【課題】プラズマ処理後のポリマー残留物を基体、例えば電子装置から除去するために有用な組成物の提供。プラズマ処理後の残留物を除去する方法および組成物を用いた集積回路の製造法の提供。
【解決手段】本発明は、ａ）フッ化物イオン源；ｂ）水；ｃ）トリハロ酢酸、有機ポリカルボン酸化合物、有機ヒドロキシ−カルボン酸化合物およびアミノ酸から選択される有機酸化合物；ならびに任意にｄ）有機溶媒を含む組成物であって、４．５以下のｐＨを有する組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】 従来のアルカリ洗浄剤はアルミなどの非鉄金属を容易に腐蝕させることから、アルミが部品の少なくとも一部に使用されている電子部品等の洗浄には使用できなかったため、アルミ非腐蝕性に優れたアルカリ洗浄剤を提供する。
【解決手段】 有機アルカリ（Ａ）、水、並びに分子量３２〜数平均分子量５００のモノオール（Ｂ１）、分子量６２〜数平均分子量２５０のジオール（Ｂ２）、分子量９２〜数平均分子量４００の３〜９価のポリオール（Ｂ３）、および（Ｂ１）もしくは（Ｂ３）のアルキルエーテル（Ｂ４）からなる群から選ばれる１種または２種以上の親水性有機溶剤（Ｂ）を含有し、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の含有率が１，０００ｐｐｍ以下であるアルカリ洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】 高層建築物に十分な水圧の高圧洗浄水を簡単に供給することができるようになる高層建築物の高圧洗浄装置を提供する。
【解決手段】 高層建築物１に、地下階３から最上階５に至るまで、ストレート形状の高圧水用メインパイプ７を、ほぼ真っ直ぐに伸びるように配置する。高圧水用メインパイプ７の下端部に、入り口接続パイプ１１を形成し、また、高さ方向複数個所で供給口接続パイプ１５を設けておく。入り口接続パイプ１１から、高圧水用メインパイプ７を通って供給口接続パイプ１５に高圧水を導く。 （もっと読む）

【課題】製品を洗浄する方法において、大量の純水を精製して使用せずに、循環して高周波により殺菌すると共に加熱・冷却により、適宜の温度で効率良く、安価に、生菌による汚れがな製品を洗浄することを目的とする製品の洗浄方法を提供する。
【解決手段】
製品を洗浄する純水が循環して、加温冷却により所定の温度で製品を洗浄する方法であって、前記、循環する純水が高周波により殺菌して使用されることを特徴とする製品の洗浄方法である。 （もっと読む）

洗浄性、すすぎ性に優れた、物品の洗浄すすぎ方法を提供する。 汚染物質が付着した物品を、芳香族炭化水素またはグリコールエーテル類を含有する炭化水素系溶剤に接触させる洗浄工程と、含フッ素エーテルに接触させるすすぎ工程を有する物品の洗浄すすぎ方法であって、含フッ素エーテルが式１で表される化合物であることを特徴とする物品の洗浄すすぎ方法。 Ｒ^１−Ｏ−Ｒ^２ ・・・式１ ただし、Ｒ^１、Ｒ^２は、各々独立に含フッ素アルキル基を示す。Ｒ^１およびＲ^２に含まれるフッ素原子の数はそれぞれ１以上であり、かつＲ^１およびＲ^２に含まれる炭素原子の数の合計は４〜８である。 （もっと読む）

【課題】 室内等に散在するハウスダストそのものの除去を効率良く、かつ容易に行うことができるハウスダスト除去剤、該ハウスダスト除去剤を用いたハウスダスト除去方法を提供する。また、従来よりも殺虫効力に優れる殺虫剤及び殺虫剤の効力を高めるために有効な共力剤を提供する。
【解決手段】 スチレン共重合体を揮発性の溶媒に溶解させてなる凝集性液体組成物、並びに前記凝集性液体組成物を含有するハウスダスト除去剤、前記凝集性液体組成物からなる共力剤及び前記共力剤と殺虫成分とを含む殺虫剤。 （もっと読む）

【課題】 乾燥後の寝具を、アレルギー症状を緩和する環境下で寝具を屋内に収容できる方法を提供する。
【解決手段】 寝具を屋外で乾燥させた後、屋内に取り込む際に寝具に水性組成物を噴霧することで、アレルギー症状を緩和する環境下で寝具を屋内に収容する。 （もっと読む）

