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Fターム[3B116CD41]の内容

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【課題】パーティクルの発生、部品の故障等を抑制することができるガス供給装置、ガス供給方法、薄膜形成装置の洗浄方法、薄膜形成方法及び薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】熱処理装置1の制御部100は、熱処理装置1の内部に付着した付着物を除去するために、ガス供給部20の少なくとも、フッ化水素の流量を制御するMFCより上流側の温度及び圧力を、フッ化水素における準単分子領域内の温度及び圧力に設定し、フッ化水素を含むクリーニングガスを反応管2内に供給する。 (もっと読む)


【課題】従来のエアーシャワー装置では、吹出風で人体に付着した花粉及び塵埃を除去する手段が一般的であるが、静電気により付着しているものは吹出風のみでは吹き飛びにくいため、すべて取りきれないという課題がある。また除電を実施する手段としてコロナ放電を行うものがあるが、人体に有害なオゾンが発生するため、人体の健康上に悪影響を及ぼすという課題がある。
【解決手段】微細な水滴を噴霧させる微細水噴霧手段4と、吹出風により人体に付着した花粉や粉塵を吹き飛ばす花粉分離手段5を備えたことで、人体に有害なオゾンを発生させずにムラ無く除電でき、確実に花粉や塵埃を吹き飛ばすことができる花粉除去装置1を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】洗浄室内の洗浄流体の急激な密度変化を防止することができ、洗浄後の被洗浄物がダメージを受けることがない洗浄システムを提供する。
【解決手段】洗浄システム10では、洗浄室に収容された被洗浄物を洗浄した後、制御装置18がマスフローコントローラを介して流体圧力逓減手段を実行するとともに、第1温度制御手段、流入量制御手段、第2温度制御手段を実行し、洗浄室内の洗浄流体の温度を略一定に保持しつつ、洗浄室内の洗浄流体の密度を略一定の下り勾配で低下させる。 (もっと読む)


【課題】
ボア等の円筒穴複数を同時清掃することができ、エアブロワのピッチ変更が可能で他の部品の円筒穴の清掃もできる円筒穴清掃用エアブロアの位置決め方法およびエアブロア機構を提供することにある。
【解決手段】
この発明は、複数のエアブロワを移動可能に保持するガイドレールと、ガイドレール上のエアブロワの位置決めをする位置決めプレートとの組み合わせによりエアブロア機構を構成してエアブロワの位置を位置決め固定するものであり、エアブロワの位置決めは、部品の複数個の円筒穴の中心に対応する位置決めプレートの雄形成部と雌形成部のいずれか一方とエアブロワ側に設けた雄形成部と雌形成部のいずれか他方との係合によりなされる。 (もっと読む)


【解決手段】 充填システム1は、回転式フィラ4と加圧タンク7およびサージタンク11とを備えている。サージタンク11と加圧タンク7は導管8によって連通可能となっており、その導管8にはロータリーポンプ24を設けている。
圧縮空気供給源22からサージタンク11内に圧縮空気を供給しながら高温の純水28(洗浄液)をサージタンク11内に噴出させるとともに、ロータリーポンプ24も作動させる。
サージタンク11内に噴出される純水は圧縮空気とともに導管8内を流通するので、導管8内が充分に洗浄される。
【効果】 液体としての洗浄液をポンプで配管内に流通させていた従来と比較して導管8内を確実かつ充分に洗浄することができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、コンパクトな構造でホッパも洗浄することができ、更に、ピグでは除去困難な糖分であっても完全に除去可能な空気圧輸送配管の洗浄方法及びその洗浄装置を提供する。
【解決手段】本発明は、ホッパ10内で噴射された洗浄水を、ロータリーフィーダー22の回転羽根の送出作用によって空気圧輸送配管14に供給する。この洗浄水は、ブロア18からの圧縮空気により空気輸送され、空気圧輸送配管14を通過する。これにより、空気圧輸送配管14が洗浄される。このように洗浄水の輸送手段として既存のブロア18を使用することにより、ポンプを別途必要とする従来の洗浄水供給装置と比較してコンパクトな構造となる。また、ホッパ10も洗浄することができ、更に、洗浄水による洗浄なので、ピグでは除去困難な糖分であっても完全に除去することができる。 (もっと読む)


【課題】基板搬送装置の搬送アームに付着したパーティクルを除去できる処理システム,搬送アームのクリーニング方法,及び,記録媒体を提供する。
【解決手段】基板Wを処理する処理システムにおいて,基板Wを搬送アーム35によって保持して搬送する基板搬送装置30と,搬送アーム35が進入させられる進入部S1とを備え,搬送アーム35を進入部S1に対して進入させるための入口131を設けた。この入口131における搬送アーム35の移動領域の上方に,下方に向かってクリーニング用ガスを吐出するガス吐出口183を設けた。かかる構成によれば,搬送アーム35に付着したパーティクルをクリーニング用ガスによって吹き飛ばして除去できる。 (もっと読む)


