説明

マイクロチャネルプロセス技術を使用するプロセスおよび装置

本発明は、マイクロチャネル反応器の中で水素化分解プロセスまたは水素化処理プロセスを行うためのプロセスに関する。本発明は、マイクロチャネルプロセス処理単位の中の複数のマイクロチャネルの中へ蒸気および液体を流すためのプロセスおよび装置にも関する。


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【特許請求の範囲】
【請求項1】
炭化水素反応体および水素を含む反応体をプロセスマイクロチャネルの中へ流し、触媒と接触させて1つ以上の生成物を形成させるステップであって、前記炭化水素反応体は、液体を含むステップ、および前記生成物を前記プロセスマイクロチャネルから取り出すステップを含み、
(a)前記炭化水素反応体は、第1の炭化水素鎖長を有する炭化水素を含み、前記炭化水素反応体は、2つ以上の炭化水素生成物へ変換され、前記炭化水素生成物は、前記第1の炭化水素鎖長より短い鎖長を有するか、または
(b)前記炭化水素反応体は、前記炭化水素反応体と結合した1つ以上のヘテロ原子を含み、前記へテロ原子の少なくとも1つは、前記水素と反応してヘテロ原子含有化合物を形成し、前記生成物は、ヘテロ原子の前記欠如または前記炭化水素反応体と比較して低下したヘテロ原子含有率を特徴とする炭化水素生成物を含む
プロセス。
【請求項2】
前記プロセスは水素化分解プロセスであり、前記触媒は水素化分解触媒であるか、または前記プロセスは水素化処理プロセスであり、前記触媒は水素化処理触媒である、請求項1に記載のプロセス。
【請求項3】
前記プロセスマイクロチャネル内の前記圧力は0.2から20MPaの前記範囲内にあるか、または前記プロセスマイクロチャネルの前記温度は50℃から500℃の前記範囲内にあるか、または炭化水素反応体に対する水素の前記比は、1立方センチメートルの炭化水素反応体あたり10から6000標準立方センチメートルの水素の前記範囲内にある、請求項1または2に記載のプロセス。
【請求項4】
1つ以上の反応体が気体の形であり、前記気体は、少なくとも1秒あたり0.01メートルの空塔速度で前記プロセスマイクロチャネルの中を流れる、請求項1から3のいずれか1項に記載のプロセス。
【請求項5】
前記炭化水素反応体および前記水素は、前記プロセスマイクロチャネルへ入る前に混合されるか、または前記プロセスマイクロチャネルは反応ゾーンを有し、前記炭化水素反応体および水素は、前記反応ゾーンの中で互いに接触するか、または前記プロセスマイクロチャネルは、混合ゾーンおよび反応ゾーンを有し、前記混合ゾーンは、前記反応ゾーンの上流にあり、前記炭化水素反応体および水素は、前記混合ゾーンの中で互いに接触するか、または前記プロセスマイクロチャネルは、混合ゾーンおよび反応ゾーンを有し、前記混合ゾーンは、前記反応ゾーンの上流にあり、水素の一部は、前記混合ゾーンの中で前記炭化水素反応体と接触して中間反応混合物を形成し、前記中間反応混合物は、前記反応ゾーンの中へ流れ、前記水素の一部は、前記反応ゾーンの中で前記中間反応混合物と接触する、請求項1から4のいずれか1項に記載のプロセス。
【請求項6】
前記プロセスマイクロチャネルは、マイクロチャネル反応器の中にあり、前記マイクロチャネル反応器は、前記プロセスマイクロチャネルと隣接する反応体流チャネルをさらに含み、前記プロセスマイクロチャネルと前記反応体流チャネルとは共通の壁を有し、前記共通の壁の中に複数の開口があり、前記プロセスは、前記炭化水素反応体を前記プロセスマイクロチャネルの中に流すステップ、および前記水素を前記反応体流チャネルから前記共通の壁の中の前記開口を通して前記プロセスマイクロチャネルの中へ流し、前記炭化水素反応体と接触させるステップをさらに含む、請求項1から4のいずれか1項に記載のプロセス。
【請求項7】
前記プロセスマイクロチャネルは、マイクロチャネル反応器の中にあり、前記マイクロチャネル反応器は、複数の前記プロセスマイクロチャネルを含み、前記マイクロチャネル反応器は、前記炭化水素反応体が前記プロセスマイクロチャネルの中へ流れるための流れの通路を提供する第1のマニホールド、および前記水素が前記プロセスマイクロチャネルの中へ流れるための流れの通路を提供する第2のマニホールドを含む、請求項1から6のいずれか1項に記載のプロセス。
【請求項8】
前記プロセスマイクロチャネルから熱交換器へ熱が移動する、請求項1から7のいずれか1項に記載のプロセス。
【請求項9】
