【課題】電子材料のレジストの剥離処理に要する時間を短縮し、さらにレジスト剥離後のウエット洗浄によりレジスト残渣を短時間に確実に除去し得る電子材料洗浄システムを提供する。
【解決手段】電子材料洗浄システムは、薬液洗浄手段１とウエット洗浄手段２と枚葉式洗浄装置３とを備える。薬液洗浄手段１は、機能性薬液貯留槽６と、この機能性薬液貯留槽６に濃硫酸電解ライン７を介して接続した電解反応装置８とを有する。この機能性薬液貯留槽６は、機能性薬液供給ライン１０を介して枚葉式洗浄装置３に機能性薬液Ｗ１を供給可能となっている。ウエット洗浄手段２は、純水の供給ライン２１と窒素ガス源に連通した窒素ガス供給ライン２２と、これら純水供給ライン２１及び窒素ガス供給ライン２２がそれぞれ接続した内部混合型の二流体ノズル２３とを備える。二流体ノズル２３の先端から窒素ガスと超純水とから生成される液滴Ｗ２を噴射可能となっている。 （もっと読む）

【課題】アルカリ現像性が良好で、低温加熱での硬化が可能であり、かつ高い放射線感度を有するポジ型感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】３級炭素がオキセタニル構造を有するポリビニルエーテルより選択される少なくとも１種の構造単位を含む重合体と酸発生剤を含有し、さらに望ましくは、重合体がモノマー単位として、無水マレイン酸またはマレイミド構造単位を含むポジ型感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、レジストパターンの変形を抑制することができるレジストパターンの形成方法および微細構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】基体の表面にレジストパターンを形成するレジストパターンの形成方法であって、前記レジストパターンの基体側端部の寸法が、前記基体側端部と対向する側の端部の寸法よりも長くなるように前記レジストパターンを形成する工程を有したこと、を特徴とするレジストパターンの形成方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】低温のキュア条件においても比抵抗率の低い有機−無機複合導電性パターンが得られ、且つ高い感光特性により微細パターニングが可能という効果を有する、有機−無機複合導電性パターン形成用感光性ペーストおよび有機−無機複合導電性パターンの製造方法を得る。
【解決手段】 アルコキシ基を有する化合物（Ａ）、不飽和二重結合を有する感光性成分（Ｂ）、該不飽和二重結合を有する感光性成分（Ｂ）と反応する重合性基を有する脂環式化合物（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）、および導電性フィラー（Ｅ）を含むことを特徴とする感光性導電ペーストとする。 （もっと読む）

【課題】低温のキュア条件においても比抵抗率の低い有機−無機複合導電性パターンが得られ、且つ高い感光特性により微細パターニングが可能という効果を有し、各種基板上に微細なバンプ、配線などを容易に形成することができる、有機−無機複合導電性パターン形成用感光性ペーストおよび有機−無機複合導電性パターンの製造方法を得る。
【解決手段】 ２以上のアルコキシ基を有する化合物（Ａ）、不飽和二重結合を有する感光性成分（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）および導電性フィラー（Ｄ）を含むことを特徴とする有機−無機複合導電性パターン形成用感光性ペーストとする。 （もっと読む）

