【課題】 少ないアンモニアの使用量で半導体ウエハを効果的に洗浄する方法を提供すること。
【解決手段】 電気伝導度が１μＳ／ｃｍ以下である純水にアンモニアを添加してその濃度を０．００５〜０．５％としたアンモニア水中において生成させた、粒径が５０μｍ以下で、レーザー光遮断方式の液中パーティクルカウンターによる計測において１０〜１５μｍに粒径のピークを有しており、そのピークの領域における個数が１０００個／ｍＬ以上である、空気および／または不活性気体を含有する微小気泡を含むアンモニア水を、半導体ウエハの表面に接触させて行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来の超音波発振器に比べて部品数が低減され、それによって小型化され、またコストが安価となった超音波発振器及びそれを備えた超音波振動装置を提供する。
【解決手段】超音波振動子に高周波電力を出力する超音波発振器であって、少なくとも、高周波信号を発振する主発振ユニットと、該主発振ユニットの発振する高周波信号を入力し、高周波電力として出力する出力ユニットと、該高周波電力を変圧する出力トランスと、該変圧した高周波電力の周波数を調整して超音波振動子に出力するマッチング調整回路と、交流電源から入力した電力を直流として前記出力ユニットに供給する電源ユニットとを具備し、前記出力トランスとマッチング調整回路が一体となっているものであることを特徴とする超音波発振器。 （もっと読む）

【課題】従来から高濃度酸素溶解水の製造は種々の方法で行われてきたが、いずれも得られる濃度が不十分であったり、コスト的に実現が難しかったりした。本発明は、高濃度酸素溶解水を簡単かつ安価で製造できる方法や装置を提供する。
【解決手段】酸素含有気泡を有する２以上の水流３４を衝突させることにより前記気泡をより微細化するとともに、気泡中の酸素を前記水流中に大量に溶解させる。両水流は両水流の流速の和に等しい速度で衝突するが、その衝撃は単独の水流が静止面に衝突する際の数倍から十数倍に達し、各水流に最大限の衝撃が与えられ、水流中の気泡が破壊されて微細化し、気泡中の酸素の水流中への溶解が促進される。 （もっと読む）

【課題】バイオフィルムを効果的に除去することができるバイオフィルム除去剤、および、バイオフィルム除去用組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）
［化１］


（式中、ｎは２以上の整数である。）で表されるポリリジンからなるバイオフィルム除去剤、および、このバイオフィルム除去剤を含有するバイオフィルム除去用組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】基板表面に付着したパーティクル等の汚染物質を除去するための基板処理装置および基板処理方法において、高いスループットを得られ、しかも優れた処理性能でパーティクル等を除去する。
【解決手段】凍結後の液膜ＬＦ（凝固膜ＦＦ）の到達温度を低くすることによってパーティクルの除去効率を高めることができる。しかも、基板表面Ｗｆ全体に凝固膜ＦＦが形成される前後で冷却ガスの流量を変更しているので、処理に要する時間を短縮しながら優れた処理性能でパーティクル等を除去することができる。特に、液膜ＬＦを凍結させる段階での冷却ガスの流量については基板表面Ｗｆ上の液膜ＬＦを吹き飛ばさない程度に抑えることが必要であるが、凝固膜ＦＦが全面形成された後の段階ではこのような制約がなく、冷却ガスの流量を多くすることが可能であり、これにより冷却能力を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】硬化性樹脂又はその硬化物が付着した被洗浄物の洗浄に対して、優れた洗浄効果を発揮する溶剤組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）ノルマルプロピルブロマイドを１５重量％〜５５重量％、（ｂ）Ｎ−メチル−２−ピロリドンを４０重量％〜８０重量％、及び（ｃ）添加剤を０．５〜５重量％からなることを特徴とする、硬化性樹脂又はその硬化物が付着した被洗浄物を洗浄するための溶剤組成物。 （もっと読む）

【課題】湿潤および浸透効果に優れるため、配向膜基板上に存在する汚染物質に対する洗浄効果に優れた洗浄液組成物を提供する。
【解決手段】本発明の洗浄液組成物は、アルカリ化合物を含まない洗浄液組成物であって、組成物の総重量に対して、Ｃ１〜Ｃ５の低級アルコール０．１重量％〜１５重量％、水溶性グリコールエーテル化合物０．１重量％〜１５重量％、有機リン酸０．０１重量％〜１０重量％、アゾール系化合物０．００１重量％〜１０重量％、および残量の水を含む。 （もっと読む）

