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Fターム[2H147AB02]の内容

光集積回路 (45,729) | 光集積回路中の光学的機能 (4,741) | 光強度 (2,633) | 可変光減衰器、光変調器 (407)

Fターム[2H147AB02]に分類される特許

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【課題】半導体光素子の消費電力または素子長を小さくする。
【解決手段】第1クラッド層4と、第2クラッド層6と、第1クラッド層4と第2クラッド層6に挟まれた光導波層8とを有し、光導波層8は、第1半導体層10と、第1半導体層10上に設けられ一方向に延在する第2半導体層12とを有し、第1半導体層10は、第2半導体層12の片側に設けられたn型領域14と、第2半導体層の反対側に設けられたp型領域16と、n型領域14とp型領域16の間に設けられたi型領域18とを有し、第2半導体層12は、第1半導体層10より狭いバンドギャップを有する。 (もっと読む)


【課題】Inを含まないIII−V族化合物半導体からなる半導体層と基板のSi面とを接合させる構造において、Inを含まないIII−V族化合物半導体からなる半導体層と基板とに剥がれが生じることを抑制すること。
【解決手段】本発明は、GaAs基板32の主面上に形成された光を発振する活性層38を含む積層半導体層46のうちの最表面の層である、Inを含まないIII−V族化合物半導体であるGaAsからなるコンタクト層44の表面に、InAsの複数の量子ドットからなる接合層22を形成する工程と、コンタクト層44の表面を、接合層22を介して、基板10に含まれるSi薄膜層16のSi面に接合させる工程と、を有する半導体装置の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】サブバンド間遷移素子とシリコン細線によるハイブリット集積化において、シリコン細線との結合効率の向上、及び光路長増大による位相変調効果の増大を実現させ、光ゲートスイッチのSN比改善と低エネルギー動作化等の高性能化を実現する。
【解決手段】InGaAsやAlAsSbなどの量子井戸構造を形成可能な半導体材料を用い、その量子井戸構造でのサブバンド間遷移によって引き起こされる位相変調効果を有するサブバンド間遷移導波路に、TE光信号に対する反射構造(R1)を設けてサブバンド間遷移スイッチ導波路10を構成する。導波路端面(P1)から入力された信号光5は、導波路で位相変調効果を受け、光導波路に設けた反射構造(R1)にて反射され、再び、導波路内で位相変調効果を受けて、導波路端面(P1)から出力されるので、シリコン細線導波路との入出力端の同一化および光路長増大を実現できる。 (もっと読む)


【課題】集積化が容易な光分散補償器を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態による導波路型光分散補償器(100)は、入力導波路(101a)と、入力導波路と接続された第1のスラブ導波路(102)と、第1のスラブ導波路と接続された第1のアレイ導波路(103)と、第1のアレイ導波路と接続された第2のスラブ導波路(104)と、第2のスラブ導波路と接続された第2のアレイ導波路(106)と、第2のアレイ導波路と接続された反射器(107)と、第1のスラブ導波路と接続された出力導波路(101b)とを備える。また、第2のスラブ導波路(104)は、入力導波路から入射した光のスペクトル面(108)と反射器から反射した光のスペクトル面(108)が一致するように形成された空間位相変調器(105)を備える。光分散補償器は、入力導波路から入射した光の分散が補償された光が出力導波路から出射されるように構成される。 (もっと読む)


【課題】 大型化を抑制しつつ、分岐比の劣化を抑制することができる、光導波路、光変調器、および、光カプラを提供する。
【解決手段】 光導波路は、基板に形成され、曲がり導波路と、前記曲がり導波路に接続されて分岐する分岐部と、を備え、前記曲がり導波路の前記分岐部と反対側の始点から前記分岐部に至るまでの導波路において、前記曲がり導波路の始点の実効屈折率よりも低い実効屈折率を有する低屈折率部が設けられていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】モードフィールドが大きく異なる異種光導波路を接続する際に、従来のテーパ構造の光導波路と比べて効率的な光の接合を可能とする光導波路を提供することにある。
【解決手段】構造の異なる2つの導波路41,42が所定の長さLtaperを有する不連続テーパ構造接合部本体50を介して接し、一方の導波路41を導波する光の横方向の広がりが、他方の導波路42を導波する光の横方向の広がりよりも広い光導波路において、不連続テーパ構造接合部本体50の幅が前記一方の導波路41と接する一方の端部51から他方の導波路42と接する他方の端部52に向けて徐々に狭くなり、不連続テーパ構造接合部本体50における一方の端部51の幅Wtaperを一方の導波路41の幅Wridgeよりも広くした。 (もっと読む)