【課題】銅又は銅合金の上でも変色を起こさず、感度及び保存安定性に優れた感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いる硬化レリーフパターン製造方法、並びに半導体装置を提供する。
【解決手段】（Ａ）感光性樹脂：１００質量部、（Ｂ）感光剤：１〜４０質量部、（Ｃ）銅変色防止剤：０．０５〜２０質量部、及び（Ｄ）溶媒を含有する感光性樹脂組成物であって、該感光性樹脂組成物中の水分含有量が０．６〜１０質量％である、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】分離パターン、ホールパターンの微細化において、波長限界を超えるパターン形成を可能とする微細分離レジストパターン形成を実現する、下地レジストを溶解しない水溶性のパターン形成材料を提供する。
【解決手段】本パターン形成材料は、カチオン性基を有する水溶性有機化合物を主成分とする組成物と、組成物を溶解する、水または水と水溶性有機溶媒との混合溶媒を含有するパターン形成材料であって、水溶性有機化合物中のカチオン性基とレジストパターン中のアニオン性基とが塩形成による不溶化膜を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】コーティング時の膜厚の面内均一性が良好で保存安定性が良好な感光性樹脂組成物、並びに硬化レリーフパターンの製造方法及び半導体装置の提供。
【解決手段】ポリイミド構造、ポリベンゾオキサゾール構造、ポリイミド前駆体構造、及びポリベンゾオキサゾール前駆体構造からなる群から選ばれる１種以上の構造を有する樹脂を含むアルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００質量部、テトラヒドロフルフリルアルコール及びフルフラール、フランカルボン酸アルキルエステルで代表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を含む溶剤（Ｂ）１０〜１０００質量部、並びに感光剤（Ｃ）０．１〜１００質量部、を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、基板エッチング中のよれの発生を高度に抑制できると共に、化学増幅型レジストを用いた上層パターン形成におけるポイゾニング問題を回避できるレジスト下層膜、を形成するためのレジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法、及びパターン形成方法、及びフラーレン誘導体を提供することを目的とする。
【解決手段】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、（Ａ）熱不安定基で保護されたカルボキシル基を有するフラーレン誘導体と、（Ｂ）有機溶剤とを含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。 （もっと読む）

【課題】彫刻時に発生する版上のカスを容易に除去可能であり、レリーフ印刷版への影響が小さいレリーフ印刷版製版用リンス液を用いたレリーフ印刷版の製版方法を提供すること。
【解決手段】非エラストマーのバインダーポリマー、可塑剤、及び光熱変換剤を含有するレリーフ形成層を支持体上に有するレリーフ印刷版原版を準備する工程、前記レリーフ印刷版原版を、レーザーを用いた露光により彫刻する工程、並びに、彫刻により発生した彫刻カスをレリーフ印刷版製版用リンス液で除去する工程、をこの順で有し、前記レリーフ印刷版製版用リンス液が、ノニオン界面活性剤を含有することを特徴とするレリーフ印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】高解像度であり、微細空孔を形成でき、弾性率が良好であり、且つ低比誘電率な硬化パターンを形成することができるネガ型感放射線性組成物、並びに、それを用いてなる硬化パターン及びその形成方法を提供する。
【解決手段】本発明のネガ型感放射線性組成物は、ポリシロキサンと、感放射線性酸発生剤と、下記一般式（ＣＩ）で表される繰り返し単位を有する重合体と、溶剤と、を含有する。


〔一般式（ＣＩ）において、Ｒ^１は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。Ｒ^２は単結合、メチレン基、炭素数２〜５のアルキレン基、アルキレンオキシ基又はアルキレンカルボニルオキシ基を示す。Ｘはラクトン構造又は環状カーボネート構造を有する１価の基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】接着性および耐熱性に優れる高感度の感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ポリアミド誘導体１００重量部に対し、多面体オリゴマシルセスキオキサン誘導体０．１〜２０重量部、および光によって酸を発生する化合物５〜３０重量部を含む感光性樹脂組成物が開示される。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、基板の段差埋め込み性に優れ、耐溶媒性を有し、基板のエッチング中によれの発生がないだけでなく、エッチング後のパターンラフネスが良好なレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成用組成物、及びこれを用いたレジスト下層膜形成方法、パターン形成方法。
【解決手段】少なくとも、フルオレン骨格を有するビスナフトール化合物の酸触媒縮合樹脂（Ａ）、フルオレン骨格を有するビスナフトール化合物（Ｂ）、フラーレン化合物（Ｃ）及び有機溶剤を含有することを特徴とするレジスト下層膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】 基板現像工程を行うための装置が開示される。
【解決手段】 基板を支持するための基板支持部の互いに向い合う両側には現像ノズルを洗浄するための第１洗浄タンクと第２洗浄タンクを配置することができる。前記現像ノズルは前記第１洗浄タンクから前記第２洗浄タンクに向う水平方向に移動することができ、前記基板の上部面上に現像液を供給することができる。前記現像液を供給した後、前記現像ノズルは、前記第２洗浄タンクに収容されることが可能であり、前記現像ノズルについている現像液は前記第２洗浄タンク内で洗浄液によって除去することができる。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、機械特性、化学薬品耐性、基板密着性に優れた硬化物となり、低温プロセスで硬化可能な、感度及び解像度に優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）アルカリ水溶液に可溶なポリベンゾオキサゾール又はアルカリ水溶液に可溶なポリベンゾオキサゾール前駆体、（ｂ）光の照射により酸を発生する化合物、（ｃ）エポキシ基を有する化合物を含有してなることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】簡便な手段で有機電子デバイスの寿命を劣化させる樹脂凸版からの溶出物を低減し、かつ耐刷性にすぐれた高精細印刷凸版の製造方法および該印刷用凸版を用いた有機電子デバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】感光性樹脂層に対してフォトマスクを介して凸パターン状に露光・現像して凸版を形成する工程と、凸版全体に対して少なくとも、２００〜３００ｎｍの波長領域、及び３００〜４００ｎｍの波長領域、及び４００〜４５０ｎｍの波長領域のそれぞれに１つ以上の輝線スペクトルをもつ光源を用いて露光する第二の露光工程と、有機溶剤を用いて凸版を洗浄する工程と、を有することを特徴とする印刷用凸版の製造方法としたものである。 （もっと読む）

