【課題】パターンレシオに依存することなく寸法均一性に優れたレジストパターンを形成できる方法を提供することを課題とする。
【解決手段】半導体基板上に所望のレジストパターンを形成するレジストパターン形成方法において：前記半導体基板上にレジスト層を形成し；前記所望のレジストパターンの周辺に余剰部分を形成するように、前記レジスト層が形成された半導体基板に対して第１の露光を行い；前記第１の露光工程の後、第１の現像処理を行い；前記第１の現像処理の後、第１の洗浄処理を行い、前記余剰部分を有する第１のレジストパターンを形成し；その後、前記第１のレジストパターンが形成された前記半導体基板に対して、前記所望のレジストパターンに対応する第２の露光を行い；前記第２の露光工程の後、第２の現像処理を行い；前記第２の現像処理の後、第２の洗浄処理を行い、前記余剰部分の除去された前記所望のレジストパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】安価で、かつ薄膜で、抵抗値が低く、高精細なパターンをガラス基板上に形成可能な感光性ペースト組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ１）アルミニウム粉末を３０〜５重量％および（Ａ２）アルミニウム合金粉末および亜鉛粉末から選ばれる少なくとも１種を７０〜９５重量％含有する導電成分（Ａ）、
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、
多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）ならびに
光重合開始剤（Ｅ）を含有することを特徴とする感光性ペースト組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、現像後解像性および密着性が良好で、現像液分散安定性に優れ凝集物が発生しない光重合性樹脂組成物、及び該組成物を含有する光重合性樹脂層を有する光重合性樹脂積層体を提供すること、ならびに、該積層体を用いたレジストパターンの形成方法、及び導体パターン等の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】（A）カルボキシル基含有量が酸当量で１００〜６００であり、特定のモノマーを共重合成分として５０質量％以上含有し、かつ、重量平均分子量が５０００〜５０００００であるバインダー用樹脂：１０〜９０質量％、（ｂ）光重合性不飽和化合物：５〜７０質量％、（ｃ）光重合開始剤０．０１〜２０質量％を含有してなる光重合性樹脂組成物であって、該（ｂ）光重合性不飽和化合物が、特定の化合物を含有することを特徴とする光重合性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、反射率を低減でき、エッチング耐性が高く、高い耐熱性、耐溶媒性を有し、特に基板のエッチング中によれの発生がないレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜材料及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位ａ１を有するポリフルオレンを含有することを特徴とするレジスト下層膜材料。
【化３７】
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【課題】三次元表面パターンを有するユニットを形成する方法及びこの方法の使用の提供。
【解決手段】ベース層３上に、第１処理ステップにてフォトレジストを適用。第２処理ステップにて、予め定められたマスキング露光１３をフォトレジスト層９に施す。第３処理ステップにて、フォトレジスト層９の一部を現像除去し、犠牲層領域２５を有する初期表面パターンを得る。第４処理ステップにて、初期表面パターンを覆うコーティング２９、３１を、好ましくは交代層システムとして、特にスパッタリング法で適用。第５処理ステップにて、犠牲層領域２５を不安定化させるため初期表面パターンにエネルギーを適用。第６処理ステップにて、初期表面パターンに予め定められた処理温度にて高圧液体ジェット３３を作用させ、それにて犠牲層領域２５を覆うコーティング２９の少なくとも一部を最終表面パターンを得るために機械的に除去、又は少なくともこじ開ける。 （もっと読む）