【課題】処理室内を洗浄するための洗浄水による基板汚染の問題を回避することができる、基板処理装置および処理室内洗浄方法を提供すること。
【解決手段】遮断板５を回転させながら、その遮断板５の上面に洗浄ノズルから洗浄液を供給することによって、遮断板５、処理室１の隔壁１１の内面、移動ノズル４、アーム４１およびアーム支持軸４３などに付着している処理液が洗浄液で洗い流される。そして、その処理室１内の洗浄の後、ファンフィルタユニット２が制御されて、処理室１内へのクリーンエアの風量が小風量から予め定める大風量に増加される。これにより、処理室１内の雰囲気置換が促進されることによって、処理室１の隔壁１１の内面や移動ノズル４、アーム４１、アーム支持軸４３および遮断板５などに付着している洗浄液が蒸発し、処理室１内が乾燥していく。 （もっと読む）

【課題】 被洗浄対象物の洗浄領域以外に洗浄剤が飛散することなく、また拭き取り用の布等を別途に用意する必要がなく、被洗浄対象物を洗浄することができる。
【解決手段】 可撓性膜を形成すべき膜形成成分とこの記膜形成成分に含有された洗浄成分と噴射剤とから成り、噴射剤によって噴出して洗浄成分が含浸された可撓性膜クリーナを形成するようにする。膜形成成分は、好ましくは、樹脂含水溶液と高級アルコールと潤滑性パウダーとの配合物から成っており、また洗浄成分は、電解イオン水を配合しているのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】
Ｎａ，Ｋ，Ａｌ，Ｆｅ，Ｃｕ，Ｃａ及びＭｇ等の金属不純物を容易かつ十分に除去することのできる石英ガラス治具又は該石英ガラス治具の製作工程途中の部材の洗浄方法及び該洗浄方法に好適に用いられる超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】
半導体製造プロセスで使用される石英ガラス治具又は該石英ガラス治具の製作工程途中の石英ガラス部材の酸洗浄を含む洗浄方法において、該酸洗浄後に３０〜７０℃の純水中で超音波洗浄を少なくとも１回行うようにした。 （もっと読む）

【課題】多結晶シリコンロッドを均一に洗浄し、前槽の洗浄液の持ち込みが少なく、洗浄効果に優れた洗浄方法と洗浄装置を提供する。
【手段】多結晶シリコンを切断して得たロッドをバスケットに収納し、該バスケットを洗浄槽に浸漬して上記ロッドを洗浄する方法において、洗浄槽内で上記バスケットの片側を上下動して該バスケットを傾動することによって、バスケット内部のロッドを揺動ないし回転させて酸洗浄や純水洗浄を行い、あるいは上記バスケットの底部にロッドが脱落しない大きさの開口を設ける一方、バスケットを載置する支持台の上面に上記開口部を通じてロッドを回転する手段を設け、洗浄槽内で上記バスケット内部のロッドを強制回転させて酸洗浄や純水洗浄を行うことを特徴とする洗浄方法および装置。 （もっと読む）

【課題】 基板が大型化しても基板の被処理面全体を均一にウエット処理することができる基板のウエット処理装置とウエット処理方法を提供すること。
【解決手段】 基板１を傾斜姿勢で保持し、処理液を基板１の被処理面１０上で流下させながらウエット処理するウエット処理装置において、水平面に対し垂直または傾斜した受け面３１で前記基板１の上端縁１１と当接する受け部材３と、この受け部材３の受け面３１に処理液を供給する供給手段４とを備え、供給手段４により供給した処理液を受け面３１に沿って流下させ、この処理液を受け面３１に当接させた基板１の上端縁１１の端面へと導き、この端面を越流させた処理液を基板１の被処理面１０へ供給してウエット処理することを特徴とする。
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【課題】 リブ材等の部材を痛めることなく短時間でフォトレジストを除去するフォトレジスト剥離液を提供する。
【解決手段】Ｎ（ＲＯＨ）_３（式中、Ｒは炭素数２〜４のアルキレン基である。ただし、３個のＲの全てが同一の炭素数のアルキレン基であるものを除く。）で表されるアルカノールアミン（Ａ）と溶媒成分（Ｂ）とを含有しているフォトレジスト剥離液。 （もっと読む）

【課題】 従来、壁装材施工時の窓枠や壁装面に付着した接着剤及び汚れ落としには、水道水やアルコール系の溶液が用いられていた。この方法では、接着剤が窓枠や壁装表面に残り、それが乾燥した後、黄変及び埃の付着が発生した。またアルコール系用液での拭い取りにおいては、不快臭があった。
【解決手段】 壁装施工時に、窓枠や壁装面に付着した接着剤及び汚れを希釈した洗浄剤用液で拭い取るものである。 （もっと読む）

