【課題】塗布方法としてスリット塗布法を採用した場合であっても、優れた膜厚均一性を示し、且つ高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成しうる現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物ならびに高耐熱性、高耐溶剤性、高透過率、低誘電率等の諸性能に優れる層間絶縁膜を提供すること。
【解決手段】上記感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）１，２−キノンジアジド化合物および（Ｃ）シリコーン鎖を有する特定の重合体を含有する。層間絶縁膜は、上記の感放射線性樹脂組成物から形成される。 （もっと読む）

【課題】微細なレジストパターンが形成された基板からリンス液を除去する際にパターン倒れを防止でき、また、疎水化剤の使用量を低減し、基板処理を行う際の処理コストを低減できる基板処理方法を提供する。
【解決手段】レジストパターンが形成された基板にリンス液を供給するリンス液供給工程Ｓ１２と、レジストパターンを疎水化する第１の処理液の蒸気を含む雰囲気で、リンス液が供給された基板からリンス液を除去するリンス液除去工程Ｓ１４〜Ｓ１６とを有する。 （もっと読む）

【課題】低比誘電率の硬化パターンを形成できるネガ型感放射線性組成物、それを用いた硬化パターン形成方法および該硬化パターン形成方法により得られる硬化パターンの提供。
【解決手段】（Ａ）重合体、（Ｂ）感放射線性酸発生剤および（Ｃ）溶剤を含有するネガ型感放射線性組成物であって、前記重合体（Ａ）が、（ａ１）下記一般式（１）で表される加水分解性シラン化合物および（ａ２）下記一般式（２）で表される加水分解性シラン化合物から選ばれる少なくとも一種の加水分解性シラン化合物を加水分解縮合させて得られる重合体であって、重合体（Ａ）に含まれる全ての構成単位の合計を１００モル％とするとき、前記化合物（１）由来の構成単位の含有割合が、８０〜１００モル％であるネガ型感放射線性組成物。


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【課題】 高い寸法安定性と十分な機械強度を有し、かつ微細なパターニングが可能な優れた感光性を付与することが可能な多孔質ポリイミド樹脂膜を得ることができる樹脂組成物、及びこれらの樹脂組成物を用いて得られる多孔質ポリイミド、当該多孔質ポリイミドからなる保護膜を有するプリント配線板を提供する。
【解決手段】 ポリイミド前駆体溶液及び下記（ａ）〜（ｅ）の要件を充足する空孔形成剤を含有する樹脂組成物を用いることで、所望の多孔質ポリイミドを得ることができる。
（ａ）重量平均分子量１０００〜２００万
（ｂ）前記ポリイミド前駆体溶液に難溶乃至は不溶
（ｃ）窒素雰囲気下で加熱したときの質量減少率が５０％となるときの温度（以下、「熱分解温度」という）が３５０℃以下
（ｄ）アスペクト比１．０〜２．０、
（ｅ）平均粒径１００ｎｍ〜１０μｍ （もっと読む）

【課題】 酸化亜鉛系結晶からなる薄膜の微細加工において、現像及びホトレジスト剥離のいずれの処理においても酸化亜鉛系結晶からなる薄膜の溶解を抑制し、導電特性及び可視光透過性の大幅な劣化を生ずることなくパターニング可能な方法の提供すること。
【解決手段】 基板上に酸化亜鉛系結晶からなる薄膜を成膜し、該薄膜表面にホトレジストを形成した後にパターンマスクを介して露光し、前記ホトレジストの露光部を現像液により現像処理を施して前記露光部のホトレジストを除去し、残存した前記ホトレジストを介して前記薄膜にエッチングを施した後に剥離液により前記ホトレジストを剥離処理するパターニング方法であって、前記現像液及び前記剥離液のｐＨが１０．５〜１３．５であり、且つ液温が１５〜５０℃の温度範囲であることを特徴とする酸化亜鉛系結晶からなる薄膜のパターニング方法とする。 （もっと読む）

