学アセンブリと、第１および第２の光学検波器と、光学検波器に結合されたコントローラ回路とを備える。光学アセンブリは、第１および第２のレーザからの入射光を光ディスクの表面上にそれぞれ前走査スポットおよび後走査スポットを形成するように導くように構成され、さらに、光ディスクの表面上の前走査スポットおよび後走査スポットからの対応する反射光をそれぞれの光学検波器に導くように構成される。コントローラ回路は、後走査スポットが光ディスクの表面欠陥に到達する前に前走査スポットに関連する反射光を処理することによって光ディスクの表面欠陥を識別するように構成される。 （もっと読む）

【目的】マスクに形成されたパターン自体の位置精度の均質性を検査可能な検査装置を提供する。
【構成】検査装置１００は、離散的な領域を撮像した際に取得されたそれぞれの光学画像中の図形の寸法と、対応する参照画像中の図形の寸法との間での第１の位置ずれ量を用いて、被検査領域全体における第１の位置ずれ量マップを作成するマップ作成回路１３１と、検査領域全体を撮像した際に取得されたそれぞれの光学画像中の図形の寸法と、それぞれ対応する参照画像中の図形の寸法との間での第２の位置ずれ量を用いて、被検査領域全体における第２の位置ずれ量マップを作成するマップ作成回路１３２と、第２の位置ずれ量マップを、第１の位置ずれ量マップと第２の位置ずれ量マップとの第１の差分マップで補正した第３の位置ずれ量マップに定義される各値のうち、許容値を超える値の有無を判定する判定回路１５６と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】分析精度に優れ、かつ、簡便に透明板状部材の表面に付着した汚染物を分析できる装置を提供する。
【解決手段】本発明の表面汚染分析装置１００は、透明板状部材の表面に付着した汚染物を分析する装置である。この表面汚染分析装置１００は、外部からの光を遮断する遮光容器１１０と、遮光容器１１０の中に配置され、透明板状部材を保持する保持部１２０と、透明板状部材の一方の端面に光を照射して、透明板状部材の内部に光を透過させる照明部１３０と、透明板状部材の表面に付着した汚染物を分析する表面分析手段１４０と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】ウェハ上の欠陥によって散乱される光は非常に弱く、その微弱光を高速かつ高感度に測定する検出方法としてはＰＭＴやＭＰＰＣがある。上記検出方法では、微弱光を光電変換して、電子を増倍する機能があるが、光電変換の量子効率が５０％以下と低いため、信号光を損失し、Ｓ／Ｎ比を低下させるという課題がある。
【解決手段】そこで、本発明では、光電変換をする前に直接光を増幅する光増幅に着目した。光増幅とは、信号光と励起用光源の光とを希土類を添加したファイバに導入し、誘導放出を起こして信号光を増幅する増幅方法である。本発明は、この光増幅を利用することを特徴とする。また、本発明は、この増幅率を様々な条件により変えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】安定した検査能力を維持可能とする欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】環状の弾性体２１０を有する物品２００における弾性体２１０の表面の欠陥を検査する欠陥検査装置１００であって、押圧部材１３０（押圧部材本体１３１）により弾性体２１０の外周表面を部分的に押圧することで弾性体２１０の表面の一部を押し広げつつ、物品２００を回転させることによって、弾性体２１０の外周表面全体に対する欠陥の有無を検査する欠陥検査装置１００において、弾性体２１０の外周表面の欠陥の有無を検査している最中に、押圧部材１３０の状態が正常であるか否かを監視するコンピュータ１５０を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】公差を統計学的に意味を持つ値として客観的に設定するために、予め良品を選別しておく必要が無く、作業者の能力に依存しない検査プログラムを提供する。
【解決手段】コンピュータに、同一仕様の複数の対象物のうち所定数から個別に取得されたデジタル画像群について、同一座標をもつ画素毎に特性の統計量を算出して暫定良画素範囲を作成する第一の統計ステップと、前記デジタル画像群をメモリに記憶する記憶ステップと、記憶された前記デジタル画像群における各画像に対して画素毎に前記特性が暫定良画素範囲に属するか否かを判定する仮判定ステップと、記暫定良画素範囲に属すると判定された画素毎に前記特性の統計量を算出して設定良画素範囲を作成する第二の統計ステップと、対象物から取得されるデジタル画像に対して画素毎に前記特性が設定良画素範囲に属するか否かを判定する本判定ステップとを実行させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】白米又は玄米試料が供給されると、コンピューターシステムが自動的に試料の外観品位を判別して、その個数及び構成割合を表示する、白米等の外観品位の判別において、数十個の試料を連続的に供給しても、それぞれの試料一粒ずつの品位を判別することができる、白米等の外観品位を測定する方法を提供すること。
【手段】試料台の上に置かれた白米等をカメラで撮影する工程と；原画像をフレームグラバーによってRGB又はYUVモデルに該当するデータ形態で保存する工程と；保存された画像を二進化する工程と；二進化された画像を等高線形の2次元画像を作る工程と；前記2次元画像を3次元化して、境界線を抽出する工程と；前記境界線を基準にして接している白米等の画像を分離し、それぞれの画像に対してラベリングをする工程と；ラベリングされた各画像を分析して完全米、粉状質の米、屑米、ひびわれ米、着色米等の中の一つ以上の割合及び個数を判定する工程とからなることを特徴とする白米及び玄米の外観品位測定方法。 （もっと読む）