【課題】 製造工程時に使用する装置から溶出する鉄イオンに代表される金属イオンに由来するパーティクルに対して優れた洗浄性を有するとともに、適度なエッチング性を有することで基板表面から脱離したパーティクルの分散性が良好であり、かつ再付着防止性に優れた磁気ディスク用基板洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 オキシカルボン酸（Ａ）とｐＨ６．０における三価の鉄イオンに対するキレート安定度定数の対数値が７．０以上であって該オキシカルボン酸以外のキレート剤（Ｂ）およびアルカノールアミン（Ｃ）を必須成分として含有することを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤である。 （もっと読む）

【課題】充填用容器や栓部材の洗浄において洗浄に用いる水の使用量を削減可能なリンサー排水回収システム等を提供する。
【解決手段】充填用容器に製品液を充填して栓部材で閉栓する充填設備に設けられるリンサー排水回収システムであって、製品液が充填される前の充填用容器を洗浄するボトルリンサー２ｂに接続する経路と栓部材を洗浄するキャップリンサー２ｅに接続する経路とに分岐してボトルリンサー及びキャップリンサーにリンサー水を供給する供給配管５１，５２と、ボトルリンサーからのリンサー排水を回収する配管５３，５５とキャップリンサーからのリンサー排水を回収する配管５４，５５とを有する回収系と、回収系により回収されるリンサー排水中に含まれる殺菌剤を活性炭により分解し、リンサー水として再使用するための処理を行う回収装置４と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、酸化剤を有効成分とする分離膜用の洗浄剤であって、更に洗浄力を高めた洗浄剤及び、これを用いる洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 酸化剤と化１の化学式（Ｉ）で表されるアザアダマンタン型ニトロキシルラジカルを含むことを特徴とする分離膜用洗浄剤。
【化１】


（但し、Ｒ_１およびＲ_２は、水素原子または炭素数１〜６の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基を示す。）
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【課題】液滴吐出装置の導体パターン形成用インクの流路における汚れ、液滴吐出ヘッドの目詰まりを好適に解消できる液滴吐出装置の洗浄方法を提供する。
【解決手段】液滴吐出方式による導体パターンの形成に用いられ、金属粒子が水系分散媒に分散した導体パターン形成用インク１を吐出する液滴吐出装置を洗浄する洗浄方法であって、前記液滴吐出装置の前記導体パターン形成用インク１の流路に、分散剤と有機溶剤とを含む第１の洗浄液を流す第１の洗浄工程と、前記第１の洗浄工程の後、前記液滴吐出装置の吐出性を検査する検査工程と、無機酸を含む第２の洗浄液を前記流路に流す第２の洗浄工程と、主として前記水系分散媒で構成された第３の洗浄液を前記流路に流す第３の洗浄工程とを有し、前記第２の洗浄工程および前記第３の洗浄工程は、前記検査工程の結果に応じて行う。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高い洗浄性と高い保存安定性とが両立された硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物、及びそれを用いて行うガラス表面の洗浄方法を提供する。
【解決手段】アルカリ剤（成分Ａ）と、非イオン性界面活性剤（成分Ｂ）と、キレート剤（成分Ｃ）と、水（成分Ｄ）と、一般式（１）および一般式（２）から選ばれる少なくとも１種のカルボン酸化合物(成分Ｅ)と、一般式（３）で示される化合物およびその塩から選ばれる少なくとも１種のアニオン性界面活性剤(成分Ｆ)とを含有してなり、含有量比〔成分Ｅ（重量％）／成分Ｂ（重量％）〕が１／１．５〜１５／１であり、含有量比〔成分Ｆ（重量％）／成分Ｂ（重量％）〕が１０／１〜１／５であり、２５℃でのｐＨが１２以上である、硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 Ｎｉ−Ｐメッキしたアルミ基板に由来するニッケルイオン、ステンレス製の洗浄設備等に由来する鉄イオンの再析出に対して優れた溶解性を有するとともに、適度なエッチング性を有することで一旦吸着した後、基板表面から脱離したパーティクルの分散性が良好であり、かつパーティクルの再付着防止性に優れた磁気ディスク用基板洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 カルボキシル基を分子内に有するキレート剤（Ａ１）、ホスホン基もしくはリン酸基を分子内に有するキレート剤（Ａ２）および脂肪族アルカノールアミン（Ｂ）を必須成分とすることを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤である。 （もっと読む）

【課題】冷間圧延鋼板等の鋼帯の製造工程における洗浄工程の後のリンス工程において、カルシウムとマグネシウムを除いていない水を用いながら、かつ、汚れ成分の残留、蓄積を抑止して、脱脂性、脱スマッジ性を改善することができる、鋼帯用リンス剤組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）アニオン性水溶性高分子及び／又はリン酸化合物、（ｂ）アルドン酸類、アミノカルボン酸類及びオキシカルボン酸類から選ばれるいずれか少なくとも１種の化合物のアルカリ金属塩及び／又はアミン塩、並びに、（ｃ）カルシウムとマグネシウムを含有する水、を混合する工程を有する方法により得られる鋼帯用リンス剤組成物であって、当該組成物における、前記（ａ）成分と（ｂ）成分の合計含有量が０．００１〜０．１重量％であり、前記（ａ）成分と（ｂ）成分の重量比（（ａ）／（ｂ））が０．６〜５であり、かつ、カルシウムとマグネシウムの合計含有量が２０〜１５０ｐｐｍである鋼帯用リンス剤組成物。 （もっと読む）

