【課題】スピンエッチング等を確実に行うことのできる基板、および当該基板を用いた電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】電気光学装置用基板１０ｓは、第１基板面１０ｔ側に第１面取り面１０ｅ、第１円弧面１０ｆを備え、第２基板面１０ｕ側に、第２面取り面１０ｉ、および第２円弧面１０ｈを有している。第１円弧面１０ｆの曲率半径Ｒaは第２円弧面１０ｈの曲率半径Ｒbより大であり、第１基板面１０ｔと第１面取り面１０ｅとが成す第１面取り角度θaは、第２基板面１０ｕと第２面取り面１０ｉとが成す第２面取り角度θbより大きい。平面視における第１面取り面１０ｅの幅寸法と平面視における第１円弧面１０ｆの幅寸法との和ｄaは、平面視における第２面取り面１０ｉの幅寸法と平面視における第２円弧面１０ｈの幅寸法との和ｄbより大である。 （もっと読む）

【課題】化学強化後に切断してなるものであって、耐傷性に優れ、ディスプレイの表示特性を向上可能なガラス板を提供する。
【解決手段】化学強化後に切断してなり、圧縮応力が残留する表面層２１および裏面層２２と、表面層２１と裏面層２２との間に形成され、引張応力が残留する中間層２３とを有し、切断面である側端面１３に、圧縮応力が残留する領域３１、３２と、引張応力が残留する領域３３とを有するガラス板１０において、中間層２３の平均残留引張応力が２０ＭＰａ以上であって、ガラス板１０の表面１１のうち、切断面である側端面１３から１０ｍｍ以内の領域に照射され、且つ、表面１１と直交する光によって測定したガラス板１０のレタデーションが１．０ｎｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 液晶表示装置において、低コストで熱歪みを低減する
【解決手段】 反射型液晶表示装置は、シリコン基板２０４と、シリコン基板２０４と対向配置される対向基板２０３と、シリコン基板２０４と対向基板２０３との間に封止される液晶層２０９とを有する反射型液晶表示パネル２１０と、シリコン基板２０４の一面と接し、反射型液晶表示パネル２１０が発する熱を放熱する放熱部材２０６と、反射型液晶表示パネル２１０と放熱部材２０６とを保持する保持部材２０５と、を備え、保持部材２０５は、シリコン基板２０４の熱膨張率と略等しい熱膨張率を有する材料よりヤング率が小さい材料で構成される。 （もっと読む）

【課題】光ストレス、熱、湿気等の過酷な環境下で長時間の連続駆動を行う場合であっても良好な電気的特性が維持される液晶配向膜を形成可能な液晶配向剤を提供する。
【解決手段】［Ａ］ポリアミック酸及びこのポリアミック酸を脱水閉環してなるポリイミドからなる群より選択される少なくとも１種の重合体、並びに［Ｂ］酸化防止剤を含有する液晶配向剤であって、［Ａ］重合体が、テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを反応させて得られる重合体であり、テトラカルボン酸二無水物として１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン等を含むか、又はジアミンとして１−（４−アミノフェニル）−２，３−ジヒドロ−１，３，３−トリメチル−１Ｈ−インデン−５−アミン等を含む。 （もっと読む）

【課題】基板上の場所によってばらつきのないより均一な膜のパターニング形状を得るエッチング方法およびエッチング処理装置、を提供する。
【解決手段】エッチング方法は、１断目エッチング処理槽６１において、温度ｔ１を有するエッチング液を用いて、金属膜の表層を除去する工程と、金属膜の表層を除去する工程の後に、２〜４段目エッチング処理槽６２〜６４において、温度ｔ１よりも高い温度ｔ２を有するエッチング液を用いて、金属膜をパターニングする工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板の下面に非接触で基板を搬送し、基板を高速かつ安定的に移動させながら、基板の汚染やローラー痕の生成なく、基板の上下両面又は下面のみに処理を行う、非接触浮上搬送機能を有する基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板の上面と下面の両方又は下面のみに、水による洗浄処理、薬液による化学的処理、水によるリンス処理又は空気、窒素ガスといった気体による乾燥処理のいずれかの処理を行う、複数の基板処理ユニット７、８、９を備えてなる基板処理装置が、基板１の下面に向かって水、薬液、空気、窒素ガスといった流体を噴出して、基板１を浮上させ、基板１の下面に非接触でその位置を保持する、複数配置された基板浮上ユニット１０と、基板１の左右両側のエッジ部に水平方向から接触して、基板１を移動させる複数配置された搬送ローラー１２を有する基板搬送ユニットと、を備えている。 （もっと読む）

