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Fターム[2H025AA07]の内容

フォトレジストの材料 (104,520) | 目的 (13,098) | 耐酸性 (158)

Fターム[2H025AA07]に分類される特許

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【課題】光感度に優れ、サイドエッチングが少なく、かつ薄膜での耐エッチング性、特に強酸のエッチング液を用いたエッチング条件における耐エッチング性に優れたレジスト組成物を提供する。
【解決手段】ビスフェノール型エポキシ樹脂(a1)及び二塩基酸(a2)を反応させて得られる1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物(a)と1分子中に1個以上の水酸基及び1個のカルボキシル基を有する化合物(b)とを反応させて得られる生成物(I)に、飽和又は不飽和の多塩基酸無水物(c)とエチレン性不飽和基及びイソシアネート基を有する化合物(d)を反応させて得られる不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂(A)を含有することを特徴とする樹脂組成物、該樹脂組成物を用いたレジスト組成物及びレジストパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】光感度に優れ、サイドエッチングが少なく、かつ薄膜での耐エッチング性、特に強酸のエッチング液を用いたエッチング条件における耐エッチング性に優れたレジスト組成物を提供する。
【解決手段】ビスフェノール型エポキシ樹脂(a1)、ビスフェノール系化合物(a2)、及び前記(a1)以外のエポキシ樹脂(a3)を反応させて得られる1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物(a)と1分子中に1個以上の水酸基及び1個のカルボキシル基を有する化合物(b)とを反応させて得られる生成物(I)に、飽和又は不飽和の多塩基酸無水物(c)とエチレン性不飽和基及びイソシアネート基を有する化合物(d)を反応させて得られる不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂(A)を含有することを特徴とする樹脂組成物、該樹脂組成物を用いたレジスト組成物及びレジストパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】臭素化エポキシ樹脂やハロゲン系難燃剤を用いずに優れた難燃性を得ることができ、解像性、密着性、耐熱性、耐薬品性、耐折性に優れ、燃焼時の臭化水素やダイオキシン類等の有害ガスの発生が抑制された感光性熱硬化型樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(A)1分子中に(メタ)アクリロイル基とカルボキシル基とを有し、希アルカリ溶液に可溶な樹脂成分、(B)エポキシ基を有する熱硬化成分、(C)下記一般式[1]で示される(メタ)アクリロイル基含有リン化合物、


(但し、式中、Rは水素またはメチル基を示す。)
(D)ホスファゼン化合物、(E)光重合開始剤、および(F)希釈剤を含有する感光性熱硬化型樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 感光性樹脂組成物の安定性(ポットライフ)、硬化膜の耐折性及び耐めっき性に優れた感光性樹脂組成物、感光性フィルム、永久マスクレジスト及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 (A)酸変性ビニル基含有エポキシ樹脂、(B)(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸ブチルエステルを構成モノマーとして含むバインダーポリマー、(C)光重合性化合物、及び(D)光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物であって、前記(B)(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸ブチルエステルを構成モノマーとして含むバインダーポリマーの酸価が、50〜130mgKOH/gである感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 フィルム形成性、ラミネート性及びタック性に優れ、耐めっき性、HAST耐性、はんだ耐熱性、耐クラック性及び解像性等のソルダーレジストに要求される諸特性を十分に有する感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性フィルム及び感光性永久レジストを提供する。
【解決手段】 (a)カルボキシル基を有するバインダーポリマー、(b)エチレン性不飽和基を有する光重合性モノマー、(c)カルボキシル基及びエチレン性不飽和基を有する光重合性プレポリマー、(d)光重合開始剤及び(e)エラストマーを含有し、前記(e)エラストマーの含有量が、(a)、(b)及び(c)成分の固形分総量100質量部に対して、0.1〜10質量部である感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】十分な薬品耐性を有しながら良好な剥離性をもち、かつ基材上の金属膜との間で良好な接着性を示すような樹脂パターンを得るための感光性樹脂組成物を提供すること、及びそのような樹脂パターンを使用した被エッチング基体の製造方法を提供する。
【解決手段】酸基含有アクリル系樹脂と脂環式エポキシ基含有不飽和化合物との反応により生成したアルカリ可溶性樹脂(A)と、3官能以上の多官能モノマー(B)と、窒素含有単官能モノマー(C)と、光重合開始剤(D)と、を含有する感光性樹脂組成物を使用する。 (もっと読む)