【課題】有機導波路を作製する際に高温・高圧印加下で作製せざるを得ないプロセスの困難性と、配向緩和によるEO効果消失の問題とを同時に解決すること。
【解決手段】電気光学効果を呈する有機材料が添加されたポリマーを硬化して構成される長尺状のコアと、前記コアの周囲に積層されたクラッドとを備えた有機導波路であって、前記有機導波路は、前記コアが硬化した後に当該コアの長手方向に延伸されていることを特徴とする有機導波路。好ましくは、前記ポリマーは、熱硬化特性またはUV硬化特性を有する樹脂である。また、入力光を2つの分岐部分で分波し、一方の光波にのみ位相シフトを与え、位相シフトを与えない他方の光波と合波させ、入力光に変調が加わった出力光を得るマッハツェンダ変調器において、前記2つの分岐部分のうち、位相シフトを与えるコアとして上記有機導波路を使用することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】埋め込み素子の導波路とハイメサリッジ素子の導波路がずれるのを防ぐ。
【解決手段】n型InP基板10上に半導体積層構造30と半導体積層構造32を横並びに形成する。半導体積層構造30,32上にp型InGaAsコンタクト層36を形成する。p型InGaAsコンタクト層36をパターニングして、半導体積層構造30上のp型InGaAsコンタクト層36を除去する。半導体積層構造30をエッチングして導波路リッジ40を形成し、p型InGaAsコンタクト層36及び半導体積層構造32をエッチングしてハイメサリッジ42を形成する。導波路リッジ40の両サイドを埋め込み層44,46,48で埋め込む。導波路リッジ40及びその近傍の埋め込み層上にp型InGaAsコンタクト層52を形成する。p型InGaAsコンタクト層36,52をマスクとして埋め込み層をエッチングして埋め込み素子とハイメサリッジ素子とを形成する。 (もっと読む)


【課題】半導体光装置において温度が変化しても出力光の変動を抑制する。
【解決手段】半導体光装置1は、半導体光増幅器2と光波長選択素子3とを有し、光波長選択素子3は第1の光導波路21と、第1の光導波路21の結合導波路32に光学的に結合されるリング共振器22を有する。さらに、リング共振器22と光学的に結合される結合導波路41を含む第2の光導波路23が設けられており、第2の光導波路23には、波長選択反射鏡24が形成されている。波長選択反射鏡24は、垂直回折格子25からなり、リング共振器22で選択された共振モードのピークのうち、1つの共振モードのピークの波長を有する光を反射する。 (もっと読む)


【課題】PLCに一体集積された光モジュールの受光面に入射するビーム位置を調整可能にするPLCおよび当該PLCを用いた受光デバイスを提供する。
【解決手段】PLCは、光が入力される入力導波路304と、光を分岐する方向性結合器306と、分岐された光が透過する導波路アーム308,310と、導波路アームを透過した光を合波する方向性結合器および出力導波路312,314とを有し、導波路アームに紫外線を照射するか薄膜ヒータによる熱により出力端面から出力される光の位置を可変とした。 (もっと読む)


