【課題】精密工作機械の切削加工による加工部品に付着した切り粉及び切削油を水中洗浄ならびに空中洗浄で除去する切削加工部品洗浄装置を提供する。
【解決手段】精密工作機械の切削加工により加工部品に付着した切り粉及び切削油を水中洗浄ならびに空中洗浄で除去する切削加工部品洗浄装置１０であって、前記被洗浄物にエアーブローを施す空圧除去領域部３０と、前記被洗浄物を水中で洗浄する水中洗浄領域部と、前記空圧除去領域部と前記水中洗浄領域部４０の間を上下に移動する昇降領域部５０と、該昇降領域部及び前記空圧除去領域部３０を制御する制御領域部７０とを、其々本体領域部に配設した構成から成る手段を採る。 （もっと読む）

【課題】容器を確実に洗浄することが可能な洗浄装置を提供すること。
【解決手段】洗浄装置１００は、容器Ｃの洗浄に関連した第１の処理（本洗浄処理）を実行するために開閉自在に設けられた開口１２２、１２４を有する密閉可能な本洗浄室１２０と、本洗浄室１２０から隔離して配置され、容器Ｃの洗浄に関連した第２の処理（乾燥処理）を実行するために開閉自在に設けられた開口１３２を有する密閉可能な第乾燥室１３０（１３０Ａ、１３０Ｂ、１３０Ｃ）と、各処理室の開口１３２を介して、本洗浄室１２０の内部に搬入された容器Ｃを乾燥室１３０の内部に移送するロボット１５０と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】洗浄後の欠陥の発生が極めて少ないフォトマスク関連基板を得られる洗浄方法及び洗浄装置提供することを目的とする。
【解決手段】フォトマスク関連基板の洗浄方法において、少なくとも、前記フォトマスク関連基板の表面の異物をあらかじめ除去する前処理工程と、該前処理工程の後に前記フォトマスク関連基板にＵＶ光を照射するＵＶ照射工程と、該ＵＶ照射工程の後に前記フォトマスク関連基板を湿式で洗浄する湿式洗浄工程とを行うことを特徴とするフォトマスク関連基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】処理対象基板を良好に迅速に基板処理溶液で処理することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１００は、溶液保持容器１３０に収容されている基板処理溶液ＴＬに処理対象基板ＰＢが浸漬される。このような溶液保持容器１３０に溶液供給機構１４１が基板処理溶液ＴＬを上方から下方に落下させて順次供給する。このように上方から下方に落下する基板処理溶液ＴＬを溶液乱流機構１４２が処理対象基板ＰＢの一面の基板処理領域ＴＳに圧送する。このため、処理対象基板ＰＢの一面の基板処理領域ＴＳは基板処理溶液ＴＬが単純に上方から下方へ落下するだけではなく、乱流となって圧送されることになる。 （もっと読む）

【課題】洗浄対象面内の清浄度およびその均一性を高めさらにメンテナンスも容易なＵＶオゾン洗浄装置を提供すること。
【解決手段】ＵＶ照射室（１０）内に２つのＵＶユニット（２０Ａ、２０Ｂ）を備えており、これらＵＶユニットは所定の間隔を有するように対向して設けられている。この間隔内には、洗浄対象物（３０）が基板搬送部（４０）により把持された状態で搬送される。オゾン発生の源となるエアーと不活性ガスの混合ガスは第１および第２のガス供給部（５０Ａ、５０Ｂ）から、ＵＶ照射室（１０）内に搬送された基板（３０）の表面に向けて供給される。ガス排出部（６０）は、装置（１００）の底部に設けられており、ＵＶ照射室（１０）内で発生したオゾン含有ガスは、装置上部に設けられた排気ユニット（７０Ａ、７０Ｂ）の作用により、ガス排気経路部（８０Ａ、８０Ｂ）を通ってガス排出部（６０）から外部へと排出される。 （もっと読む）

【課題】炊飯釜を適切に洗浄できる洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置１は、凹状部20を有する回動可能な炊飯釜支持体21と、炊飯釜支持体21を回動させる支持体回動手段22とを備える。凹状部20には、凹状部20の凹部分内への取手部６の挿入を許容する許容状態および凹状部20の凹部分内から取手部６が抜け出るのを規制する規制状態になる抜止め体26を回動自在に設ける。洗浄装置１は、抜止め体26にて取手部６が凹部分内から抜け出ない状態の下向き姿勢の炊飯釜２内に向けて洗浄液を噴射する洗浄手段を備える。 （もっと読む）

