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Fターム[3B116CD41]の内容

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【課題】従来のエアシャワ装置においては、長時間電源供給されない状態が継続されると、制御装置(PLC)の停電記憶が機能せず記憶データが初期化される、あるいは、管理者がエアジェット時間を設定しても作業者が勝手にスイッチを触って設定時間を短くする等の問題があり、本発明はこれらを解決する。
【解決手段】本発明は、エアシャワの動作を制御する制御装置(PLC)203に複数の動作仕様(カウントダウン,ジェット時間,クリーンアップ時間,日々ジェット回数,ジェット総回数)を有する専用制御装置(専用表示基板)401を接続し、その専用制御装置側で記憶機能を付加する。 また、エアシャワ装置の専用制御装置(専用表示基板)において選択機能を設備管理者以外の人が容易に操作できないよう隠しキー117、または数値キーによるパスワード入力を設ける。 (もっと読む)


【課題】 食品に対して強い洗浄殺菌処理が可能な食品洗浄殺菌装置および食品の洗浄殺菌方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 食品を洗浄するための洗浄消毒槽10と、洗浄時に洗浄消毒槽10に収納された食品に対してオゾンを含むオゾン水である洗浄液を噴射するための噴射バルブ切替器5と、オゾン水に対して紫外線を照射してヒドロキシラジカルを生成するための紫外線ランプ14とを備える。 (もっと読む)


【課題】大気圧近傍の圧力下において、フッ素含有化合物ガスを含む処理ガスを用いてプラズマ処理を行う場合に、このプラズマ処理後のガスを回収し、この回収ガスに含まれるフッ素含有化合物ガスを再利用することにより、処理ガスの総使用量を削減することができる放電プラズマ処理装置及びその処理方法を提供する。
【解決手段】対向した一対の電極の間に、フッ素含有化合物ガスを含む処理ガスを流すと共にプラズマを発生させて基板の表面処理を行う放電プラズマ処理装置1であって、放電プラズマ処理装置1は、前記電極間に前記処理ガスを供給するガス供給手段30と、プラズマ処理後の処理ガスを回収すると共に該回収したガスから前記フッ素含有化合物ガスを抽出するガス抽出手段20とを備え、ガス抽出手段20は、前記抽出したガスをガス供給手段30に流すべく接続されてなる。 (もっと読む)


基板洗浄装置は、イオン水素含有化学種とラジカル水素含有化学種との第一比率を有する活性ガスを形成するために水素含有ガスを遠隔励起するリモートソースを有する。本装置は、基板支持体と、遠隔励起ガスをろ過して、イオン水素含有化学種とラジカル水素含有化学種の第二比率を有し、第二比率が第一比率と異なる、ろ過された励起ガスを形成するイオンフィルタと、チャンバにろ過された励起ガスを導入するガス分配器とを備えたプロセスチャンバを有する。
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【課題】 シート状物の汚れを効果的に除去することができるシート状物の洗浄装置を提供する。
【解決手段】 対をなす洗浄ブラシ7,7A,8,8A間を通して洗浄液46によりシート状物101を洗浄する。同一方向に回転する対をなす洗浄ブラシ7,7Aと、これらと逆方向に回転する対をなす洗浄ブラシ8,8Aとを備える。対をなす洗浄ブラシ7,7A,8,8Aが同一方向に回転することにより、シート状物101の表裏の一方には搬送方向でブラシ線材22が当たると共に、他方には搬送方向と逆方向でブラシ線材22が当たり、さらに、他の対をなす洗浄ブラシ8,8Aにおいては、シート状物101の表裏の一方には搬送方向と逆方向でブラシ線材22Aが当たると共に、他方には搬送方向でブラシ線材22Aが当たり、シート状物101の縁などの汚れを効果的に落すことができる。 (もっと読む)


【課題】固体撮像装置に組み込まれるスペーサ付カバーガラスの製造工程において、ドライエッチング後のスペーサ上のエッチングマスクとガラス基板上に露出した接着剤とを、安価な装置を用い、高スループットで容易に除去することのできるスペーサ付カバーガラスの洗浄方法を提供すること。
【解決手段】バレル型アッシング装置50を用い、安価な装置で高スループットとした。また、処理ガスをスペーサ付カバーガラス3の外周から中心部に向けて供給するとともに、処理ガスの供給方向をスペーサ付カバーガラス3の外周に沿って相対的に変化させるようにし、スペーサ付カバーガラス3の面内アッシング処理の均一性を高めた。 (もっと読む)


【課題】被洗浄物に応じた洗浄を可能として、洗浄品質を向上させることを目的とする。
【解決手段】被洗浄物3を個別に洗浄し乾燥させるノズルユニット11であって、液体若しくはエアを選択的に切り換えて噴射し又は吸引可能なノズル部27・27・・・が複数配設され、該ノズル部27・27・・・は、洗浄液噴射ノズル部27a、濯ぎ水斜方噴射ノズル部27b、濯ぎ水垂直噴射ノズル部27c、エア噴射ノズル部27d、及び吸引ノズル部27eからなる群より選ばれる少なくとも一種のノズル部27・27・・・からなり、各ノズル部の種類及び位置を変更可能とされる。 (もっと読む)


