【課題】より良好なパターン形状を有する接着剤フィルムを形成する方法及びこの方法に用いられる感光性接着シートを提供すること。
【解決手段】基材２と、基材２上に設けられた感光性接着フィルム１と、を備える感光性接着シート４ａ。当該感光性接着シートを、被着体に感光性接着フィルムが被着体側になる向きで貼り付ける工程と、基材を除去してから感光性接着フィルムを露光する工程と、露光された感光性接着フィルムを現像して、パターニングされた接着フィルムを形成させる工程とを含む方法により、パターニングされた接着フィルムを形成するために用いられる。 （もっと読む）

【課題】従来よりも更にサイズが微細化した構造であって、広範囲に亘って規則性に優れ、欠陥の少ない構造を有する高分子薄膜、パターン媒体、及びこれらの製造方法、並びにこれらの製造方法に使用する表面改質材料を提供する。
【解決手段】基板２０１上で高分子ブロック共重合体をミクロ相分離させて、連続相２０４中で複数のミクロドメイン２０３を規則的に配列させる高分子薄膜の製造方法において、前記連続相に対応するように前記基板にシルセスキオキサングラフト膜を形成すると共に、前記ミクロドメイン２０３の配列に対応するように前記シルセスキオキサングラフト膜とは化学的性質の相違するパターン部を形成する工程を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンにポリシラザンを塗布し、不溶化層を形成してパターンを形成する場合に、従来に比して不溶化層にマスク材としてのエッチング耐性を持たせることができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、まず、被加工膜１１上にレジストパターン１３を形成し、レジストパターン１３上にポリシラザン塗布膜１４を形成し、熱処理を行って、レジストパターン１３とポリシラザン塗布膜１４とを反応させ、レジストパターン１３の側面および上面に沿って不溶化層１５を形成する。ついで、不溶化層１５を形成しなかった領域のポリシラザン塗布膜１４を除去し、不溶化層１５を酸化してポリシラザン硬化膜１６を形成し、レジストパターン１３の上面とレジストパターン１３間の底部のポリシラザン硬化膜１６を除去する。そして、レジストパターン１３を除去し、ポリシラザン硬化膜１６を用いて被加工膜１１を加工する。 （もっと読む）

【課題】現像液中に分散する感光性樹脂成分を効率的に除去可能な現像装置を提供する。
【解決手段】印刷原版１に現像液５を供給する供給装置３１と、印刷原版１の感光性樹脂組成物層から遊離した感光性樹脂組成物が分散している現像液５が通され、現像液５中に分散している感光性樹脂組成物を凝集させる分散物フィルタ１３と、分散物フィルタ１３を通過した現像液５から、凝集された感光性樹脂組成物を除去する凝集物フィルタ１５と、凝集物フィルタ１５を通過した現像液５を静置する静置槽７１と、を備える、現像装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】良好な焦点深度をはじめとする良好な解像度を提供する新規のフォトレジストシステムの提供。
【解決手段】樹脂、光活性成分、およびフェノール系成分；を含む化学増幅ポジ型フォトレジスト組成物のレリーフ像を半導体基体上にコーティングした半導体基体を提供し；並びにイオンを前記基体に適用する；ことを含む、イオン注入された半導体基体を提供する方法 （もっと読む）

【課題】層間絶縁膜としてシリカ系被膜の形成が容易で保存安定性に優れ、比較的安価で、耐熱性、クラック耐性、解像性及び透明性に優れる感光性樹脂組成物、それを用いたシリカ系被膜の形成方法、シリカ系被膜を備える半導体装置、平面表示装置及び電子デバイス用部材の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物を含む第１のシラン化合物を加水分解縮合して得られる第１のシロキサン樹脂と、下記一般式（２）で表される化合物を含む第２のシラン化合物を加水分解縮合して得られる第２のシロキサン樹脂とを混合し、さらに加水分解縮合して得られる重量平均分子量が８０００〜３０００００であるシロキサン樹脂と、溶媒と、ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルとを含有する感光性樹脂組成物。
（もっと読む）

【課題】高い溶解度及びｉ線、ｇ線透過率を有しながら最終的なポリベンズオキサゾール樹脂の耐熱性及び機械特性を損わないポリベンズオキサゾールの前駆体を使用したレリーフパターンの製造方法を提供する。
【解決手段】（ｉ）下記一般式［Ｉ］


