【課題】ワックス等の親水性の低い付着物を、水洗いによって簡単に洗い流すことを可能とする食物表面付着物の親水化方法を提供する。
【解決手段】静電霧化装置Ａの霧化電極に水を供給し、供給された前記水に電圧を印加してナノメータサイズの帯電微粒子水を発生させる。この帯電微粒子水を、表面に付着物１５が塗布された処理対象物１である食物に所定時間噴霧することで、付着物１５の親水性を向上させる。これにより、その後の水洗いによって付着物１５を簡単に洗い落とすことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】被処理体の一面側の洗浄領域に洗浄液を局所的に供給して、被処理体の側面や他面側への洗浄液の回り込みを防止できる洗浄処理装置を提供する。
【解決手段】被処理体であるテンプレートＴの転写パターン（洗浄領域）を当該転写パターンが下方に向くように保持機構４により吸着保持する。前記転写パターンを含み、テンプレートＴの外縁よりも内方側の領域との間に洗浄液を満たして通流させるための通流空間を液収容部３１により形成し、前記通流空間に液収容部３１の底面に形成された第１の開口部３１ａからリンス液を供給し、前記転写パターンを囲むように液収容部３１と転写パターン２外側領域との間に形成された隙間３０を介して排液部３２に排液する。リンス液は液収容部３１内を通流するので、洗浄領域に局所的に供給され、テンプレートＴの側面や他面側への洗浄液の回り込みを抑えながら洗浄処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】蒸着マスクに強固に付着した付着物を、蒸着マスクにダメージを与えるおそれを低減しつつ、効率よく除去する蒸着マスク洗浄装置、蒸着マスク洗浄システムおよび蒸着マスク洗浄方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬデバイスの製造工程に用いられる蒸着マスク１６を洗浄するための蒸着マスク洗浄装置としての電解洗浄装置１３は、蒸着マスク１６を収容する洗浄槽としての電解槽２０と、電解槽２０にアルカリ性の電解液を供給するポンプ２１および貯留槽２２からなる電解液供給部と、洗浄槽内に設けられている陽極電極２３および陰極電極２４の電極と、陽極電極２３および陰極電極２４の電極間に通電する通電部２６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】物品に付着しているよごれなどの有機物を大気中に飛散させることなく分解または除去でき、かつ物品の損傷が抑えられる表面処理方法、物品の損傷を抑えながら、物品表面をエッチングする表面処理方法、および表面を高度に洗浄し、損傷がほとんどない物品や表面をエッチングしながら、損傷のない物品を提供する。
【解決手段】水を含む液体中の水蒸気気泡内に発生したプラズマを、該液体中において、水に対する接触角が９０度以下である材料に付着している有機物に接触させて、該有機物を材料から除去する表面処理方法；水を含む液体中の水蒸気気泡内に発生したプラズマを、前記液体中において、水に対する接触角が９０度以下である材料に接触させて、該材料を破壊せずに、該材料の表面をエッチングするエッチング方法。 （もっと読む）

【課題】装置の小型化を図ることのできる洗浄装置を得る。
【解決手段】洗浄装置１０には、洗浄対象物２２を洗浄する洗浄部１３と、当該洗浄部１３内に液体を導入する導入路１７ｅと、洗浄部１３内の液体を洗浄部１３から排出する排出路１７ａと、を少なくとも有する循環路１８が形成されている。そして、循環路１８の洗浄部１３以外の部位に、電圧を印加することで放電を行う電極５１ａ、５１ｂを設けた。 （もっと読む）

【課題】乾式洗浄と湿式洗浄とを選択的に実施できる基板処理設備及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】本発明による基板処理設備は、基板が載せられた容器が置かれるポート１１００及びインデックスロボット１２００を有するインデックス部１０００と、基板処理を遂行する処理部２００と、処理部２００とインデックス部１０００との間に配置されてこれらの間に搬送される基板が一時的に留まるバッファユニット４０００と、を含み、処理部２００は、基板を搬送するための移送路に沿って配置されるグルー除去用処理モジュール、基板冷却処理モジュール、加熱処理モジュール、及び機能水処理モジュールを含む。 （もっと読む）

【課題】 この発明は、移動不可能又は移動困難な廃トランスを洗浄化処理することを目的としたものである。
【解決手段】
ライトを備えた光触媒入り洗浄液を収容する洗浄液タンクと、バルブと、送液並びに排液パイプと、送液及び排液ポンプと、前記洗浄液タンク、送液及び排液パイプ及び送液及び排液ポンプを載置できる台車とを組み合わせたことを特徴とするＰＣＢ汚染廃電気機器の処理装置により前記課題を解決した。 （もっと読む）