【課題】手作業による作業効率の低いインキ装置の清掃作業を、生産性、作業効率の向上と溶剤、ウエスの資材の消費を抑え、洗浄によるコスト削減の自動洗浄装置を提供する。
【解決手段】インキドクターブレード自動洗浄装置１においては、インキドクターブレード３に固着したインキ汚れを洗浄するためにエアーと共に微少量の溶剤を噴射、また回転式エアーノズルにてインキを掻き取る作用を利用しております。このエアーノズルを可変速にて移動させることにより、インキドクターブレード３全体において、汚れの度合いに応じて自動洗浄致します。また、ドクターブレード本体３を任意角度にて揺動させることによりインキドクターブレード３の複雑な形状の自動洗浄に対応しております。これにより、手作業での洗浄に比較し、洗浄時間の短縮、洗浄コストの削減、洗浄効果の向上を提供致します。 （もっと読む）

【課題】筒体に付着したスケールを、ブラシを用いて効率良く除去することができる筒体用スケール除去装置を提供すること。
【解決手段】先端にブラシ２を支持するロッド１０，４０と、ロッド１０，４０に対して軸中心の回転力を付与するためのモータ１１，４１と、モータ１１，４１の出力軸とロッド１０，４０との間に連結されモータ１１，４１の回転をロッド１０，４０の軸中心の揺動運動へと変換する変換手段１２，４２とを備え、ブラシ２は、揺動運動することによって筒体１に付着したスケールを除去する。 （もっと読む）

【課題】コンパクトな装置で効率良く棒状部材の洗浄を行うことができる洗浄装置を提供すること。
【解決手段】内部にワーク１を収容可能な収容部５を有するケース１０ａ，１１Ａと、収容部５への洗浄液の給排を行う洗浄液給排装置２Ａとを備え、ケース１０ａ，１１Ａは、収容部５へのワーク１の出し入れを行うことができるよう開閉可能に分割して構成され、ワーク１は、収容部５内へ供給されて排出される洗浄液によって洗浄されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
一個の洗浄籠の胴部の内面形状を変形可能とすることにより、被洗浄物と洗浄液との接触強度を被洗浄物毎に最適なものとし、優れた洗浄効果を得ることを可能とするとともに、この被洗浄物毎の多種類の洗浄作業に対応した洗浄籠を廉価で容易に製造可能とする。
【解決手段】
被洗浄物を収納する円筒状の胴部1の両端外周に円形のフランジ5を胴部1と同軸上に接続する。この胴部1の内面には胴部1の回転に伴って被洗浄物を接触させる接触壁11を胴部1の内方に突出して着脱可能に係合する。この接触壁11を異なる他の接触壁11と付け替え可能とすることにより、胴部1の内面形状を変形可能とする。 （もっと読む）

【課題】二酸化炭素を用いたクリーニングにおいて、より優れた洗浄力を発揮させることのできるクリーニング方法と、それに用いる装置を提供する。
【解決手段】被洗浄物を開閉蓋２付きの処理槽１内に装填し、処理槽１内に、液体二酸化炭素供給配管４から液体二酸化炭素を供給して気体二酸化炭素および液体二酸化炭素を充満させ、被洗浄物と上記二酸化炭素を撹拌接触させて洗浄を行い、つぎに、処理槽１内の気体二酸化炭素および液体二酸化炭素を超臨界状態に変化させながら、上記被洗浄物と二酸化炭素の撹拌接触を続行して洗浄を行い、その後、排気弁２２を開き、処理槽１内の二酸化炭素を、被洗浄物と接触しないようにして、取り出し口６から排出するようにした。 （もっと読む）

【課題】乾式洗浄媒体の運動速度と清浄度とを高めて洗浄品質と洗浄効率とを向上させるとともに複雑な形状の部品であっても傷や洗浄残しが発生することを抑制する。
【解決手段】筒状に形成され可撓性を有する洗浄媒体１を、洗浄槽１２内で気流により飛翔させ洗浄対象物３に衝突させて洗浄対象物３に付着している付着物を除去する。洗浄媒体１が洗浄対象物３に衝突するとき、洗浄媒体１が洗浄対象物３に非弾性衝突するため一度の衝突における接触面積が大きく、かつ洗浄対象物３に衝突したときの接触力が大きくなると洗浄媒体１が撓んで洗浄対象物３の形状に倣うから、複雑な形状の洗浄対象物３を確実に洗浄して洗浄品質を高めて洗浄効率を向上させる。 （もっと読む）

【課題】単純且つ確実な洗浄を可能にする、管を洗浄する方法及び装置を提供する。
【解決手段】洗浄媒体１１を収容する容器２と、回転軸に相当するベアリング４を中心として両方向に回転するドラム３とを備え、該ドラム３の外側に開口を設けると共に、ドラム３から独立して回転できる毛細菅６を収容する収容装置５をドラム３の周囲に配置し、洗浄媒体をドラム３内に噴霧するための４つの噴霧ノズル１２を半径方向外向きに向けることによって、毛細菅６は霧化された洗浄媒体で少なくとも部分的に満たされ、洗浄媒体の液滴は、少なくとも一部において基本的に毛細菅６の中心軸の方向に加速される。 （もっと読む）