で表されるポリアミドを光酸発生剤と共に有機溶媒に溶解して溶液を調製し、この溶液をキャストしてポリアミドフィルムを得、得られたポリアミドフィルムを活性光線でパターン露光し、次いでアルカリ溶液で現像して露光部分を除去し、さらにこのポリアミドフィルムを加熱してフィルム中のポリアミドをポリベンズオキサゾールに変換する工程を含むレリーフパターンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 ポジ型の化学増幅型レジストからなる多重レジストパターンの形成方法、及びその多重レジストパターンを用いた機能性材料層の加工方法、並びに多重レジストパターン構造体を提供すること。
【解決手段】 光酸発生剤と、酸の作用で溶解性が変化する樹脂成分とを含有するポジ型化学増幅型レジストからなる、第１のレジストパターン４を形成する。次に、その表面に、パターン内に浸透し、酸の作用下でレジスト樹脂成分と架橋反応を行い得る架橋剤と、その浸透を促進する浸透促進剤とを含有する改質材水溶液６を被着させる。次に、架橋剤が浸透した第１のレジストパターン４に紫外光を照射して酸を発生させ、加熱して、樹脂成分と架橋剤とを反応させ、少なくともその表層部７に、硬化層９を形成する。次に、第１のレジストパターン間を埋めるように第２のレジスト層１１を形成し、選択的に露光、現像して、第２のレジストパターン１２を形成する。 （もっと読む）

【課題】高感度で安定した感度で製造でき、コンタクトホールのパターニング性能やＩＴＯスパッタ耐性、耐熱透明性に優れる硬化膜を、スリットコートで製造する製造方法を提供すること。
【解決手段】感光性樹脂組成物を１０℃以下の温度にする工程、感光性樹脂組成物を基板上にスリットコートする工程、塗布された感光性樹脂組成物から溶剤を除去する工程、溶剤を除去した感光性樹脂組成物を活性光線により露光する工程、室温で４５秒以上経過させる工程、水性現像液により現像する工程、熱硬化する工程を含み、感光性樹脂組成物が、（成分Ａ）酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位、架橋基を有する構成単位、カルボキシ基及び／又はフェノール性水酸基を有する構成単位を含有する共重合体、（成分Ｂ）光酸発生剤並びに（成分Ｃ）溶剤を含有する硬化膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】合成が容易で、触媒活性が高い塩基である３級のアミンやアミジンを発生可能な塩基発生剤、及び当該塩基発生剤を用いた感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】特定の酸と塩基を含む構造を有し、電磁波の照射により塩基を発生することを特徴とする塩基発生剤、並びに、当該塩基発生剤及び塩基性物質によって又は塩基性物質の存在下での加熱によって最終生成物への反応が促進される高分子前駆体を含有することを特徴とする、感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂組成物の保存安定性、感度及び溶剤除去工程の寛容度に優れ、かつ、透明性及び耐溶剤性に優れた硬化膜を与える感光性樹脂組成物を提供すること。また、前記感光性樹脂組成物により形成された硬化膜を層間絶縁膜として具備する、信頼性と生産性の高い、有機ＥＬ表示装置、及び、液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】（Ａ）カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有するモノマー単位（１）と、フェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有するモノマー単位（２）と、３員環及び／又は４員環の環状エーテル残基を有するモノマー単位（３）と、を含有する共重合体、（Ｂ）光酸発生剤、並びに、（Ｃ）溶剤、を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂組成物の保存安定性、感度及び現像マージン（現像寛容度）に優れ、透明性及び耐溶剤性に優れた硬化膜を与える感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）フェノール性水酸基を有するモノマー単位（１）、カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有するモノマー単位、又は、フェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有するモノマー単位（２）、並びに、３員環及び／又は４員環の環状エーテル残基を有するモノマー単位（３）、を含有する共重合体、（Ｂ）光酸発生剤、並びに、（Ｃ）溶剤、を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】水現像性、乾燥性、画像再現性に優れる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）水分散ラテックス、（Ｂ）ゴム、（Ｃ）界面活性剤、（Ｄ）光重合性モノマー、（Ｅ）光重合開始剤、を含有し、前記（Ａ）成分と前記（Ｂ）成分と前記（Ｃ）成分との合計質量に対する前記（Ｃ）成分の質量の比率が０．１〜２０％の範囲内であり、前記（Ａ）成分と前記（Ｂ）成分との合計質量に対する前記（Ａ）成分の質量の比率が２０〜９０％の範囲内であり、前記（Ｂ）成分が主成分となる分散相のサイズが１０μｍ以下である感光性樹脂組成物とする。 （もっと読む）