【課題】使用者の状況（例えば背丈）に応じた視認性のよい表示画像を実現する。
【解決手段】出射光が偏光した画像表示装置１と組み合わせて用いられる画像制御装置１００であって、画像表示装置１の前面側に配置される光学素子５と、画像表示装置１００の使用者の高さを検出するセンサ７と、センサ７によって検出された使用者の高さに応じた電圧で光学素子５を駆動する光学素子駆動部６を備える。光学素子５は、第１基板及び第２基板と、第１基板上に設けられ、光学素子駆動部６と接続された第１電極と、第１基板上に設けられたプリズムアレイと、第１電極及びプリズムアレイの上側に設けられた第１配向膜と、第２基板上に設けられ、光学素子駆動部６と接続された第２電極と、第２電極の上側に設けられた第２配向膜と、第１基板と第２基板の間に設けられた液晶層を有する。 （もっと読む）

【課題】洗浄工程数を減らし、さらに、基板に対する汚染粒子の再付着を防止する。
【解決手段】基板洗浄装置１は、基板Ｗを搬送する搬送部２と、その搬送部２により搬送される基板Ｗの被洗浄面Ｓに、酸化膜除去可能な液体中に酸化性ガスを溶存状態および微小気泡状態で有する洗浄液を供給する供給ノズル３とを備え、その供給ノズル３は、被洗浄面Ｓ上に到達した微小気泡がサイズ変化を抑えつつ基板Ｗの外縁まで移動する流速で洗浄液を供給する。 （もっと読む）

【課題】剥離帯電を抑制することができ、白ムラや白曇りが生じ難いフラットパネルディスプレイ用のガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス基板を製造するとき、半導体素子が形成されるガラス基板の半導体素子形成面と反対側のガラス表面を洗浄し、洗浄された前記ガラス表面にエッチング処理を施す。前記エッチング処理が施された前記ガラス表面のＲａ（原子間力顕微鏡により測定される表面凹凸の算術平均粗さ）が０．３（ｎｍ）以上１．０（ｎｍ）以下であって、Ｒz−Ｒzjis（Ｒzjisは原子間力顕微鏡により測定される表面凹凸の１０点平均粗さであり、Ｒzは原子間力顕微鏡により測定される表面凹凸の最大高さである）が０．２（ｎｍ）以下になるように前記洗浄処理と前記エッチング処理が行われる。 （もっと読む）

【課題】 洗浄液の使用量を低減させながら、パーティクルや異物が基板に固着することを防止して、清浄に基板を洗浄することが可能な基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】 洗浄液を貯留する貯留槽１２と、貯留槽１２に貯留された洗浄液をガラス基板１００の表面に供給するスプレーノズル１と、ガラス基板１００に供給された洗浄液を貯留槽１２に回収する回収槽１９とを備えた第１洗浄部１０１と、下方を向く洗浄液吐出口を有する洗浄液吐出ノズル２と、洗浄液の液溜まりを保持する洗浄液保持面を備えた液溜まり保持部材３と、ガラス基板１００の裏面に純水を供給する裏面洗浄部４とを備えた第２洗浄部１０２と、第１洗浄部１０１におけるスプレーノズル１と、第２洗浄部１０２における洗浄液吐出ノズル２との間に配設されガラス基板１００の表面から洗浄液を除去する上下一対のエアナイフ８とを備える。 （もっと読む）