【課題】製造誤差が少なく、温度変化の影響を受けにくい狭帯域フィルタを提供する。
【解決手段】光を分岐、結合する第1の側と第2の側に各々2つの入出力ポートを有する第1のカプラ、第2のカプラ、第3のカプラを有し、第1のカプラの第2の側の一方の入出力ポートと第2のカプラの第1の側の一方の入出力ポートとは第1の導波路により接続され、第1のカプラの第2の側の他方の入出力ポートと第3のカプラの第1の側の一方の入出力ポートとは第2の導波路により接続され、第2のカプラの第2の側の2つの入出力ポートは第3の導波路により接続され、第3のカプラの第2の側の2つの入出力ポートは第4の導波路により接続されている。第3の導波路には所定の波長を180°シフトさせる共振器が近接して配置されており、第4の導波路には所定の波長を180°シフトさせる共振器が近接して配置されていない狭帯域反射フィルタにより解決する。 (もっと読む)


【課題】絶縁層上の導波路型光デバイスのコアに蓄積されるキャリア濃度を高くして、その変調効率を高くする。
【解決手段】絶縁性の第1のクラッド層4と、前記第1のクラッド層4の一面に設けられた半導体の光導波層6と、前記光導波層6を覆う絶縁性の第2のクラッド層8とを有し、前記光導波層6は、一方向に延在するコア14と、前記コア14の一方の側面に接し前記コア14より薄い第1のスラブ部18と、前記コア14の他方の側面に接し前記コア14より薄い第2のスラブ部22とを有し、前記第1のスラブ部18は、前記コア14に沿うn型領域16を有し、前記第2のスラブ部22は、前記コア14に沿うp型領域20を有し、前記n型領域16と前記p型領域20の間の領域には、バンドギャップが前記n型領域16及び前記p型領域20より狭くなるように、n型不純物及びp型不純物がドーピングされている。 (もっと読む)


【課題】容易かつ精度の高い微細加工が可能である光導波路素子の製造方法を提供する。
【解決手段】先端12cを有するテーパ部12を有するコア4を備えた光導波路素子を製造する方法であって、コア4の材料からなるコア層14を形成するコア層形成工程と、コア層14に接する補助層18を形成する補助層形成工程と、コア層14にテーパ部12を形成しコア4を得るテーパ部形成工程とを含む。コア層形成工程は、テーパ部12の先端12cを含む第1側面領域16aを形成する工程である。補助層形成工程は、第1側面領域16aに接して、コア4とは異なる材料からなる補助層18を形成する工程である。テーパ部形成工程は、コア層14に対し、補助層18と同時にエッチングを施すことによって、テーパ部12の先端12cを含む第2側面領域12bを形成する。 (もっと読む)


【課題】光の伝播損失が少なく、バラツキの少ない導波路型共振器デバイスを提供する。
【解決手段】光入力端及び光出力端を有し、前記光入力端より入射した光を伝播させる光導波路と、前記光導波路に近接して配置された所定の周波数で共振する共振器と、を有し、前記光導波路及び前記共振器は、単結晶のシリコン層により形成されるものであって、前記共振器は前記シリコン層の一部によりコアが形成されるPIN接合構造を有し、前記共振器は、直線部分と角部分を有する略多角形状で形成されており、前記共振器は、前記角部分のいずれか1つにおいて前記光導波路と最も近接して配置されており、前記直線部分は、前記シリコン層における[1 0 0]方向、[0 1 0]方向、[0 0 1]方向、[1 1 0]方向、[1 0 1]方向、[0 1 1]方向のいずれかに沿って形成されていることを特徴とする導波路型共振器デバイスにより上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】コストの上昇や特性の低下を招くことなく、実装が容易な状態で、LSIのチップ間やチップ内の信号伝送を、光配線で行えるようにする。
【解決手段】素子形成領域122のシリコン上にエピタキシャル成長により形成した半導体層を光吸収層として備えて素子形成領域122に形成された光素子123と、光導波領域121に形成された溝部101aと、溝部101aに充填されて形成された下部クラッド層102と、下部クラッド層102の上に形成されて光素子123に光接続するコア103と、コア103の上に形成された上部クラッド層104と、コア103よりなる光導波路の光導波方向に垂直な方向の素子形成領域122の側部の基板101上に形成されて、光素子123に電極引き出し部105を介して接続する電極パッド部106とを備える。 (もっと読む)