【課題】 昇降路や乗りかごの少なくとも一部に設けられた透明板を、容易かつ確実に清掃することができるエレベータ設備の清掃方法及び清掃装置を提供すること。
【解決手段】 先端部に清掃体6を取り付けた清掃装置の基端部4をエレベータかごの外面に分離可能に接着させ、かつ前記清掃体6をガラス面2に接触させた状態で、前記エレベータかごを、通常時の運行速度より低速で移動させ、前記清掃体6をガラス面2に摺動させて清掃する。 (もっと読む)


【課題】定期洗浄のランニングコストを低減できる高層住宅の排水管の洗浄方法を提供すること。
【解決手段】本発明の洗浄方法では、排水管1の洗浄用の立て管20が高層住宅Bに配管される。立て管20には、洗浄水Wを立て管20内に取入可能に、洗浄水Wを供給可能なポンプ車16と接続可能な取入口25と、洗浄水Wを噴射可能な洗浄ノズル37を先端に設けた洗浄ホース38と接続可能な取出口29とが、配設される。洗浄時には、取入口25にポンプ車16を接続させて、ポンプ車16から加圧状態の洗浄水Wを立て管20内に充填させるとともに、洗浄階の取出口29にホース38を接続させて、ホース38を接続させた取出口29だけを開口させ、かつ、他の取出口29を閉じて、開口された取出口29とホース38とを経てノズル37から噴射される洗浄水Wにより、排水管1を洗浄する。 (もっと読む)


【課題】 簡単な構成で、基板の非処理面に対する処理液の回込みを防止することができる基板の片面処理装置を提供する。
【解決手段】 平板形状を有する基板21の片面21aを処理する片面処理装置20は、回転自在に設けられて外周面に片面21aが接触するようにして載置される基板21を搬送する複数の搬送ローラ22と、基板21の処理液を搬送ローラ22の内部に供給する処理液供給手段23とを含む。搬送ローラ22は、処理液供給手段23から供給される処理液を、その内部から外周面へ吐出し、吐出される処理液によって基板21の片面21aを処理するように構成される。 (もっと読む)


【課題】 傷がなく、表面光沢の優れる研削加工基板を与える円盤状ポ−ラスセラミック製チャックの洗浄方法の提供。
【解決手段】 研削加工された基板を除去するたびに円盤状ポ−ラスセラミック製チャック12を洗浄する方法において、この円盤状ポ−ラスセラミック製チャック上でブラシ洗浄された研削加工基板の枚数に応じて始めはセラミック製竿32のみで1回チャック洗浄し、次ぎのチャック洗浄からr回(rは1〜100の整数である。)はブラシ31のみでチャック洗浄し、以降、研削加工された基板が取り去られた円盤状ポ−ラスセラミック製チャックをセラミック製竿31のみで1回、続いてブラシのみでr回規則正しく円盤状ポ−ラスセラミック製チャック表面をチャック洗浄することを繰り返す。従来のセラミック製竿31のみでチャック洗浄する方法と比較し、ブラシ洗浄を塀用することでチャックの磨耗量が減少し、傷がなく、表面光沢の優れる研削加工基板を与える。 (もっと読む)


【課題】 岩盤地下の液体貯留槽に設置した保護管の内面に付着堆積した析出物を除去する保護管内付着堆積物除去装置を提供する。
【解決手段】
岩盤地下に形成された液体貯留槽1と、液体貯留槽1内に設置した保護管20と、保護管20内に設置された送液ポンプ23及び緊急遮断弁30を備えてなる地下液体貯留設備の保護管20内面に付着堆積した析出物を除去する保護管内付着堆積物除去装置であって、送液ポンプ23及び緊急遮断弁30を保護管30から取り外した際に保護管20内に設置され保護管20内面に付着堆積した析出物を除去洗浄する洗浄冶具50と、洗浄冶具50を保護管20内に吊下げるワイヤ51と該ワイヤ51を上下回転移動させる吊下機構46とを備えて構成し、洗浄冶具50で保護管20内面に付着堆積した析出物を除去洗浄するように構成した。 (もっと読む)


【課題】 個々の粒体に共振回路と等価な電気的特性を有する構成を備える、具体的には、構成要素としてコイル要素と、寄生容量からなる並列共振回路を備える洗浄媒体および洗浄媒体検知方法を提供する。
【解決手段】 粉体を吸着させて被洗浄物から粉体を除去する洗浄方法に用いる洗浄媒体1において、少なくとも粉体を吸着する性質を備えた外装材2と、共振回路と等価な電気的特性を有する構造体3とを有する。 (もっと読む)