【課題】 一対の大判透明基板１をエッチングした後でも、以降の工程において安全にハンドリングができ、且つ端面にクラックの入り難い液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 複数の液晶パネルがレイアウトされた大判の透明基板を用いて、複数の液晶パネルを一括して作製する液晶表示装置の製造方法であって、対向する一対の透明基板１の少なくとも一方をエッチングにより薄型化する工程を含むとともに、エッチング工程よりも前に、対向する一対の透明基板の少なくとも一方の基板の外表面の外周部にマスキング処理８を施すこととした。 （もっと読む）

【課題】基板を洗浄する回転ブラシに、汚染粒子が静電吸着されることを防止することができる基板洗浄装置、基板洗浄方法、表示装置の製造装置及び表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板洗浄装置１は、基板９を搬送する搬送機構２と、基板９との摩擦によりマイナスに帯電する材料で形成され、基板９に接触して回転することにより基板９に付着している汚染粒子を除去する回転ブラシ３と、マイナスに帯電している微小気泡を含む洗浄液を回転ブラシ３に向けて供給する第１洗浄液供給部６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】裏面洗浄の際に洗浄液が基板裏面に付着するのを抑制して洗浄効率の向上を図れるようにすると共に、装置の小型化を図れるようにする。
【解決手段】基板Ｇを水平状態に保持する基板保持部１０、基板保持部を鉛直軸回りに回転する回転駆動部２０、基板保持部にて保持された基板の裏面に洗浄液を吐出する洗浄液供給部５０とを具備する基板洗浄装置において、基板保持部は、基板を支持する支持部材１４を立設する環状部材１３と、回転駆動部に連結される中空回転軸１１の頂部に設けられるボス部１２と、ボス部と環状部材とを連結する複数の中空状スポーク１６と、を具備する。洗浄液供給部は、洗浄液供給源５３に接続され、中空回転軸内に遊貫される洗浄液供給筒軸５１と、洗浄液供給筒軸内を流れる洗浄液をスポークの中空部１６ａに案内すべくボス部に設けられる連通流路５４と、スポークの軸方向に沿って設けられる複数の裏面洗浄ノズル５５とを具備する。 （もっと読む）

【課題】ガラス板に破損を生じさせることなく、ガラス板に対して端面から所定の距離を置いた位置に簡単かつ確実にスクライブ線の開始点を設定するスクライブ方法およびスクライブ装置を提供する。
【解決手段】ガラス板１の端面１ａに案内板４の端面４ａを当接させる。案内板４の端面４ａの一部をガラス板１の表面から上方に突出させ、ガラス板１と案内板４との境界部に段差６を形成する。この状態で、ホイールカッター３を案内板４の表面からガラス板１の表面に向かって走行させる。そして、段差６によって、境界部に到達したホイールカッター３を、ガラス板１の端面１ａから所定の距離を置いた位置でガラス板１の表面に乗り移らせ、スクライブ線２の開始点をガラス板１の端面から離間させる。 （もっと読む）

【課題】目盛の視認性を高めることを目的とする。
【解決手段】第１光透過性基板１２には開口部２２内に第１目盛部２４が形成され、第２光透過性基板３２には第２目盛部４４が形成されている。第２光透過性基板３２には、第１金属層３４、半導体層３６及び第２金属層３８が積層され、薄膜トランジスタ５０は、第１金属層３４の一部、半導体層３６の一部及び第２金属層３８の一部を含むように構成され、第２目盛部４４は、第２金属層３８の他の一部から構成され、第２目盛部４４の下に、第２目盛部４４からはみ出すように、半導体層３６の他の一部が形成され、第２目盛部４４及び半導体層３６の下に、第１金属層３４の他の一部が、開口部２２を遮蔽する大きさで形成されている。 （もっと読む）

