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Fターム[3C081BA11]の内容

マイクロマシン (28,028) | 形状、構成 (11,743) | 形状 (1,329) | 積層、多層構造 (202)

Fターム[3C081BA11]に分類される特許

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【課題】反応装置における反応剤の混合の均一性を高める。
【解決手段】反応装置の第1流路構造体1aは、基板4と、その基板4の一方の面を覆った状態でその面に接合されている第1封止部材6と、基板4の他方の面を覆った状態でその面に接合されている第2封止部材8とを有し、基板4の一方の面には、第1導入路10を構成する第1導入溝18と第2導入路12を構成する第2導入溝20とが形成されている一方、基板4の他方の面には、反応路16を構成する反応溝24が形成されており、さらに、合流路14を構成する合流孔22が基板4の一方の面から他方の面へ貫通しており、合流孔22は、第1導入溝18と第2導入溝20の共通の終点でかつ反応溝24の始点であり、第1導入溝18の下流側端部と第2導入溝20の下流側端部とは、基板4の一方の面において互いに異なる方向から合流孔22に合流している。 (もっと読む)


【課題】電子装置の製造工程を効率的に実施し、製造コストを低減する。
【解決手段】本発明の電子装置100は、基板1と、基板1上に形成された機能構造体(MEMS構造体)3Xと、機能構造体3Xが配置された空洞部Sを画成する被覆構造とが備えられる電子装置であって、前記被覆構造が、基板1上に設けられ、且つ空洞部Sを囲む層間絶縁層4,6と、下部包囲壁3Y及び配線層5,7とからなる側壁10Yと、空洞部Sの上方を覆うと共に、空洞部Sに貫通する開口7aを有し耐食性層を含む積層構造からなる第1被覆層7Yと、開口7aを閉鎖する第2被覆層9と、を備えている。耐食性層は、TiN、Ti、W、Au、Ptまたはそれぞれの合金より構成される。 (もっと読む)


【課題】電極パッド部の導電膜下部の絶縁膜表面に凹凸部があると、導電膜表面にも凹凸部が生じる。
【解決手段】シリコン基板表面に接するように形成された電極パッド部において、電極パッド部は、第1の絶縁膜とポリシリコンが、シリコン基板表面側から順に積層している構造である。このような電極パッド部を提供する。 (もっと読む)


本発明は、電極層間に絶縁層を有する少なくとも3つの他の電気的な電極層を備える層状マイクロエレクトロニック及び/又はマイクロメカニック構造に関する。第1の外側層内にビアが提供され、前記ビアは前記層を介してウェハ固有の材料で作られる絶縁された電極、前記層を通して導電性を提供するために他の層を介して前記第1の外側層内の前記ビアに延びる電気的導電性のプラグと、前記選択された層にあって前記材料から前記プラグを絶縁するための前記他の層の少なくとも一つの選択層における前記導電性プラグを囲む絶縁エンクロージャとを備える。さらに、少なくとも一方向にて可動されるような、窪みのうえに提供された可動部材を備えるマイクロエレクトロニック及び/又はマイクロメカニックデバイスに関する。前記デバイスは、本発明に係る層状構造を有する。そのような層状MEMS構造を形成する方法も提供される。
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【課題】低消費電力のスイッチ及びESD保護素子を提供する。
【解決手段】本発明の例に関わるスイッチは、基板10上に設けられた第1及び第2の電極11,12と、第1の電極11上に設けられたアンカー14と、アンカー14に支持され、アンカー14から第2の電極12上方まで延在し、導電体が用いられ、第2の電極12に対して上下方向に動く可動構造15と、可動構造15の端部に設けられ、第2の電極上方に配置される接点部16と、可動構造15上に設けられ、可動構造15を構成する材料と応力差を有し、接点部16を第2の電極12に向かって反らせる調整膜18と、可動構造16の周囲を取り囲むように基板10上に設けられ、調整膜18に接触し、駆動電極として機能するキャップ20と、を具備する。 (もっと読む)