【課題】基板の表面にダメージを与えることなく良好に洗浄することができる基板洗浄ノズル及び基板洗浄装置並びに基板洗浄方法を提供すること。
【解決手段】本発明では、基板洗浄ノズル（３７）に設けた液層保持手段（３８）の液層保持口（４７）で洗浄液の液層（５３）を保持するとともに、前記基板洗浄ノズル（３７）に設けた基板加熱手段（３９）で基板（２）の表面を前記洗浄液の沸点以上に加熱し、前記基板洗浄ノズル（３７）を前記基板（２）の表面に近づけて、前記基板（２）の表面の熱で前記洗浄液の液層（５３）を沸騰させて前記基板（２）の表面と前記洗浄液の液層（５３）との間に前記洗浄液の蒸気の層を形成し、前記洗浄液の蒸気で前記基板（２）の表面を洗浄することにした。 （もっと読む）

【課題】洗浄対象物に対する損傷を抑制するとともに、洗浄性の高い洗浄液を生成する装置を提供する。
【解決手段】洗浄液生成装置は、気体が過飽和に溶存している液体に、物理的刺激と電気的刺激の少なくとも一方の刺激を付与して、液体に気泡が含有された洗浄液を生成する刺激付与部１を備える。刺激付与部１は、洗浄液を吐出する吐出口２の前段に配置されている。好ましくは、気体が過飽和に溶存している液体を生成する過飽和溶存液生成機構５を備えている。物理的刺激は、振動、熱、光、撹拌、圧力変化のいずれかであってよい。 （もっと読む）

【課題】洗浄後の欠陥の発生が極めて少ないフォトマスク関連基板を得られる洗浄方法及び洗浄装置提供することを目的とする。
【解決手段】フォトマスク関連基板の洗浄方法において、少なくとも、前記フォトマスク関連基板の表面の異物をあらかじめ除去する前処理工程と、該前処理工程の後に前記フォトマスク関連基板にＵＶ光を照射するＵＶ照射工程と、該ＵＶ照射工程の後に前記フォトマスク関連基板を湿式で洗浄する湿式洗浄工程とを行うことを特徴とするフォトマスク関連基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】より安全性を高めることのできるプラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器の提供。
【解決手段】プラズマ発生装置１は、水を含む液体を収容する液体収容部４と、気体を収容する気体収容部５と、気体収容部５中の気体を液体収容部４へ導く気体通路３ａが形成され、液体収容部４と気体収容部５とを隔てる隔壁部３と、気体収容部５に配設された第１電極１２と、少なくとも第１電極１２と対になる側の部分が液体収容部４中の液体と接触するように配設した第２電極１３と、を備えている。そして、第２電極１３を接地した状態で第１電極１２と第２電極１３との間に所定の電圧を印加するようにした。 （もっと読む）

【課題】金属帯の表面を電解洗浄するにあたって、板幅方向に均一に電解洗浄することを可能とする。
【解決手段】連続的に搬送される金属帯１の表面を電解洗浄する金属帯１の連続電解洗浄方法において、金属帯１の電解洗浄すべき洗浄面１ａと相対向してその金属帯１の搬送方向Ｐに順に第１電極３１及び第２電極３３を配設する。第１電極３１及び第２電極３３から金属帯１の洗浄面１ａに金属帯１の板幅以上の幅をもつ層状のラミナー流Ｗｒとしての電解液を噴射する。第１電極３１及び第２電極３３の何れか一方を陽極、他方を陰極としてこれらの間で電圧を印加して、噴射している電解液Ｗｒ及び金属帯１を通して通電させる。これにより、金属帯１の板幅方向端部での電流集中を抑えて、金属帯１の板幅方向に均一に電解洗浄することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】より長時間ラジカルを液体中に存在させることのできるプラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器を得る。
【解決手段】プラズマ発生装置１は、気体収容部５に配設された第１電極１２と、少なくとも第１電極１２と対になる側の部分が液体収容部４中の液体１７と接触するように配設した第２電極１３と、気体のプラズマ化により生成されて酸化により消滅するラジカルを再生成する還元部材１９と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】水晶デバイスを製造する工程において、レジスト塗布前の基板上に形成されたＡｕ／Ｃｒ耐蝕膜のＡｕ層を短時間のオゾン水により表面の改質処理を施すことで、レジストの付着性を向上させることにより、生産性を向上させる。
【解決手段】基板１の表面に形成されたＡｕ表面４のぬれ性を改善する方法であって、前記Ａｕ表面４を、オゾン濃度が１００ｐｐｍ以上の炭酸を含む５０℃以上のオゾン水３と接触させる。 （もっと読む）