【課題】 アルカリ現像性、露光感度、および解像度に優れ、その硬化物が、低温処理を採用した場合でも、基板との密着性および弾性回復特性に優れているフォトスペーサ用感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 種々の酸性基またはこれらの塩を含有する多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）、光ラジカル重合開始剤（Ｂ）、エポキシ基および／またはアルコキシ基を２個以上を分子内に有するカチオン重合性化合物（Ｃ）、２個以上の加水分解性アルコキシ基を有するシロキサン化合物（Ｄ）、および酸発生剤（Ｅ）を含有するアルカリ現像可能なネガ型の感光性樹脂組成物で、光照射による硬化物を２００℃以下でポストベークさせて形成されたフォトスペーサの弾性回復率が５０％以上であることを特徴とするフォトスペーサ用感光性樹脂組成物（Ｑ）である。 （もっと読む）

【課題】優れたリソ性能を有し、かつ順テーパー型断面形状を有するパターンを形成可能なネガ型感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】（ａ）アルカリ水溶液可溶性樹脂：１００質量部、（ｂ）活性光線の照射により酸を発生する化合物：０．１〜２０質量部、（ｃ）酸の作用により架橋又は重合し得る化合物：１〜５０質量部、及び（ｄ）分子構造中に少なくとも１つの（メタ）アクリロイル基を有する化合物：１〜５０質量部、を含有する、ネガ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】微細パターンの形成に有用なパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体上に化学増幅型ポジ型レジスト組成物を塗布して第一のレジストパターンを形成する工程と、前記第一のレジストパターンが形成された前記支持体上に、前記第一のレジストパターンを溶解しない有機溶剤を含有するパターン反転用組成物を塗布してパターン反転用膜を形成し、アルカリ現像することにより、前記第一のレジストパターンを除去してパターンを形成する工程とを有し、前記化学増幅型ポジ型レジスト組成物は、酸発生剤成分（Ｂ）と、酸解離性溶解抑制基を有する基材成分（Ａ）とを含有し、前記パターン反転用組成物は、前記（Ａ）成分中の酸解離性溶解抑制基を解離し得る酸成分（Ｈ）と、酸解離性溶解抑制基を有さない基材成分（Ａ”）とを含有し、前記パターン反転用膜は、アルカリ現像液に対する溶解速度が０．３〜３．５ｎｍ／秒であるパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターンニングに用いられ、水等の液浸露光プロセスにも好適に用いられる感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】所定の工程としてダブルパターニングを行うことを含むレジストパターン形成方法で用いられ、（ａ）ラクトン構造もしくは環状カーボネート構造を有する繰り返し単位を含み、さらに酸不安定基を有する繰り返し単位を含む重合体と、（ｂ）感放射線性酸発生剤と、（ｃ）溶剤と、を含有する感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】可視光領域で十分に低い反射率を達成することができ、かつ、破壊強度に優れた遮光膜付ガラス基板の提供。
【解決手段】ガラス基板２０上に多層構造の遮光膜３０が形成されてなる遮光膜付ガラス基板であって、前記多層構造の遮光膜が、下記を満たす第１の酸窒化クロム膜（ＣｒＯ_x1Ｎ_y1）３１および第２の酸窒化クロム膜（ＣｒＯ_x2Ｎ_y2）３２が、透明基板側からこの順に積層された構造であることを特徴とする遮光膜付ガラス基板。０．１５＜ｘ₁＜０．５、０．１＜ｙ₁＜０．３５、０．４＜ｘ₁＋ｙ₁＜０．６５、０．０３＜ｘ₂＜０．１５、０．０９＜ｙ₂＜０．２５ （もっと読む）

【課題】輝点の発生が防止され、高画質な画像を表示することができるカラーフィルターを、生産性よく製造することができるカラーフィルターの製造方法を提供すること、前記カラーフィルターを提供すること、また、前記カラーフィルターを備えた画像表示装置、電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明のカラーフィルターの製造方法は、基板を準備する基板準備工程と、前記基板上に、着色剤と感光性樹脂とを含む材料で構成されたシート材を貼着し、その後、露光、現像することにより、着色部を形成する着色部形成工程と、前記着色部形成工程で着色部が形成されるべき部位であって、所望の着色部が形成されていない欠陥部位を検出する検出工程と、前記検出工程で検出された前記欠陥部位に、インクジェット方式でインクを付与し、欠陥を補修する欠陥補修工程とを有することを特徴とする。 （もっと読む）