半導体基板(210)上に形成されたマイクロまたはナノ電気機械トランスデューサデバイス(200)は、作動構造の作動に応答して運動可能に構成された可動構造(203)を有する。可動構造(203)は、第1熱応答特性を有する少なくとも1層の機械層を備えた機械構造(204)と、第1熱応答特性とは異なる第2熱応答特性を有する作動構造(202)の少なくとも1層と、少なくとも1層の熱補償層を備えた熱補償構造(206)とを含んでいる。熱補償構造(206)は、少なくとも1層の作動構造(202)とは異なり、可動構造(203)の運動が実質的に温度変化には依存しないように、機械層(204)と作動構造(202)とによって生み出される熱効果を補償するように構成されている。
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【課題】 簡単な構成で、変位量および駆動力の大きな高分子アクチュエータを提供すること。
【解決手段】 第1の高分子シート20と第2の高分子シート30とが拘束部材15a,15bに並設されている。一方の第1の高分子シートを仮想中心線Oa−Oaに対して左右対称となる形状で形成し、他方の第2の高分子シート30を仮想中心線Ob−Obに対して左右非対称となる形状で形成する。両高分子シート20,30に所定の電界を与えると、一方の左右対称の第1の高分子シート20の自由端22はZ1方向に曲げ変形する。他方の左右非対称の第2の高分子シート30の自由端32は、Z1方向への曲げ変形と捩れ変形とが同時に発生し、自由端32が第1の高分子シート20の湾曲面の外側に回り込んで第1の高分子シート20の外面をZ1方向に支持する。これにより、高分子アクチュエータ1の変位量および駆動力を大きくすることができる。 (もっと読む)


本発明は、様々な態様において、高速および低電圧で駆動できる、画質を改良および電力消費を低減するMEMS作動式ディスプレイのシステムおよび方法に関する。
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MEMSまたはNEMSデバイス(200)の可動構造(203)は、第1熱応答特性と第1機械応力応答特性とを有する機械層(204)を備えた機械構造と;第2熱応答特性と第2機械応力応答特性とを有する作動構造(202)と;第3熱応答特性と第3機械応力応答特性とを有する第1補償層(206)と;第4熱応答特性と第4機械応力応答特性とを有する第2補償層(207)とを有する。第1補償層(206)と第2補償層(207)とは、可動構造(203)の運動が温度変動に依存しないように、機械構造(204)と作動構造(202)とによる熱効果を補償するように構成される。かつ第1補償層(206)と第2補償層(207)とは、MEMSまたはNEMSデバイスが非アクティブ状態のとき可動構造が所定量だけ歪むように、機械構造(204)と作動構造(202)とによる応力効果を調整するように構成される。
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【課題】複数の半導体チップを積層した積層体にMEMSセンサを内蔵した小型の半導体装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体チップ13、14、15が、絶縁層16、17を介して積層された積層体18と、第1領域11に形成され、積層体18の最上層の半導体チップ15から最下層の半導体チップ13に至り、最下層の半導体素子に電気的に接続された貫通電極19と、第2領域12に形成され、積層体18の最上層の半導体チップ15から最下層の半導体チップ13に至る貫通孔20の底面から立設し、最上層の半導体チップ15に至る高さを有するとともに、貫通電極19と材質が同じ可動電極21と、貫通孔20の淵に沿って最上層の半導体チップ15上に形成され、貫通孔20の外側に向かって互いに直交する方向に延伸した第1および第2固定電極22、23と、を具備する。 (もっと読む)


【課題】マイクロポンプシステムを有するマイクロ流体デバイスにおいて、製造工程の簡素化を図ると共に、さらなる小型化を図る。
【解決手段】マイクロ流体デバイス1は、ガス発生部3を有する。ガス発生部3は、基板10と、ガス発生層20とを有している。基板10は、第1の主面10aと第2の主面10bとを有する。基板10には、少なくとも第1の主面10aに開口するマイクロ流路14が形成されている。ガス発生層20は、基板10の第1の主面10aに、開口14aを覆うように配置されている。ガス発生層20は、外部刺激を受けることによりガスを発生させる。ガス発生層20の基板10側の表面及び基板10の第1の主面10aのうちの少なくとも一方は、粗面である。 (もっと読む)


【課題】常温常圧から高温高圧下における流通反応を安全かつ高速、高効率で行うため、高温高圧と腐食環境に耐えうるマイクロリアクター用の中空金属反応管を提供する。
【解決手段】鉄合金またはニッケル合金チューブ1の内面に、チタンまたはチタン合金層2を有し、最上層として触媒金属層3を積層してなるマイクロリアクター用反応管。 (もっと読む)


【課題】性能の向上したアクチュエータを提供する。
【解決手段】アスペクト比が104以上のカーボンナノチューブおよびイオン液体から構成
される導電性薄膜;長さが50μm以上のカーボンナノチューブおよびイオン液体から構成
される導電性薄膜。 (もっと読む)