【課題】硬化後の基板との密着性に優れ、ワニスの保存安定性に優れるポジ型感光性樹脂組成物を得る。
【解決手段】（ａ）アルカリ性水溶液に可溶なポリマーと、（ｂ）光の照射を受けて酸を発生する化合物と、（ｃ）酢酸と、（ｄ）ウレア結合を有するシランカップリング化合物と、を含有してなることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】硬化物の基板密着性を向上させることができ、耐薬品性、ワニスの保存安定性に優れるポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）アルカリ性水溶液に可溶なポリマーと、（ｂ）光の照射を受けて酸を発生する化合物と、（ｃ）ヒドロキシ基を有するシランカップリング化合物と、（ｄ）ウレア結合を有するシランカップリング化合物と、を含有してなり、（ｃ）成分が（ａ）成分１００重量部に対して０．１重量部超２０重量部以下であり、（ｄ）成分が（ａ）成分１００重量部に対して０．１重量部以上２０重量部未満であり、（ｃ）成分の重量部が（ｄ）成分の重量部より多いことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】水置換工程における現像液から水洗水への水置換の際に、水洗槽に混入した現像液の成分が、循環して基板に汚れを発生させない現像装置を提供する。
【解決手段】水置換工程の水置換槽Ｓ４へ水洗水を供給する循環タンクＳＴ１に、循環タンク内の水洗水の現像液成分による汚染度を計測する測定器４０を備え、測定器で計測された汚染度が予め設定された公差外となった際に、循環タンク内の水洗水の排水Ｄ３及び循環タンク内へ水洗槽から回収された水洗水の補充を行い、汚染度を公差内に調整する。現像液成分による汚染度として水洗水の導電率を用いる。循環タンクとして２基の循環タンクを並列に設け、一方の循環タンク内の水洗水の汚染度が公差外となった際に、他方の循環タンクに切り換えること。 （もっと読む）

【課題】保存安定性、放射線感度、耐メルトフロー性に優れるとともに、表面硬度、屈折率、耐熱性、透明性、低誘電性等の諸性能に優れる層間絶縁膜を形成可能なポリシロキサン系ポジ型感放射線性組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］ポリシロキサン、［Ｂ］光酸発生剤又は光塩基発生剤、及び［Ｃ］金属キレート化合物を含有するポジ型感放射線性組成物である。当該ポジ型感放射線性組成物では、［Ａ］ポリシロキサンが、［Ｃ］金属キレート化合物の存在下での加水分解性シラン化合物の加水分解縮合により得られるポリシロキサンであり、［Ｂ］光酸発生剤として、キノンジアジドを含有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ポリイミドベースとその上に形成された導体パターンからなるフレキシブルプリント配線板に、塗布によりカバーレイ層を形成した場合に、カバーレイ層に対し、ポリイミドベース並びに導体パターンに対し良好な密着性を付与し、しかも、また、導体パターンの端子部に対応するカバーレイ層の領域をフォトリソグラフ技術により開口し、露出した導体パターンに直に電解メッキにより金属を析出させても、開口部内底隅から導体パターンとカバーレイ層との境界にメッキ液の差し込みを防止し、意図しない部分に金属メッキが析出してしまうことを防止する。
【解決手段】シロキサンポリイミド樹脂と、感光剤と、架橋剤とを含有する感光性ポリイミド組成物に、ビスムチオールを配合する。 （もっと読む）

【課題】パターニングされた場合であっても十分な気密封止性を得ることができる感光性接着剤組成物を提供する。
【解決手段】露光及び現像によってパターニングされた後に被着体に対する熱圧着性を有し且つアルカリ現像が可能な感光性接着剤組成物１ａであって、露光後、更に加熱硬化された後の１１０℃における貯蔵弾性率が１０ＭＰａ以上である、感光性接着剤組成物。 （もっと読む）

【課題】タングステンに対する腐食抑制機能に優れ、かつ、レジスト膜等の除去性能にも優れたリソグラフィー用洗浄液、及びこのリソグラフィー用洗浄液を用いた配線形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るリソグラフィー用洗浄液は、４級アンモニウム水酸化物と、水溶性有機溶剤と、水と、無機塩基と、下記一般式（１）で表される防食剤とを含有する。


（式中、Ｒ_１は炭素数１〜１７のアルキル基又はアリール基を示し、Ｒ_２は炭素数１〜１３のアルキル基を示す。） （もっと読む）

【課題】１種類の感放射線性樹脂組成物で層間絶縁膜、保護膜及びスペーサーを形成することが可能であり、層間絶縁膜、保護膜においては高感度、高平坦性、高密着性、高透過率、スペーサーにおいては高解像度、高感度を達成できる、さらに、その形成工程においては、昇華性が低い光重合開始剤を使用することにより、べーク炉の汚染や露光時のフォトマスクの汚染を防止することができる感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】（Ａ）カルボキシル基を有し、かつエポキシ基または（メタ）アクリロイル基から選ばれる少なくとも一種を有する重合体、
（Ｂ）重合性不飽和化合物、
（Ｃ）一般式（１）で示される感放射線性重合開始剤を含有する感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】リン酸モノエステル及びリン酸ジエステルの混合物から容易にリン酸モノエステルを精製することができるリン酸エステルの精製方法を提供すること、並びに、ポリマー合成時のゲル化を防止し安定に製造することができるポリマーの製造方法、及び、前記ポリマーの製造方法により得られたポリマーを含有する平版印刷版用版面処理剤を提供すること。
【解決手段】リン酸モノエステルとリン酸ジエステルとを主成分とするリン酸エステル混合物を、中性の水及び非ハロゲン系有機溶剤と混合し、リン酸モノエステルを水相に抽出する抽出工程、並びに、前記水相と有機相とを分離する分離工程、を含むことを特徴とするリン酸エステルの精製方法、前記精製方法により得られたリン酸エステルを用いるポリマーの製造方法、並びに、前記製造方法により得られたポリマーを含有する平版印刷版用版面処理剤。 （もっと読む）