【課題】低消費電力である可変光減衰器、ならびに温度に依存した波長シフトが生じないDPSK受信回路となる、位相制御回路およびこの位相制御回路を用いた光干渉回路を提供する。
【解決手段】基板上における、2つのモード変換器と、これらを連結する複数の光導波路とからなる位相制御回路であって、複数の光導波路の間または外側に、ある材料を充填した溝を、複数の光導波路の上方および、または複数の光導波路の間の上方に薄膜ヒータを有する。熱光学定数の絶対値が光導波路の熱光学定数の絶対値より大きい、溝に充填された材料および、または光導波路の周囲の材料を用いることにより、低消費電力である可変光減衰器を実現する位相制御回路を提供する。さらに、上記の位相制御回路および、同様の構造であるが、溝を有さない位相制御回路、ヒータを有さない位相制御回路を複数適宜組み合わせることにより、温度に依存した波長シフトが生じないDPSK受信回路や波長合分波フィルタなどの光干渉回路を提供する。 (もっと読む)


【課題】半導体MZM位相光変調器においても、環境温度の変化に対して、同一変調電圧での駆動を可能とし、ペルチェ素子等を用いた温度調整機構を省略し、消費電力を低減することができる光送信機を提供する。
【解決手段】npin構造を有する変調領域を有する半導体MZ変調器1と、前記半導体MZ変調器1の温度を監視する温度センサ43と、前記半導体MZ変調器1の変調電極にバイアス電圧を印加するバイアス回路41とを備え、前記バイアス回路41は、前記温度センサ43からの入力が変化すると、前記バイアス電圧を変化させて変調振幅電圧を一定として前記半導体MZ変調器1を駆動する。 (もっと読む)


【課題】長波長用の可変光モジュールに用いることができる電気光学特性に優れた光学素子を提供する。
【解決手段】シリコンを含有する単結晶基板110と、単結晶基板110上にエピタキシャル成長により形成された第1の電極130と、第1の電極130上にエピタキシャル成長により形成された電気光学効果を有する電気光学膜160と、電気光学膜160上に形成された第2の電極180とを備え、第1及び第2の電極130及び180は、電気光学膜160の膜厚方向に電圧を印加するためのものであり、電気光学膜160は、単一配向を有しない結晶化膜である光学素子。 (もっと読む)


【課題】製造コストを低減できる光変調器を得る。
【解決手段】マッハツェンダ型光変調器3は、入力光の強度又は位相を変調させる。マッハツェンダ型光変調器3の出力に出力光導波路4が接続されている。マッハツェンダ型光変調器3から出力された変調光は出力光導波路4を伝播する。出力光導波路4に近接して受光部5,6が配置されている。受光部5,6は、出力光導波路4からの漏洩光を検知する。これらのマッハツェンダ型光変調器3、出力光導波路4、及び受光部5,6は、1つのn型InP基板1上にモノリシックに集積されている。 (もっと読む)


【課題】
特別な製造工程を用いることなく、光導波路自体に偏光子作用を安定的に付加することが可能な導波路型偏光子を提供すること。
【解決手段】
Zカット型のニオブ酸リチウム基板1と、該基板上にリッジ構造の光導波路が形成された導波路型偏光子において、該リッジ構造の幅は、該光導波路を伝播する光波の常光の光分布が変化するリッジ幅であり、かつ、該光波の異常光の光分布が変化しないリッジ幅であり、該リッジ構造の角度は90°よりも小さく、該リッジ構造の側面に、膜厚が0≦n・t/λ≦0.3742の条件(ただし、nは屈折率,tは膜厚,λは光波の波長であり、膜厚、波長の単位はμmである。)を満足する低屈折率膜3が形成され、該低屈折率膜の上に、膜厚が0.089≦n・t/λの条件を満足する高屈折率膜4が形成されて、異常光透過偏光子機能を有することを特徴とする。 (もっと読む)


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