【課題】殺菌効果の高い洗浄水を簡便に生成できる医療機器洗浄装置を提供する。
【解決手段】医療機器洗浄装置（10）には、洗浄槽（40）と、放電発生機（50）が設けられる。洗浄対象の内視鏡（100）は、洗浄槽（40）内に収容されて洗浄水に浸漬される。放電発生機（50）の放電ユニット（50a）は、洗浄槽（40）内に設置され、洗浄水に浸った状態となる。放電ユニット（50a）の電極対（51,52）には、直流電源（65）が接続される。直流電源（65）が電極対（51,52）に電圧を印加すると、電極対（51,52）の間でストリーマ放電が行われ、過酸化水素が生成される。洗浄槽（40）内では、ストリーマ放電によって生成した過酸化水素を用いて内視鏡（100）の殺菌が行われる。 （もっと読む）

【課題】洗浄対象物を効率的に洗浄することができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置は、洗浄液が設定された高さまで満たされた洗浄液タンクと、前記洗浄液タンクの内部に備わるマイナス電極と、有機発光表示装置製造用メタルマスクが一側に取り付けられ、前記メタルマスクが前記マイナス電極に接触することを誘導するメタルジグと、前記メタルマスクと設定された間隔を置いて前記洗浄液タンクの内部に設けられるプラス電極と、前記マイナス電極及び前記プラス電極に電気的に接続する整流装置とを含む。 （もっと読む）

【課題】洗浄対象となる基板近傍にて光触媒反応を利用してＯＨラジカルを潤沢に発生させることによって、基板上に付着した有機物等のパーティクルを効果的に除去することのできる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】処理対象である基板Ｗ上の被処理面Ｗ１を洗浄する第１のノズル１１と、被処理面Ｗ１上に液を供給する第２のノズル１２と、を備え、第１のノズル１１は、被処理面Ｗ１に対向し液に接触する光触媒１１ａと、光触媒１１ａを保持する保持部材１１ｂと、保持部材１１ｂを透過して光触媒１１ａに光を照射する光源１１ｃとを備える。 （もっと読む）

【課題】水分濃度が低い有機溶媒を処理部又は被処理体に供給して処理を行うことにより、被処理体や処理部の腐食を抑えること。
【解決手段】イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）の供給源３０からＩＰＡを貯留タンク３に供給し、貯留タンク３内のＩＰＡを、水分除去フィルタ４及び濃度測定部５を備えた循環路３２を介して循環供給する。ＩＰＡは、循環路３２内を循環させることにより、水分除去フィルタ４により徐々に水分が除去される。そして、濃度測定部５により測定された水分濃度が０．０１重量％以下であるときには、中間タンク６にＩＰＡを送液する。中間タンク６からは、処理チャンバ１１に水分濃度が０．０１重量％以下のＩＰＡが供給され、処理チャンバ１１では、当該ＩＰＡを高温、高圧状態として、ウエハＷの処理が行われる。 （もっと読む）

【課題】発熱体の劣化を防止しつつ流体の加熱効率を高めて、運転性能を向上させた洗浄装置を提案する。
【解決手段】洗浄用の水を供給する給水路４と、給水路４内の流体を誘導加熱により加熱する流体加熱装置６とを具備してなり、流体加熱装置６により加熱された流体を被洗浄物に供給する洗浄装置において、流体加熱装置６は、給水路４の中途部に配設され、内部中空を有する筒状の本体部６４、及び本体部６４の内部空間と区画されかつ外部空間と連通される収容部６５が設けられる管体６０と、管体６０の外側に巻回される誘導加熱コイル６１と、管体６０の収容部６５に収容されて配設される発熱体６２と、誘導加熱コイル６１に高周波電流を印加する高周波電源部６３と、を有する。 （もっと読む）

【課題】建物の内装用素材に染みこんだ煙草のヤニ等を含む汚れを迅速かつ有効に除去又は分解することができる内装用素材の再生方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る内装用素材の再生方法においては、建物内に張られた、煙草のヤニを含む汚れを伴った内装用素材、例えばクロス壁紙（塩化ビニルクロス）の表面に紫外線、例えば波長が３００〜４５０ｎｍの範囲内の紫外線を照射して煙草のヤニを分解する。内装用素材の表面への紫外線の照射は、内装用素材に過酸化水素水を含ませた状態で行われる。過酸化水素水の過酸化水素濃度は５〜１０重量％であるのが好ましく、過酸化水素水は界面活性剤を含んでいるのが好ましい。 （もっと読む）