少なくとも一つの処理ゾーン(11,12,13,14)で容器の少なくとも外面を洗浄液によって処理する、ボトル又はそれと同等の容器の処理方法において、ラベル、特に、自己粘着性のラベルを剥がすための処理の前の前処理フェーズ(11,12)で液体の処理媒体を用いて容器を温める。
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【課題】利便性に富み、かつ省スペースを実現できる食器洗い機を提供すること。
【解決手段】(イ)駆動装置と前記駆動装置に着脱可能に接続した洗浄部材とを有する1又は複数の洗浄装置本体と、(ロ)前記洗浄装置本体をシンクへ取り付ける本体設置器具とを有する食器洗い機であって、
前記本体設置器具が、
(a)前記洗浄装置本体を着脱可能に固定する本体設置プレート部と、
(b)前記本体設置プレート部をスライドして着脱できる台座部と、前記台座部と垂直に接続した背もたれ部とを有するアーム部と、
(c)前記アーム部の背もたれ部又は台座部をスライドして着脱可能に固定するアーム結合部を有するアーム受け台部と、
(d)前記アーム受け台部を着脱できるアーム受け台接続部と、シンクに着脱可能に固定するシンク取付部を有するシンク設置部とを有する構成とすること。 (もっと読む)


【課題】粉砕設備の接続状態を維持したままで洗浄作業ができ、また、粉砕設備を停止することなく洗浄作業ができ、そして、極端な低温にすることなく、製造能力の低下や粒径品質のばらつきの原因を最小限とし、さらに、付着しやすい原料でも連続運転を行った状態で製品の回収が可能となる粉砕設備および粉砕方法を提供することを課題とする。
【解決手段】粉砕設備1は、原料供給機2と、粉砕機3と、出口側配管6と、前記原料供給機、前記粉砕機および前記出口側配管にわたって接続される径路配管a1と、径路配管内の気体を吸引する気体吸引機構9と、前記粉砕機の制御手段10と、を備え、前記制御手段は、前記粉砕物を、当該粉砕粒の粒径より小さな所定粒径の粉粒体である製品粉粒体とする通常運転と、前記粉砕物を、前記製品粉粒体の粒径より大きい清掃用粉粒体とする清掃運転と、なるように前記粉砕機の運転を制御する。 (もっと読む)


【課題】
切換バルブ装置から合流点までの間に逆流防止弁を設けなくても洗浄時の逆流を確実に阻止して、洗浄不良や塗装不良を起こさないようにする。
【解決手段】
主剤側洗浄工程(A)と硬化剤側洗浄工程(B)を交互に繰り返す際に、主剤側洗浄工程(A)終了後、硬化剤側洗浄工程(B)開始前に、少なくとも主剤供給管(2A)に主剤用洗浄液を充填する主剤用洗浄液充填工程(C)を行い、硬化剤側洗浄工程(B)終了後、主剤側洗浄工程(An+1)開始前に、少なくとも硬化剤供給管(2B)に硬化剤用洗浄液を充填する硬化剤用洗浄液充填工程(D)を行なうようにした。
するようにした。 (もっと読む)


【課題】管の内径が異なっても、キャビテーション気泡の崩壊領域を制御することができる管内部の表面改質または洗浄方法及び該方法に使用される管内部の表面改質または洗浄装置を提供すること。
【解決手段】ノズルから高圧液体を管の内部に噴射して、高圧液体の噴流まわりにキャビテーションを発生させ,キャビテーション気泡の崩壊衝撃力により管内部の表面を改質または洗浄する方法において、前記管内径Dと前記ノズル口径dに応じて、前記高圧液体の噴射圧力p1と前記管内部の圧力p2を制御することにより前記管内部のキャビテーション気泡の崩壊領域xを制御することを特徴とする。この特徴によれば、所定の管内部のキャビテーション気泡の崩壊領域にキャビテーション気泡の崩壊衝撃力を作用させることができるので、効率が良い処理が可能となる。 (もっと読む)


【課題】超臨界流体または亜臨界流体から形成された高圧洗浄流体を利用して使用済みフィルタ全域の汚れを落とすことができるフィルタ洗浄容器を提供する。
【解決手段】フィルタ洗浄容器19Aでは、フィルタ11の上面12全域を覆う被覆材39と被覆材から延びる管材40とが洗浄室32に設置され、被覆材39がフィルタ11の周縁部44に位置する周縁部45とフィルタ11の上面12から離間する中央部46とを有し、超臨界流体と亜臨界流体との一方から形成された高圧洗浄流体の流路となるスペース47がフィルタ11の上面12と被覆材39の中央部46との間に形成されている。この洗浄容器19Aは、洗浄流体が洗浄室32に収容されたフィルタ11の下面13から上面12に向かって通流する。 (もっと読む)