【課題】フォーカス余裕度（ＤＯＦ）が広く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、パターン形状に優れ、更にはブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できるパターン形成方法及び化学増幅型ネガ型レジスト組成物を提供することを課題としている。
【解決手段】（ア）化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、
（イ）該膜を露光する工程、及び
（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、
を含むパターン形成方法であり、
前記レジスト組成物が、
（Ａ）酸の作用により有機溶剤を含む現像液に対する溶解度が減少する樹脂、
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、
（Ｄ）溶剤、及び、
（Ｇ）フッ素原子及び珪素原子の少なくとも一方を有するとともに、塩基性を有する又は酸の作用により塩基性が増大する化合物
を含有することを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】近接配置される少なくと２つの微細ホールパターンを、ドライエッチング耐性が十分得られる膜厚に形成する。
【解決手段】光酸発生剤を含む第１レジストにスリット状開口部３ａを形成し、第１レジスト上に酸の作用により架橋反応を生じさせる架橋剤を含む第２レジストを形成し、第１レジストのスリット状開口部と交差する開口パターンを備えたマスクを介して露光することで、露光領域に酸を発生させ、第２レジストを架橋させ、架橋した第２レジスト５Ａによりスリット状開口部を少なくとも２つに分断する。 （もっと読む）

【課題】エッチングレジスト又はめっきレジスト等のレジスト材料として優れた解像度及び密着性を有する感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）バインダーポリマー：２０〜９０重量％、（Ｂ）光重合性化合物：５〜７５重量％、及び（Ｃ）光重合開始剤：０．０１〜３０重量％を含有する感光性樹脂組成物であって、前記（Ａ）バインダーポリマーは、カルボン酸又はカルボン酸無水物である第一単量体と重合性不飽和基を１個有し、かつ非酸性である第二単量体とを共重合することにより得られた重量平均分子量５，０００〜１００，０００の共重合体であり、前記（Ｂ）光重合性化合物は、付加重合性モノマーであり、かつ、前記感光性樹脂組成物に露光を行い、次いで現像を行った後に得られた感光性樹脂層の水接触角が６０°以上、かつ、ヤングモジュラスが１．５ＧＰａ以上４ＧＰａ未満である感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】遮光部と着色部との密着性に優れ、コントラストに優れた画像表示を行うことができるカラーフィルターを提供すること。
【解決手段】本発明のカラーフィルターの製造方法は、基板上に感光性材料および熱硬化性樹脂を含む遮光部形成用組成物を付与する工程と、感光性材料を露光することにより、前記遮光部形成用組成物を、現像液に対する溶解性の高い易溶性部と溶解性の低い難溶性部とを有するものとする工程と、現像により、難溶性部で仕切られた空間としてのセルを複数個形成する工程と、セル内に染料および熱硬化性樹脂を含む着色部形成用材料を付与する工程と、加熱により、遮光部形成用組成物中に含まれる熱硬化性樹脂を硬化させ遮光部とするとともに、着色部形成用材料中に含まれる熱硬化性樹脂を硬化させ着色部とする工程とを有し、遮光部形成用組成物と着色部形成用材料とは、同種の熱硬化性樹脂成分を含むものであることを特徴とする。 （もっと読む）