【課題】基板上に積層され自己整合された部品の製造方法を提供する。
【解決手段】基板の一表面に層の積層体を形成する段階であって、積層体が第1犠牲層、第2犠牲層及び表面層を備える段階と、第1犠牲層の一領域をエッチングする段階と、第1犠牲層のエッチングされた領域内及び表面層上に樹脂を堆積する段階と、犠牲層上の樹脂の少なくとも1つの領域に位置合わせされる樹脂の少なくとも1つの領域を第1犠牲層のエッチングされた領域に残すために樹脂をリソグラフィする段階と、第1犠牲層のエッチングされた領域内及び犠牲層上の除去された樹脂を残っている樹脂を制限するための材料で置換する段階と、第1犠牲層のエッチングされた領域内及び表面層上の残っている樹脂の領域を除去して部品の製造に対する専用の領域を提供する段階と、専用の領域内に部品の要素を形成する段階と、第2犠牲層の一領域を選択的にエッチングする段階と、を備える。 (もっと読む)


【課題】本構成を有しない場合に比べて、接触面にかかる応力の局部集中を低減させることが可能となる物品の形成方法を提供する。
【解決手段】第1の薄膜202A及び第2の薄膜202B・第3の薄膜202Cが形成されたドナー基板200をステージ12に保持するとともに、ターゲット基板100を基板ホルダ5に保持する第1の工程と、ステージ12と基板ホルダ5を相対的に移動させることにより、ドナー基板200から第1の薄膜202A及び第2の薄膜202B・第3の薄膜202Cを順次剥離してターゲット基板100に接合積層する第2の工程とを備えた微小構造体の製造方法であって、第2の工程を実行するにあたり、ターゲット基板100に反り110を弾性復帰可能に形成することにより、ターゲット基板100をドナー基板200の側に凸部となるように膨出させる。 (もっと読む)


本発明は、マイクロチャネル反応器の中で水素化分解プロセスまたは水素化処理プロセスを行うためのプロセスに関する。本発明は、マイクロチャネルプロセス処理単位の中の複数のマイクロチャネルの中へ蒸気および液体を流すためのプロセスおよび装置にも関する。 (もっと読む)


【課題】小型の構成で大きな駆動力を発生させることが可能な技術を提供する。
【解決手段】固定部と、一端が固定部に固設され、且つ一方向に延設される板状の可動部と、を備えるアクチュエータとする。そして、該可動部が、一端が固定部に固設され且つ一方向に延設される板状のベース部と、該ベース部の一方主面上において該ベース部と一体的に形成され、且つ第1の光の照射に応じて上記一方向に伸び、第2の光の照射に応じて上記一方向に縮む光変位部と、を有するようにする。 (もっと読む)


【課題】径方向空隙型の微小電気機械に適した4極以上の多極化へ対応可能で、かつ高速回転下での渦電流遮断性を備えたロータ磁石において、残留磁化Mrが0.42T〜0.7Tであり、さらにMrを高めること。
【解決手段】ロータ磁石5をR-TM-Bの結晶化により、磁気的に等方性であり、かつ残留磁化Mrが0.95T以上の着磁性に優れたナノ複合多結晶集合組織の厚膜積層体とし、必要に応じて、磁界中冷却による面内多極磁化を施す。特に、パルスレーザディポジッション(PLD)を用いたナノ構造のマニュピュレーション技術によって、人工的に制御されたαFeとR-TM-Bとを10層以上、交互に積み上げたナノ複合組織を有する厚膜を作製する。 (もっと読む)


【課題】所望の機械的特性を有する微細構造体を提供する。
【解決手段】微細構造体1は、基板11の上に配置された固定部材12と、一端が固定部材12に接続された下層ばね部材13と、この下層ばね部材13の他端に接続され、基板11の上に離間して配置された可動部材15と、少なくとも1箇所で下層ばね部材13と連結した上層ばね部材14とを少なくとも備え、下層ばね部材13および上層ばね部材14は、基板11に対して垂直な方向から見て下層ばね部材13または上層ばね部材14と重ならない少なくとも2つの離間部を有する。これにより、アスペクト比が高いばねを形成できるので、水平方向のばね定数に対して鉛直方向のばね定数を十分大きくすることができ、基板方向への振動を抑えた所望の機械的特性を備えた微細構造体を実現することができる。 (もっと読む)


流体回路中の負荷への加圧された流体の供給を制御し、圧力フィードバックを与える複数の内部流体導管を有する、マイクロバルブ・デバイス。
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