【課題】基板の改質等、ワークの処理などに使用されるプラズマ発生装置において、プラズマの点灯状態を正確に反映した制御や表示を可能にする。
【解決手段】プラズマ発生部30に複数個のプラズマ発生ノズル31が設けられていることに対応して、このプラズマ発生部30から離間し、ワークWの搬送の邪魔にならず、かつ総てのプラズマ発生ノズル31を見通し可能な固定位置に、プルームPの発光光量だけを正確に測光できるようなスポット測光手段101を設け、全体制御部90のCPU901は、このスポット測光手段101を、変位手段102によって首振り走査させ、読取った明るさに対応して、処理ガスの流量制御弁923を制御する。したがって、プラズマの点灯状態を反映した制御や表示を行うことができ、またプラズマの点灯状態を検出する検出手段を、複数のプラズマ発生ノズル間で共用することができる。 (もっと読む)


【課題】基板の裏面の汚染に起因するパターン不良を防止できる基板処理装置を提供することである。
【解決手段】基板処理装置500は、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、現像処理ブロック12、レジストカバー膜用処理ブロック13、レジストカバー膜除去ブロック14およびインターフェースブロック15を備える。インターフェースブロック15に隣接するように露光装置16が配置される。インターフェースブロック15は、裏面洗浄処理ユニットRSWを含む。裏面洗浄処理ユニットRSWにおいて、露光処理前に基板Wの裏面が洗浄される。 (もっと読む)


【課題】管部材内を移動するピグの位置を比較的簡単に且つ容易に監視することができるピグの位置監視方法を提供すること。
【解決手段】管部材内を移動するピグによって発生する移動音を集音マイク6で集音し、集音した移動音の周波数のうち特定周波数範囲の音成分の単位時間当たりの発生回数を周波数測定装置20でもってカウントし、単位時間当たりの発生回数のカウント値に基づいて管部材の曲折部を判定し、この曲折部情報を利用してピグの位置を監視する。移動音の特定周波数範囲は800〜1200Hz以下の周波数範囲であり、管部材の曲折部をピグが移動するときには、この曲折部に衝突して接触しながら移動するので、ピグの移動音には周波数の小さい成分が多く含まれるようになり、従って、周波数測定装置20のカウント値も大きくなる。 (もっと読む)


【課題】1つのノズルを用いて、異なる大きさの円筒穴を清掃する。
【解決手段】ノズル30は、柔軟性を有するチューブで構成され、円筒穴に挿入されて円筒穴の内側表面へ空気を吹き付ける。回転パイプ25は、円筒穴の深さ方向に回転軸を有し、ノズル30が挿入され、ノズル30から円筒穴の内側表面へ吹き付けた空気の反作用でノズル30と共に回転する。保持金具40は、ノズル30の先端30aを、回転軸から所定の距離に、かつ円筒穴の内側表面に対して所定の角度に保持する。保持金具40により、円筒穴の大きさに応じて、ノズル30の先端30aの回転軸からの距離を変更し、円筒穴の内側表面の近傍から円筒穴の内側表面へ所定の角度で斜めに空気を吹き付ける。 (もっと読む)


【課題】高濃度の反応性水素化合物を生成し処理の高速化を図るとともに、被処理物への結露を防止する。
【解決手段】原料供給系20の原料成分CFをプラズマ生成部10の電極間空間13に導入し、電極間に電界を印加してプラズマを生成する。その後、水蒸気供給系30の水蒸気を上記CFと混合し、露点が被処理物Wの温度より高い処理ガスg1を得、電極間空間13に導入する。これにより、反応性水素化合物として高濃度のHFを含む低露点のガスg2が吹出し口14から吹き出され、被処理物Wのエッチング等の表面処理が実行される。処理終了後、先ず水蒸気導入を停止する。次に、プラズマ生成を停止し、CF導入を停止する。 (もっと読む)


【課題】細径かつ長尺のチューブ等を使用しながら洗浄ノズルに所要圧力の圧縮気体を供給可能とし、水深深く設置された検出器本体の洗浄対象部位に対しても十分な洗浄力を発揮する水質検出器用洗浄装置を提供する。
【解決手段】電極部等に付着した汚濁物質を洗浄ノズルから噴射する圧縮空気により除去する水質検出器用洗浄装置において、圧縮気体供給源としてのポンプ40と、ポンプから圧縮空気を供給するためのチューブ22と、チューブ22に連結され、かつ試料水W中の検出器本体10の近傍に配置されたタンク20と、タンク20に連結されて圧縮空気が供給されるバルブ30と、バルブ30の出口側に配置されて電極部13等の洗浄対象部位に試料水Wを介して対向する洗浄ノズル31と、を備える。バルブ30は、タンク40から供給される圧縮空気圧が所定の設定圧力を超えた時に開動作して圧縮空気を洗浄ノズル31から噴射させる。 (もっと読む)


【課題】口部に付着した錆の除去に適した容器の口部洗浄装置を提供する。
【解決手段】壜100をその壜軸線CL1の回りに回転駆動する壜回転機構10と、壜回転機構10にて回転駆動される壜100の壜軸線CL1と平行なブラシ軸線CL2を有し、砥粒を含んだ外周部が壜100の口部101と対向するように配置された円盤状のブラシ11、12と、ブラシ11、12をブラシ軸線CL2の回りに回転駆動するブラシ回転機構13と、口部101に対してブラシ11、12の外周部を押し付けるブラシ押し付け機構14とを口部洗浄装置1に設ける。 (もっと読む)


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