【課題】耐湿熱性に優れ、硬化物が高温で高い弾性率を有し、中空構造保持性にも優れる感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたリブパターンの形成方法、及び電子部品の提供。
【解決手段】（Ａ）ポリアミック酸と、（Ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物と、（Ｃ）少なくとも一つのメチロール基又はアルコキシアルキル基を有する熱重合性化合物と（Ｄ）光重合開始剤とを含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】露光量が少ない場合にも、露光により発生された酸の拡散制御性に優れた樹脂組成物層を形成できるバイオチップ製造用樹脂組成物及びこれを用いたバイオチップの製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）含窒素基を有する重合体と、（Ｂ）増感剤と、（Ｃ）感放射線性酸発生剤と、（Ｄ）下記一般式（１）で表される化合物と、（Ｅ）溶媒とを含有するバイオチップ製造用樹脂組成物。
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【課題】剛直な構造を有するポリマーを含んでも感度、解像度に優れた良好なパターンを形成でき、回路形成用基板用途として適切な諸特性を有する感光性樹脂組成物、この感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法及び電子部品を提供する。
【解決手段】回路形成用基板の層間絶縁膜又は保護膜用の感光性樹脂組成物であって、（ａ）下記式（Ａ）で表わされる構造単位を有するポリマーと、（ｂ）活性光線照射によりラジカルを発生する化合物で、下記式（Ｂ）で表される構造を含む化合物と、（ｃ）溶媒とを含有してなる感光性樹脂組成物。
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【課題】無電解メッキ面への密着が良好で、かつアルカリ性条件下での光硬化したメッキレジストの除去が容易で、再付着しない微細配線可能なメッキレジストを提供する。
【解決手段】下記一般式で表される有機基（ａ）を１分子中に２個以上含有するラジカル重合性化合物（Ａ）、多官能チオール化合物（Ｂ）、親水性ポリマー（Ｃ）、光ラジカル重合開始剤（Ｄ）及び酸発生剤（Ｅ）を必須成分として含有し、光照射とアルカリ現像によりパターン形成可能で、該光照射した部分を１００℃以上の加熱処理を行うことでアルカリ溶解性にすることを特徴とした感光性樹脂組成物（Ｑ）。
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【課題】塗布性に優れ、層間絶縁膜として用いることのできるシリカ系被膜の形成が比較的容易であり、かつ形成されるシリカ系被膜が耐熱性、解像性及び透明性に優れる感光性樹脂組成物及びそれを用いたシリカ系被膜の形成方法を提供すること。
【手段】（ａ）成分：第１のシラン化合物を加水分解縮合して得られる第１のシロキサン樹脂と第２のシラン化合物との混合物を加水分解縮合し、更に加熱処理して得られる第２のシロキサン樹脂と、（ｂ）成分：フェノール類又はアルコール類とナフトキノンジアジドスルホン酸とのエステル化合物とを含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】塗布性に優れ、層間絶縁膜として用いることのできるシリカ系被膜の形成が比較的容易であり、かつ形成されるシリカ系被膜が耐熱性、解像性及び透明性に優れる感光性樹脂組成物及びそれを用いたシリカ系被膜の形成方法を提供すること。
【手段】（ａ）成分：第１のシラン化合物を加水分解縮合して得られる第１のシロキサン樹脂と、第２のシラン化合物を加水分解縮合して得られる第２のシロキサン樹脂とを混合し、さらに加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂と、（ｂ）成分：フェノール類又はアルコール類とナフトキノンジアジドスルホン酸とのエステル化合物とを含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】露光光の反射を抑制し良好なパターン形成が可能であり、ケイ素含有反射防止膜の上層であるフォトレジスト膜、下層であるナフタレン骨格を有する有機膜との間で良好なドライエッチング特性を有し、保存安定性の良好なケイ素含有反射防止膜を形成するための、熱硬化性ケイ素含有反射防止膜形成用組成物、この熱硬化性ケイ素含有反射防止膜形成用組成物から形成されるケイ素含有反射防止膜が形成された基板、更にこれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】少なくとも、ナフタレン骨格を有する下層膜としての有機膜の上に、１９３ｎｍにおける屈折率ｎと消衰係数ｋが以下の式の関係を満たすケイ素含有反射防止膜を形成可能な熱硬化性ケイ素含有反射防止膜形成用組成物。２ｎ−３．０８≦ｋ≦２０ｎ−２９．４であり、０．０１≦ｋ≦０．５ （もっと読む）

【課題】 層間絶縁膜として用いることのできるシリカ系被膜の形成が比較的容易であり、かつ透明性及び解像性に優れるシリカ系被膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】 （ａ）成分：下記一般式（１）で表される化合物を含む第１のシラン化合物を加水分解縮合して得られる第１のシロキサン樹脂と、（ｂ）成分：上記（ａ）成分が溶解する溶媒と、（ｃ）成分：フェノール類又はアルコール類とナフトキノンジアジドスルホン酸とのエステルと、を含有する感光性樹脂組成物を用いてシリカ系被膜を形成する方法であって、上記感光性樹脂組成物からなる塗膜を３００℃未満の温度で加熱硬化する加熱工程を有する、シリカ系被膜の形成方法。
【化１】



［式（１）中、Ｒ^１は有機基を示し、Ａは２価の有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、同一分子内の複数のＸは同一でも異なっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】 ガラス基板のエッチング加工の際、所望の領域のみを選択的にエッチングすることが可能な耐フッ酸性、ガラス基板に対する密着性を有するガラスエッチング用レジスト樹脂組成物、およびそれを用いた回路形成方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）ポリアリレート樹脂、（Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）シランカップリング剤を含有することを特徴とするガラスエッチング用レジスト樹脂組成物、およびそのガラスエッチング用レジスト樹脂組成物を用いた回路形成方法。 （もっと読む）