【課題】酸性及びアルカリ性条件におけるエッチング耐性を有し、かつエッチング工程終了後にアルカリ性の剥離液によって剥離することが可能な樹脂パターンをマスクとした被エッチング基体の製造方法等を提供する。
【解決手段】基体上に感光性樹脂層を形成する工程と、前記感光性樹脂層を選択的に露光、現像して樹脂パターンを形成する工程と、前記樹脂パターンをマスクとし、45℃以下の酸性又はアルカリ性のエッチング液を用いて前記基体を選択的にエッチングする工程と、50〜80℃のアルカリ性の剥離液を用いて前記樹脂パターンを剥離する工程と、を含み、前記感光性樹脂組成物が、酸基含有アクリル系樹脂と脂環式エポキシ基含有不飽和化合物との反応により生成したアルカリ可溶性樹脂と、3官能以上の多官能モノマーと、光重合開始剤とを含有する被エッチング基体の製造方法を使用する。 (もっと読む)


【課題】 10μm以上の厚膜でも均一性の高い感光性樹脂膜を形成でき、解像性、密着性、アルカリ現像液に対する充分な現像速度、メッキ液耐性に優れ、メッキ工程中の感光性樹脂膜のクラック発生や欠けも低減でき、剥離性に優れるバンプ形成用材料として好適な厚膜形成に適するポジ型感光性樹脂組成物及びこれらを用いたバンプの製造方法を提供する。
【解決手段】
(A)アルカリ可溶性ノボラック樹脂、(B)炭素数4〜100の不飽和炭化水素基を有する化合物で変性されたフェノール樹脂、(C)光により酸を生成する化合物を含有するポジ型感光性樹脂組成物であって、前記(B)成分の含有量が、前記(A)成分と前記(B)成分の総量に対して5〜50質量%であるポジ型感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 感光性ペースト組成物およびパターン形成方法に関する。より詳しくは、フ
ラットパネルディスプレイなどのディスプレイパネル、電子部品の高度実装材料および太
陽電池材料などに用いられる電極などの微細なパターンを有する回路基板の製造において
、高感度かつ高精度のパターンを形成する場合に好適に使用することができる感光性ペー
スト組成物およびパターン形成方法を得る。
【解決手段】 表面の少なくとも一部がケイ素酸化物、ジルコニウム酸化物およびチタニウム酸化物から選ばれる少なくとも1種で被覆されてなるアルミニウム粉末(A)、
ガラス粉末(B)、
アルカリ可溶性樹脂(C)、
多官能(メタ)アクリレート(D)、および
光重合開始剤(E)
を含有することを特徴とする感光性ペースト組成物 (もっと読む)


【課題】フォトレジストに配合してもフォトレジストの硬化に悪影響を与えず、硬化したフォトレジストの耐エッチング性が良好で、更に発泡性の少ないフォトレジスト用の分散剤を提供すること。
【解決手段】下記の一般式(1)で表されるフォトレジスト用反応性分散剤。


(式中、Rは酸素原子及び/または窒素原子が入ってもよい炭素数8〜22の炭化水素基を表し、Xは炭素数2〜4のアルキレン基を表し、mは2〜100の数を表し、nは1または2の数を表し、Yは水素原子、アクリル基、メタクリル基のいずれかを表す。ただし、(XO)中のオキシエチレン基の割合は50質量%以上であり、Yはアクリル基またはメタクリル基のいずれかが1つ以上入っていなければならない。) (もっと読む)