【課題】高品質な印刷版が得られる表面処理方法を提供する。
【解決手段】ｐＨ８以上のアルカリ性電解水で印刷版表面を処理する、印刷版の表面処理方法。 （もっと読む）

【課題】低分子化合物の昇華を抑制しつつ、レジストパターンを効率良く厚肉化して、既存の露光装置の光源における露光限界を超えた微細レジストパターンを製造することができるレジストパターン厚肉化材料、並びに、該レジストパターン厚肉化材料を用いて製造された半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】樹脂と、下記一般式（１）で表される環状化合物と、カルボキシル基を含む環状構造を有する化合物、及び、芳香族炭化水素構造を有する化合物のいずれかの化合物と、水と、を含むことを特徴とするレジストパターン厚肉化材料。
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【課題】フォトリソグラフィー法での加熱硬化の際にパターンが球面化せず、平坦なパターンを製造できるポジ型感光性組成物を提供すること。
【解決手段】バインダー樹脂、キノンジアジド化合物、硬化剤、式（Ｉ）で表される熱酸発生剤、色素及び溶剤を含有するポジ型感光性組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ¹⁰¹〜Ｒ¹⁰³は、互いに独立に、Ｃ_1-10炭化水素基を示す。但しＲ¹⁰¹〜Ｒ¹⁰³のうち少なくとも１つは、Ｃ_6-10アリール基である。
Ｘ^-は、１価のアニオンを表す。
前記炭化水素基およびアリール基は、置換基を有していてもよい。なお前記炭化水素基及びアリール基の炭素数には、置換基の炭素数は含まれない。］ （もっと読む）

【課題】レジストパターンのトップロスを抑制させ、ＬＷＲを向上させるとともに、レジストパターンを不溶化することによりレジストパターンの硬化性を向上させることができるレジストパターンコーティング剤を提供する。
【解決手段】水酸基を有する樹脂と、一般式（１）Ｒ^１−Ｏ−Ｒ^２で表される化合物（一般式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２はフッ素で置換されてもよい炭素数３〜１０のアルキル基など）及び一般式（２）Ｒ^３−ＯＨで表される化合物（一般式（２）中、Ｒ^３は、フッ素で置換されてもよい炭素数１〜５のアルキル基など）の少なくともいずれかを含む溶剤と、を含有し、一般式（１）Ｒ^１−Ｏ−Ｒ^２で表される化合物及び前記一般式（２）Ｒ^３−ＯＨで表される化合物の合計の含有割合が、溶剤１００質量％中、１０質量％以上であるレジストパターンコーティング剤。 （もっと読む）

【課題】プロセス時間の短縮ができ、またＰＥＢまでの経過時間の影響がなく、仕上がり寸法や形状を安定化させることができるレジストパターンの形成方法の提供。
【解決手段】（１）（Ａ）側鎖にアセタール構造を有するスチレンユニットが２５〜４０モル％及びｐ−ヒドロキシスチレンユニットが６０〜７５モル％であり、分子量分布が１．５〜２．０であるポリマー、（Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）溶剤を含有するレジスト組成物を基板に塗布する工程、（２）フォトマスクを介して波長３６５〜４３６ｎｍの光で露光する工程、（３）露光後の加熱処理は行わずに、現像液にて現像する工程、を含むレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

ここで開示されているのは、銅、ニッケル、鉄、コバルト、チタン、鉛、アルミニウム、スズおよびこれらの金属の１つを主成分として含む合金からなる群から選択される導電性構成成分を含む導電層と、酸化ホウ素を含む酸化保護層とを含む電極であって、前記酸化保護層が導電層の上面を被覆するかまたは導電層の上面および側面の両方を被覆するかまたは導電層が形成されている全ての場所を被覆する電極であって；導電層および酸化保護層を同時に空気焼成することによって形成される電極である。 （もっと読む）