【課題】 被処理物の表面に形成されている酸化膜を、従来よりも効率的に除去する。
【解決手段】 この発明に係るクリーニング装置１０によれば、チャンバ１２内のプラズマ発光室３８で、水素プラズマが生成される。そして、この水素プラズマに含まれる水素ラジカルのみが、遮蔽板３６をすり抜けて、処理室４０に導かれる。処理室４０においては、支持台１４上に設置された被処理物１８，１８，…が、抵抗加熱ヒータ２０によって加熱されおり、この被処理物１８，１８，…の表面に形成されている酸化膜と、水素ラジカルと、が互いに反応し合うことによって、当該酸化膜が還元され、除去される。さらに、被処理物１８，１８，…には、支持台１４および連結棒２２を介して、超音波振動子２４から振動が付与される。これによって、被処理物１８，１８，…の隅々にまで水素ラジカルが行き届き易くなると共に、当該水素ラジカルと酸化膜との反応が活性化される。 （もっと読む）

【課題】連続使用後のマルチレンズアレイ成型用金型を簡便かつ短時間で洗浄できる洗浄方法を提供すること。
【解決手段】マルチレンズアレイ成型用金型の成形面全体を、実質的に界面活性剤を含まず、相対蒸発速度（ＡＳＴＭ−Ｄ３５３９）が１〜６である溶剤に浸漬するとともに超音波を照射する。溶剤としては、エタノールあるいはアセトンが好ましい。マルチレンズアレイ成型用金型の成形面（特に角部）に付着した汚染物を短時間で除去できる。 （もっと読む）

【課題】タンクの製造時に発生した磁性異物をタンク内から確実に洗浄除去することができるタンクの洗浄方法を提供する。
【解決手段】タンク１１の外壁１２に形成された給油口１７、油量センサ取付口１９、ドレン口２２等の開口部に磁石２６，２７，２８を装着するとともに、タンク１１内に洗浄液２９を注入して、タンク１１を密封する。その状態で、揺動反転装置４３によりタンク１１を揺動及び反転させて、タンク１１内の磁性異物を磁石２６〜２８に吸着させる。その後、洗浄液２９を排出するとともに、磁石２６〜２８を磁性異物の吸着状態でタンク１１から取り外す。 （もっと読む）

【課題】効果的にワーク表面を洗浄することができる超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】超音波洗浄装置を、ワーク１００を保持する保持手段と、洗浄液が供給され、供給された洗浄液に対して超音波が発振可能な超音波洗浄槽２０とを備え、保持されたワーク１００の洗浄すべき被洗浄部分１０２における洗浄液Ｗへの浸漬部分１０４を変化させるようにワーク１００を動かすように構成する。 （もっと読む）

【課題】 昇降路や乗りかごの少なくとも一部に設けられた透明板を、容易かつ確実に清掃することができるエレベータ設備の清掃方法及び清掃装置を提供すること。
【解決手段】 先端部に清掃体６を取り付けた清掃装置の基端部４をエレベータかごの外面に分離可能に接着させ、かつ前記清掃体６をガラス面２に接触させた状態で、前記エレベータかごを、通常時の運行速度より低速で移動させ、前記清掃体６をガラス面２に摺動させて清掃する。 （もっと読む）

【課題】液中及び液外において電子部品を搬送できる、簡易な構成の電子部品移動装置及び電子部品移動方法を提供する。
【解決手段】電子部品１０３を保持するための電子部品収容凹部１３９を備えるトレイ１０９を用いて、電子部品１０３を液中及び液外において移動するための電子部品移動装置１０１であって、トレイ１０９が取り外し可能に装着されるトレイ保持部材１１１と、トレイ保持部材１１１を移動する移動手段１３５と、を備え、トレイ１０９の電子部品収容凹部１３９に収容されている電子部品１０３が液面１４７上及び液面１４７近傍に位置する際、液面１４７と、液面１４７と交差する電子部品１０３の面と、が所定の傾斜角度αを形成する。 （もっと読む）

【課題】 簡単な構造でもって粉状物に付着した細菌を確実に殺菌することができる殺菌装置を提供すること。
【解決手段】 気体流によって移動する粉状物８を帯電するための帯電領域１４と、粉状物８に帯電した電荷を除電するための除電領域１８とが設けられ、帯電領域１４には電荷付与手段１６が設けられ、除電領域１８には除電手段２０が設けられている雑菌装置。帯電領域１４においては、電荷付与手段１６によって粉状物８が帯電され、除電領域１８においては、除電手段２０によって粉状物８に帯電した電荷が除電され、粉状物８への帯電及び除電が１回又は複数回行われ、帯電及び除電による電位変動によって粉状物８に付着した細菌が殺菌される。帯電領域１４及び除電領域１８は搬送経路１０に沿って設けられ、殺菌処理すべき粉状物８は帯電領域１４及び除電領域１８を通して搬送される。 （もっと読む）