【課題】 ゴミ等の有機系の異物を除去するための洗浄部の稼働効率を低下することなく、ラテラルクラックの割れ目に洗浄液を十分浸透させて、ラテラルクラックを除去することにより、パネル基板におけるチッピングの発生を抑制する。
【解決手段】 水よりも表面張力が小さくなるように調整された第１洗浄液８が貯留されており、第１洗浄液８に液晶表示パネル２のパネル基板３を浸漬させることにより、パネル基板３に発生したラテラルクラックの割れ目に第１洗浄液８を浸透させながらパネル基板３を洗浄する第１洗浄部４と、有機系の異物を除去する第２洗浄液１５が貯留されており、パネル基板３を第２洗浄液１５に浸漬させ、パネル基板３に付着した有機系の異物を除去するようにパネル基板３を洗浄する第２洗浄部１３とを有し、第１洗浄部４の大きさが第２洗浄部１３の大きさよりも大きく形成されている。 （もっと読む）

【課題】 違法張り紙や落書きは、地域の美観を損なうばかりか青少年の教育に悪影響を及ぼしている。こうした貼り紙や落書きを、容易に除去するために、効果ある除去液を必要としている。
【解決手段】 脂肪族飽和塩素化炭化水素と極性溶剤の混合液に増粘剤を加えた溶液によって、ペイント内に含まれる樹脂や接着剤を分解する除去液 （もっと読む）

【課題】 必要最小限のエネルギで、被洗浄物から取除かれて液体二酸化炭素に分散した汚染物質或いは液体二酸化炭素に溶解した汚染物質を効率良く分離し、液体二酸化炭素を清浄に保持したまま、被洗浄物を洗浄する。
【解決手段】 被洗浄物１３が洗浄槽１４に収容され、第１液相を形成する液体二酸化炭素１１が洗浄槽１４に貯留される。洗浄槽１４の内部に超音波発振器１６が設けられる。超音波によるキャビテーションの生成及び消滅に起因する衝撃波が超音波発振器１６により上記液体二酸化炭素１１を伝搬して被洗浄物１３に衝突し、被洗浄物１３から汚染物質が除去される。液体二酸化炭素１１に溶解しない第２液相を形成しかつ極性水溶液又は極性有機溶媒からなる液体１２が洗浄槽１４に貯留され、第１液相の液体二酸化炭素１１と第２液相の液体１２が混合手段１７により混合される。 （もっと読む）

【課題】 電子部品、金属部品、セラミック部品などに付着している油脂類、樹脂、パーティクルなどを除去するのに使用されるアルカリ洗浄剤であって、特に垂直配向タイプのポリイミド配向膜の剥離が可能で、かつ耐アルミ腐蝕性に優れた新規な洗浄剤、洗浄方法および洗浄された電子部品を提供すること。
【解決手段】 アルカリ成分（Ａ）、親水性有機溶剤（Ｂ）からなり、３０℃における電導度が０．１〜３．０ｍＳ／ｃｍである洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】 小型の光学部品の超音波洗浄とスピン乾燥を、３点支持や中央部に貫通孔を有する光学部品保持具で行っていたが、スピン乾燥だけではシミや汚れができてしまい、高度の熟練を要する手拭き作業に頼らざるを得なかった。また、複数種類の形状寸法の異なる光学部品を１つの光学部品保持具で保持して超音波洗浄・スピン乾燥をすることができず、多数の光学部品保持具を必要としていた。
【解決手段】 複数の光学部品保持部を、その一方の寸法を可変にした可変光学部品保持部にするとともに、周縁部が２段構造の光学部品保持具の外側の周縁部に、内側から外側に通じる溝を設け、光学部品載置部は光学部品を固定しないで自由に動けるように保持して洗浄・乾燥を行うようにして課題を解決した。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の製造において、ウェハ表面に付着した異物を確実に除去でき、異物の再付着、配線の溶解等のない洗浄方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造における洗浄方法は、アルミ配線パターンの形成工程後に、アルミ配線パターンが形成された表面に対して、流体をノズル４から吐出させて行う洗浄を使用し、流体は、超純水、または、不活性ガスと超純水又は少なくとも超純水を含む液体とを混合した２流体である。 （もっと読む）