【課題】 アルカリ現像可能で、且つはんだ耐熱性、HAST耐性、耐クラック性及び耐金めっき性に優れた感光性樹脂組成物、これを用いた感光性フィルム及び永久レジストを提供する。
【解決手段】 (a)カルボキシル基及びエチレン性不飽和基を有するアクリル系ポリマ、(b)分子中に少なくとも1個以上のエチレン性不飽和基を有する光重合性モノマ、(c)光重合開始剤、及び(d)熱硬化剤を含有する感光性樹脂組成物であって、前記(a)が、分子中に下記一般式(I)に示すマレイミド又はマレイミド誘導体に由来する繰り返し単位を有する、感光性樹脂組成物。
【化4】


(一般式(I)中、Rは水素、アルキル基、シクロアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基又はアリール基を示し、nは正の整数を示す。) (もっと読む)


【課題】 フィルム又は一液型樹脂組成物にした時の保存安定性が良好で、現像性、解像性、絶縁性、耐熱性、めっき耐性、耐クラック性、HAST耐性に優れたソルダーレジスト及び層間絶縁膜を形成できる感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、ソルダーレジスト、プリント配線板の製造方法及びプリント配線板を提供すること。
【解決手段】 (A)カルボキシル基を有するポリマと、(B)エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、(C)光重合開始剤と、(D)エポキシ樹脂内包マイクロカプセルと、を含有する感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】フォトレジスト組成物、該組成物を使用したフォトレジストパターンを形成する方法、パターン化樹脂組成物及びフォトリソグラフィーの形成方法を提供する
【解決手段】 エチレン性不飽和二重結合を有する重合性水溶性化合物A、エポキシ基含有不飽和化合物B及び下記一般式(1)


で示される化合物Cを重合して得られるポリマー、並びに溶媒を含むフォトレジスト組成物であって、モノマー成分の合計量中、化合物Aの割合が0〜90重量%、化合物Bの割合が0〜50重量%及び化合物Cの割合が15〜100重量%であるフォトレジスト組成物 (もっと読む)