【課題】浄化処理槽によって排水を浄化することにより得られた浄化水の有効利用を図ることにより、洗浄作業を容易化できるようにする。
【解決手段】トイレから排出された汚水等の汚泥成分を含有する排水を段階的に浄化する複数の浄化処理室4〜8を備えた浄化処理槽1と、この浄化処理槽1とは別体に形成されるとともに、浄化処理槽1から導出された浄化水を貯留する浄化水貯留槽2とを有する排水浄化装置の洗浄方法であって、上記複数の浄化処理室4〜8の内部に収容された排水及び処理水の導出作業を行った後に、上記浄化水貯留槽2内に貯留された浄化水を、浄化処理槽1の最上流部に位置する最上流浄化処理室4の上部から洗浄水として供給することにより、最上流浄化処理室4の内壁面に付着した汚泥成分等を除去するとともに、最上流浄化処理室4およびその下流側の浄化処理室内に上記浄化水からなる洗浄水を充填する。 (もっと読む)


【課題】 長時間の洗浄を可能とした洗浄装置を提供する。
【解決手段】 被洗浄物3を洗浄するためのガスと液体とからなる混合物を被洗浄物に向けて吐出するノズル6と、ノズル6に所定のガス吐出圧力でガスを供給するガス供給機構8と、ノズルに液体を供給する液体供給機構9と、を備えた洗浄装置1である。液体供給機構9は、液体を貯液する液体加圧タンク20と、液体加圧タンク20からノズル6へ、所定の液体吐出圧力で、ガスよりも時間当たりの流量が少ない液体を供給するための液体供給ライン21と、液体加圧タンク20に、液体吐出圧力以上の圧力で外部から液体を供給することで、液体の補充を行う液体補充機構22と、を備える。液体供給機構9は、液体加圧タンク20から液体供給ライン21によりノズル6へ液体を供給しつつ、液体補充機構22から液体加圧タンク20への液体の補充が行えるように構成されている。 (もっと読む)


【課題】 本発明は二酸化炭素を溶媒とした異なる数種類の混合溶媒でも置換効率を高めることが可能で、かつ容易に製造することができる高圧処理装置を得るにある。
【解決手段】 開閉扉を備える高圧処理容器と、この高圧処理容器の上方と下方にそれぞれ設けられた溶媒の導入部あるいは排出部となるように切換弁を介装した上方配管および下方配管と、前記高圧処理容器内の溶媒の密度が導入する溶媒より大きい場合には前記上方配管より導入し、前記下方配管より排出し、高圧処理容器内の溶媒の密度が導入する溶媒より小さい場合には前記下方配管より導入し、前記上方配管より排出させる制御機構とで高圧処理装置を構成している。 (もっと読む)


【課題】 高速走行する光ファイバなどの線状体の外観検出を誤動作なく高精度に行う。
【解決手段】 走行する光ファイバFの外観を光学的に検出する検出器を収容した検出室14の入口16aに隣接して光ファイバFが挿通可能な空間部を有する前室13を配置する。前室13の長手方向の長さL(m)を、光ファイバFの線速V(m/min)との間で、L≧(3.0×10−5)Vの関係を満たす長さとする。検出室14及び前室13にクリーンエアーを供給して陽圧とする。 (もっと読む)


【課題】
保守が容易でかつ塗布装置の使用環境を汚染することのない、高粘度のペーストでも確実にノズルの先端を清掃する装置を実現する必要がある。
【解決手段】
そのため、本発明のノズル清掃装置は、上部にノズルの長さ以上の空間を設けたノズル清掃装置本体の上部をラテックスの薄膜で覆い、ラテックス薄膜をその張力を維持するように金具で固定し、ラテックス薄膜にノズルを押し込むことによって該薄膜をノズル表面に密着させてノズルに付着したペーストをラテックス薄膜表面に転写させることを特徴とする。
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【課題】 本発明の課題は、簡易な方法且つ漏れなくびん内残液を検出することができるびん内残液検出装置を提供することである。
【解決手段】 本発明のびん内残液検出装置1は、回収したビールびん2を洗浄するびん洗浄部3と、洗浄が終了したビールびん2の口部2aを下にしてビールびん2内の水切りを行なう水切り部5とを備え、水切り部5はビールびん2内の残液を検知する液検知センサ21を備え、液検知センサ21がビールびん2内の液体を検知するようにしている。 (もっと読む)


【課題】 洗浄条件の設定に使用される洗浄条件設定装置(或いは洗浄装置自体)における面倒な設定作業を除くことで、設定作業の簡便性及び効率性を向上させるとともに、事前に洗浄装置の動作確認を行うことで、洗浄動作の確実性を向上させることが可能な洗浄動作確認プログラム、及びその洗浄動作確認プログラムが記録されたコンピュータ読み取り可能な記録媒体、並びに洗浄システムを提供することにある。
【解決手段】 被洗浄物を洗浄する洗浄装置(洗浄装置1)と電気的に接続される情報処理端末(PC2)に、洗浄条件を入力せしめる工程,洗浄装置の洗浄動作に関する仮想洗浄プログラムを実行する工程,その実行状態を出力する工程の各種工程を実行させることを特徴とする。 (もっと読む)


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