【課題】クラックが生じにくく、高コントラストの金属酸化物薄膜パターンを製造できる感光性組成物、感光性金属錯体、塗布液、及び金属酸化物薄膜パターンの製造方法を提供すること。
【解決手段】式(1)で表される感光性組成物。式（１）におけるＲ¹〜Ｒ⁴のうちの少なくとも１つは、式（２）〜（５）のいずれかである。式（２）〜（４）におけるＲ¹³は、式（６）又は式（７）である。式（１）におけるＲ¹〜Ｒ⁴のうち、式（２）〜（５）のいずれでもないもの、及び式（６）〜（７）におけるＲ⁵〜Ｒ⁸は、それぞれ、下記（ａ１）〜（ａ１４）のうちのいずれかである。式（５）におけるＹは、下記（ｂ１）〜（ｂ５）のうちのいずれかである。式（６）におけるＲ⁹〜Ｒ¹⁰及び式（７）におけるＲ⁹〜Ｒ¹²は、それぞれ、下記（ｃ１）〜（ｃ１５）のうちのいずれかである。 （もっと読む）

【課題】（１）露光光に対して高感度で、かつ低温焼成が可能な感放射線性組成物であり、しかも（２）薄膜であっても低い誘電正接および高い誘電率を有し、かつ解像度および電気絶縁性に優れた誘電体を形成可能な感放射線性組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）感放射線性酸発生剤、（Ｃ１）アルキルエーテル化されたアミノ基を分子中に少なくとも２つ有する化合物、（Ｃ２）オキシラニル基含有化合物、（Ｄ）溶剤、および（Ｅ）誘電性無機粒子を含有し、前記化合物（Ｃ１）１００重量部に対して、前記化合物（Ｃ２）を５０〜２００重量部の量で含有する誘電体形成用感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】、界面活性剤によるパターン倒れの防止効果を阻害することなく、ＣＤシフトの発生を抑制する、リソグラフィー用洗浄液及びこの洗浄液を用いたパターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】アニオン性界面活性剤（Ａ）、アミン化合物（Ｂ）、及び水（Ｃ）を含有するリソグラフィー用洗浄液。本発明のリソグラフィー用洗浄液においては、アニオン系界面活性剤とアミン化合物とがリソグラフィー用洗浄液中で塩を形成し、アニオン系界面活性剤がレジスト膜に浸透することを抑制できる。このため、本発明のリソグラフィー用洗浄液を用いてレジストパターンの形成方法を行ったとしても、レジスト膜を溶解することがなく、ＣＤシフトの発生を効果的に抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】遮光性を有し、解像度及び基板への密着性が良好な画像表示装置用の隔壁を、簡便に作業性よく形成することができる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法の提供。
【解決手段】画像表示装置の隔壁を形成するための感光性樹脂組成物であって、前記感光性樹脂組成物が、（Ａ）（メタ）アクリル酸ブチル及び（メタ）アクリル酸を単量体単位として有するバインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）黒色顔料を含み、前記（Ｃ）光重合開始剤が、アクリジン系化合物、及びベンジルアルキルケタール系化合物を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 より微細なパターンを簡便かつ効率的に形成可能であり、半導体の製造プロセスに適用することのできる、実用性の高いパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】 少なくとも、（１）基板上に有機下層膜を成膜し、有機下層膜上にフォトレジストパターンを形成する工程と、（２）フォトレジストパターンに、アルカリ性物質を含むアルカリ性溶液を保持させ、その後過剰なアルカリ性溶液を除去する工程と、（３）フォトレジストパターンに、アルカリ性物質の作用により架橋可能なシロキサンポリマー溶液を塗布して、フォトレジストパターン近傍で架橋させて架橋部を形成する工程と、（４）未架橋のシロキサンポリマー及びフォトレジストパターンを除去する工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 水系現像液によるスプレー現像において高速印刷に対応できる現像時間を満足する現像性を有し、且つ高速印刷においても画像再現性に優れる感光性フレキソ樹脂印刷原版を得られる樹脂組成物およびこれを支持体上に設けたフレキソ印刷原版を得ることを目的とする。
【解決手段】 少なくとも（Ａ）水分散ラテックスから得られる疎水性重合体、（Ｂ）親水性重合体、（Ｃ）エチレン性二重結合不飽和化合物及び（Ｄ）光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物において、(Ａ）成分の水分散ラテックスから得られる疎水性重合体がポリブタジエン、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体及びメチルメタクリレート系共重合体の３種類からなることを特徴とするフレキソ印刷版用感光性樹脂組成物、および該樹脂組成物と支持体とが積層された印刷用感光性樹脂原版。 （もっと読む）