【課題】熱圧着時のジグ貼り付きを抑制し、特に可とう性及び耐めっき性に優れた永久マスクレジストを形成可能な感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性フィルム及び永久マスクレジストを提供する。
【解決手段】(A)カルボキシル基を有するバインダーポリマー、(B)光重合性化合物(B1)エチレン性不飽和基及び2つ以上の水酸基を有するエポキシアクリレート化合物と、ジイソシアネート化合物と、カルボキシル基を有するジオール化合物とを反応させて得られた化合物、(B2)ポリカーボネート化合物及び/又はポリエステル化合物の末端のヒドロキシル基とジイソシアネート化合物のイソシアネート基との反応に由来するウレタン結合を有し、且つ複数の末端にイソシアナート基を有するウレタン化合物と、ヒドロキシル基及びエチレン性不飽和基を有する化合物とを反応させて得られた化合物、及び(C)光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】現像液分散安定性に優れ凝集物を発生せず、良好なエッジフューズ性と追従性、高いめっき耐性を有する感光性樹脂組成物、及び該組成物からなる感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体を提供すること、ならびに、該積層体を用いたレジストパターンの形成方法、及び導体パターンの製造方法を提供する。
【解決手段】(a)カルボキシル基含有量が酸当量で100〜550であり、かつ、重量平均分子量が5000〜500000であるアルカリ可溶性高分子:20〜90質量%、(b)エチレン性付加重合モノマー:3〜70質量%、(c)特定の2,4,5−トリアリ−ルイミダゾ−ル二量体:0.1〜20質量%、及び(d)下記一般式(III)で表されるリン酸アリル化合物:1.0〜15質量%を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
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【課題】乾燥塗膜の指触乾燥性に優れ、高感度かつ柔軟であり、特に高温加湿時の絶縁抵抗の高い硬化皮膜を形成できる光硬化性樹脂組成物、そのドライフィルム及び硬化物、並びにこれらによりソルダーレジスト等の硬化皮膜が形成されてなるプリント配線板を提供する。
【解決手段】(A)下記一般式(I)で示される構造を含む感光性樹脂、(B)カルボキシル基含有樹脂、及び(C)光重合開始剤を含有する。好適には、さらに(D)熱硬化性成分を含有し、好ましくはさらに着色剤(F)を含有する光硬化性樹脂組成物。
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【課題】乾燥塗膜の指触乾燥性に優れ、高感度であり、特に高温加湿時の絶縁抵抗の高い硬化皮膜を形成できる光硬化性樹脂組成物、そのドライフィルム及び硬化物、並びにこれらによりソルダーレジスト等の硬化皮膜が形成されてなるプリント配線板を提供する。
【解決手段】(A)下記一般式(I)で示される構造を1分子中に5個以上15個以下含む感光性オリゴマー、(B)カルボキシル基含有樹脂、及び(C)光重合開始剤を含有することを特徴とするアルカリ現像性の光硬化性樹脂組成物が提供される。好適には、さらに(D)熱硬化性成分を含有し、好ましくはさらに着色剤(F)を含有するアルカリ現像性の光硬化性樹脂組成物。
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【課題】液経時安定性が良好であり、且つ現像性、耐エッチング性等の回路形成能が良好なポジ型感光性アニオン電着塗料用組成物を提供すること。
【解決手段】(A) 以下の(a)〜(c)成分を用いて共重合することにより得られる、主鎖末端にカルボキシル基を有する水溶性又は水分散性ビニル系共重合体 60〜95重量部、
(a)置換基としてカルボキシル基を有する共重合性ビニル系単量体 2〜15重量部
(b)(a)以外の共重合性ビニル系単量体 85〜98重量部
(c)カルボキシル基を有する連鎖移動剤 共重合性ビニル系単量体(a)と(b)の合計100重量部に対し、0.05〜10重量部
(B) 1分子につき、平均1から2個の感光性基を有する低分子感光剤 5〜40重量部
(C) 中和剤としての3級アミン (A)成分のカルボキシル基1モルに対し、0.2〜0.9モルを含有することを特徴とするポジ型感光性アニオン電着塗料用組成物。 (もっと読む)


【課題】透明性に優れ、アクティブマトリクス基板の絶縁膜としても使用できる高度の耐熱性、高熱履歴後の耐薬品性を有する永久レジストを提供できるポジ型感光性組成物並びに該ポジ型感光性組成物を用いた永久レジスト及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ポジ型感光性組成物は、(A)下記一般式(1)で表される基を、1分子中に少なくとも2個有するシリコーン樹脂、(B)グリシジル基を有するシロキサン化合物、(C)ジアゾナフトキノン類及び(D)有機溶剤を含有する。永久レジストは、上記ポジ型感光性組成物を基材上に塗布し、塗布物を露光し、アルカリ現像した後に、120〜350℃の温度でポストベークして製造される。
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【課題】 はく離片を細分化させる効果を有し、また感度、解像度・密着性、さらに、耐めっき性及びスカム分散性に優れる感光性樹脂組成物、この組成物を用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供する。
【解決手段】 (A)バインダーポリマーの成分(重合性単量体)として、(1)メタクリル酸を有し、かつ、その含有量が18〜23質量%であり、(2)アクリル酸エチル及びアクリル酸ブチルをいずれも有し、(3)スチレン及びその他、芳香族系化合物(重合性単量体)を含まないことを特徴とし、この(A)バインダーポリマーの成分に、さらに(B)エチレン性不飽和光重合性モノマ、(C)光重合開始剤及び増感剤を含有してなる感光性樹脂組成物、この組成物を用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法。 (もっと読む)


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