【課題】複雑形状をした物体の外観検査において、目視では検出困難な形状の不良を定量的に評価し、検出する物体の外観検査方法及びその装置を提供することにある。
【解決手段】
物体の外観を検査する方法を、検査対象物体を載置して少なくとも一方向に連続的に移動させながら検査対象物体を撮像して検査対象物体の表面のテクスチャ情報を含む検査対象物体の画像を取得しながら検査対象物体の表面凹凸情報を取得し、この取得した検査対象物体の表面凹凸情報から検査対象物体の立体形状を復元し、取得した画像と復元した検査対象物体の立体形状とから表面テクスチャを持った物体の外観情報を得、この得られた外観情報から複数の特徴を抽出し、この抽出した複数の特徴のうち少なくとも１つの特徴を予め設定した参照データの前記少なくとも１つの特徴に対応する特徴と比較して検査対象となる物体の外観を評価するようにした。 （もっと読む）

【課題】撮像装置により撮像された画像のコントラストを高め、視認性を向上させる。
【解決手段】基板を撮像し、当該撮像された基板画像の画素値を変換する画像処理の方法において、撮像された基板画像の画素値をヒストグラム化し、ヒストグラムにおける画素値の分布に基づいて、所定の振幅、所定の周期の三角関数からなるトーンカーブＴを作成する。トーンカーブＴにより、撮像された基板画像の画素値を変換することで、高コントラストな基板画像を得る。 （もっと読む）

【課題】検査対象物（例えば半導体パターン）の微細化により、検査すべき欠陥の大きさも微小化し、欠陥からの散乱光の強度が大幅に減少するが、このような欠陥からの微小な散乱光を検出するのに適した欠陥検査装置および方法を提供する。
【解決手段】表面にパターンが形成された試料１００に光を照射するレーザ光源１１１を備える照明光学系１１０ａと、前記照明光学系により照明された該試料から発生する光を検出するセンサ１２６を備える検出光学系１２０と、前記検出光学系により検出された光に基づく画像から欠陥を抽出する信号処理手段２５０と、を備え、前記検出光学系にて光を検出する間に前記センサの増幅率を動的に変化させることを特徴とする欠陥検査装置である。 （もっと読む）

【課題】複数個所の検査と、０．１ｍｍ位の異物とか欠けの検査がより簡単に且つ安価になる画像検査装置を提供する。
【解決手段】ロボット１のハンド部３がワーク４を把持。ハンド部３の構造としては把持した状態の繰り返し位置ずれを少なくする把持子１４を持つ。さらに当該位置ずれを少なくするためにロボット１が把持したワーク４をレーザセンサ１１又はカメラ５にかざしワーク４の位置を、予め当該ワーク４の良品をレーザセンサ１１又はカメラ５にかざしたデータと比較する。このデータを基にワーク４を、ロボット１が座標変換プログラムにより位置修正する。そしてワーク４をカメラ５にかざしトリガ信号をだして撮像する。予め当該ワークの良品を登録した画像と比較して画像検査し良品であれば良品シューター９位置にワーク４を開放し、不良品であれば不良品シューター１０位置に開放する。 （もっと読む）