【課題】液晶層を分割するガラス板として薄板ガラスを用いても、製造工程において薄板ガラスが割れるおそれを低減させることができる液晶レンズの製造方法及び液晶レンズを得る。
【解決手段】一対の透明基板１１，１２に挟まれた液晶層１９ａ，１９ｂ，１９ｃに電界を印加して液晶分子の配向状態を変化させる液晶レンズであり、透明基板１１，１２と略平行に配置される薄板ガラス１３，１４によって分割された液晶層１９ａ，１９ｂ，１９ｃを有する液晶レンズ１０を製造する方法であって、複数の液晶レンズユニットが長手方向に配列されているマザーの液晶レンズを液晶レンズユニット毎に切断することによって、液晶レンズユニットを取り出して液晶レンズ１０を製造する製造方法であり、薄板ガラス１３，１４となるガラスリボンの長手方向に沿って延びる側面１３ｃ，１３ｄ，１４ｃ，１４ｄが、長手方向に垂直な方向での断面形状として、外側に向かって膨らむ曲面形状を有することを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】視差バリア用液晶パネルの封止材の突出量を最小限にすることを目的とする。
【解決手段】液晶４６表示装置は、液晶表示パネル１０の上に重ねられた視差バリア用液晶パネル３２と、を有し、視差バリア用液晶パネル３２は、液晶表示パネル１０側に配置される下基板３６と、液晶表示パネル１０とは反対側に配置される上基板３４と、上基板３４及び下基板３６の間に配置されて切れ目４４を有するように空間を囲むシール４２と、空間に充填された液晶４６と、シール４２の切れ目４４を封止する封止材４８と、を含み、封止材４８は、シール４２の切れ目４４からはみ出して上基板３４及び下基板３６の端面に付着し、上基板３４は、下基板３６よりも薄く、上基板３４及び下基板３６の厚み方向で、上基板３４の端面の幅は、下基板３６の端面の幅よりも狭い。 （もっと読む）

【課題】基板表面に付着したパーティクル等の汚染物質を除去する基板処理方法および基板処理装置において、スループットの低下を招くことなく、しかも優れた面内均一性でパーティクル等を除去する。
【解決手段】基板Ｗの回転中心Ｐ（０）から基板Ｗの外縁側に離れた初期位置Ｐ（Ｒin）の上方に冷却ガス吐出ノズル７を配置し、回転している基板Ｗの初期位置Ｐ（Ｒin）に冷却ガスを供給して、初期位置Ｐ（Ｒin）および回転中心Ｐ（０）を含む初期領域に付着するＤＩＷを凝固させる。そして、初期凝固領域ＦＲ0の形成に続いて、ノズル７から冷却ガスを供給しながら初期位置Ｐ（Ｒin）の上方から基板Ｗの外縁部の上方まで移動させることによって、凝固される範囲を基板Ｗの外縁側に広げて基板表面Ｗｆに付着していた全ＤＩＷ（凝固対象液）を凝固して液膜ＬＦ全体を凍結する。 （もっと読む）

【課題】例えば、配向膜をガラス基板に平坦性よく塗布することができ、かつ、額縁領域をできるだけ狭くすることができる印刷塗布方法を提供する。
【解決手段】チャンバ内を減圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板ＧＳの外周部にだけインクＩＮＫを塗布する。続いて、チャンバ内の圧力を大気圧（常圧）に回復した後、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板ＧＳの外周部よりも内側領域である内周部にインクＩＮＫを塗布する。 （もっと読む）

【課題】無機配向膜が形成された基板を適正に再利用できる基板の製造方法を提供する。
【解決手段】対向基板に無機配向膜を形成する工程と、無機配向膜の欠陥を検査する工程と、検査工程において無機配向膜に欠陥が検出された場合に、無機配向膜をフッ素系のエッチング液を用いて除去する工程と、その後、対向基板を純水洗浄する工程と、対向基板に再び無機配向膜を形成する工程と、を有する。 （もっと読む）