【課題】ワイヤーソー法に係るウェハの洗浄装置に関する。
【解決手段】洗浄装置は第１の主面がインゴットに接続された保持板２０と、前記保持板２０の第２の主面に接続された取付板と、切断間隙の領域において前記ウェハ２２を洗浄するためにフラッシング液を供給する機構とを備え、前記保持板２０は、その表面上に配され、前記インゴットに向けて配向された複数の洗浄流路または洗浄管路１７を備え、好ましくは各洗浄流路の一端、特に前記インゴットとは反対側を向く端部がフラッシング液用のリザーバ５に対向して位置する。 （もっと読む）

【課題】 生成したヒドロキシルラジカル含有水の濃度を高精度に測定することを可能とするヒドロキシルラジカル含有水供給装置を提供すること。
【解決手段】 ヒドロキシルラジカル含有水を生成して供給する生成手段と、生成手段により生成されたヒドロキシルラジカル含有水の１４０〜２１０ｎｍの範囲内における１以上の波長での吸光特性を測定することにより、ヒドロキシルラジカル濃度を定量する定量手段とを備えたヒドロキシルラジカル含有水供給装置。 （もっと読む）

【課題】 洗浄力、乾燥性、安全性、経済性、有害性等の要求項目を満たす洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】 ジエチレングリコールジエチルエーテル及び３−メチル−３−メトキシ−１−ブタノールからなる洗浄剤組成物、特にジエチレングリコールジエチルエーテルの含有量が１０〜９０容量％、３−メチル−３−メトキシ−１−ブタノールの含有量が９０〜１０容量％からなる洗浄剤組成物は、自動車、機械、精密機器、電気、電子等の各種工業分野において扱われる部品等に付着する加工油類に対する洗浄力に優れ、特に水溶性加工油等の水及び油分が複合した汚れの洗浄に適しており、沸点が１７０℃以上であるため揮発性が低く、ＶＯＣ排出抑制に効果があり、且つ良好な乾燥性を有する。 （もっと読む）

【課題】 クーラント由来の残渣に対して優れた洗浄性を有するとともに適度なエッチング性を有することで基板表面から脱離したパーティクルの分散性が良好であり、優れたパーティクルの除去性を実現可能にする磁気ディスク用基板洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 下記一般式（１）で示され、ｍ/(ｎ＋ｍ＋ｋ)が０．２０〜０．５５であるノニオン界面活性剤（Ａ）と脂肪族アルカノールアミン（Ｂ）を必須成分として含有することを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤である。
ＨＯ−（ＥＯ）n−（ＰＯ）m−（ＥＯ)ｋ−Ｈ （１）
［式中、ＥＯはオキシエチレン基、ＰＯはオキシプロピレン基を表し、（ＥＯ）n、（ＰＯ）m、（ＥＯ)ｋは、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドがブロック状で付加している。ｎ、ｍ、ｋはそれぞれ２０以上の数を表し、ｎ＋ｍ＋ｋは６０〜２００である。］ （もっと読む）

【課題】タバコのヤニが付着した塗装された壁面および天井面を、ほぼ原状に近い程度にまでタバコのヤニを落とす洗浄方法を提供する。
【解決手段】洗浄剤として、次亜塩素酸ナトリウムに無機アルカリとメチルアルコール、エチルアルコール、ブチルアルコール、プロピルアルコールの中から選択されるアルコール類、および水を加えることで、ｐＨが１０〜１２、有効塩素の濃度が１〜６重量％になるように調整した洗浄液を用いる。 （もっと読む）

【課題】酸化セリウム等の研磨材に由来する微粒子汚れに対する洗浄性に優れる洗浄剤組成物、およびガラス製ハードディスク基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】酸化セリウムを含む研磨材で研磨したガラス製ハードディスク基板の洗浄に用いる洗浄剤組成物において、（Ａ）成分：ホスホン酸系キレート剤を１〜５０質量％、（Ｂ）成分：ヒドロキシカルボン酸および／またはその塩を１〜２０質量％含有し、かつ、前記（Ａ）成分と（Ｂ）成分の質量比が、（Ａ）成分／（Ｂ）成分＝５０／５０〜９０／１０であり、界面活性剤の含有量が１質量％未満であり、純水で２質量％に希釈した希釈液の２５℃におけるｐＨが５．０以下であることを特徴とする洗浄剤組成物。 （もっと読む）