前記プロセスマイクロチャネルの中に気体および液体があり、前記気体と液体との間で物質移動が起こり、前記粒子またはチャネルのボンド数は、1より小さい、請求項1から8のいずれか1項に記載のプロセス。
【請求項10】
前記プロセスは、プラント施設の中で行われ、前記プラント施設は、複数の前記プロセスマイクロチャネル、または前記プロセスマイクロチャネルを含む1つ以上のマイクロチャネル反応器、または1つ以上のマイクロチャネル反応器を含む1つ以上の反応槽を含み、前記プロセスマイクロチャネル、マイクロチャネル反応器または反応槽の1つ以上の中の前記触媒は、前記プラント施設の中の他のプロセスマイクロチャネル、マイクロチャネル反応器または反応槽の中で前記プロセスが実行されている間に再生される、請求項1から9のいずれか1項に記載のプロセス。
【請求項11】
前記プロセスは、再生触媒を用いて約5hr−1以上の液体毎時空間速度において行われる、請求項1から10のいずれか1項に記載のプロセス。
【請求項12】
蒸気/液体混合物をマイクロチャネルプロセス処理単位の中の複数のマイクロチャネルの中へ流すための分配装置であって、前記分配装置は、前記マイクロチャネルへの前記入口に配置されるようになっており、前記分配装置は、
分離プレート、および
再分配プレートであって、前記分離プレートが上にある再分配プレート
を含み、
前記分離プレートは、蒸気と液体との混合物が蒸気相と液相とに分離し、前記再分配プレートへ流れることができるようになっており、
前記再分配プレートは、複数の開口を含み、前記再分配プレートの中の前記開口は、前記マイクロチャネルへの前記入口と整列し、前記再分配プレートの中の前記開口は、前記蒸気相と前記液相とが互いに接触し、蒸気/液体混合物を形成し、前記マイクロチャネルの中へ流れることができるようになっている
分配装置。
【請求項13】
蒸気および2つの液体をマイクロチャネルプロセス処理単位の中の複数のマイクロチャネルの中へ流すための分配装置であって、前記分配装置は、前記マイクロチャネルへの前記入口に配置されるようになっており、前記分配装置は、
分配プレートであって、
第1の液体マニホールドスロット、
第2の液体マニホールドスロット、
蒸気通路、
前記第1の液体マニホールドスロットから前記蒸気通路へ延在する第1の分配チャネル、
前記第2の液体マニホールドスロットから前記蒸気通路へ延在する第2の分配チャネル
を含む分配プレート
を含み、前記装置は、蒸気が前記蒸気通路を通って流れ、第1の液体が前記第1の液体マニホールドスロットから前記第1の分配チャネルを通って前記蒸気通路の中へ流れ、前記蒸気通路の中を流れる前記蒸気と接触し、第2の液体が前記第2の液体マニホールドスロットから前記第2の分配チャネルを通って前記蒸気通路の中へ流れ、前記蒸気通路の中を流れる前記蒸気および前記蒸気通路の中を流れる前記第1の液体と接触することができるようになっている
分配装置。
【請求項14】
蒸気および2つの液体をマイクロチャネルプロセス処理単位の中の複数のマイクロチャネルの中へ流すための分配装置であって、前記分配装置は、前記マイクロチャネルへの前記入口に配置されるようになっており、前記分配装置は、
第1の分配セクション、
第2の分配セクションであって、前記第1の分配セクションが上にある第2の分配セクション、および
第3の分配セクションであって、前記第2の分配セクションが上にある第3の分配セクション
を含み、
前記装置は、蒸気が前記第1の分配セクションから前記第2の分配セクションおよび前記第3の分配セクションを通って前記マイクロチャネルの中へ流れ、第1の液体が前記第2の分配セクションから前記蒸気と接触して前記第3の分配セクションを通って前記マイクロチャネルの中へ流れ、第2の液体が前記蒸気および前記第1の液体と接触して前記第3の分配セクションから前記マイクロチャネルの中へ流れることができるようになっている
分配装置。
【請求項15】
少なくとも約95重量%の、5つ以上の炭素原子を有する直鎖脂肪族化合物、および
少なくとも0.05重量%の、5から13の炭素原子を有する脂環式化合物、および/または
少なくとも0.01重量%の、6から18の炭素原子を有する芳香族化合物
を含む、水素化分解されたフィッシャー・トロプシュ合成生成物。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図6A】
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【図6B】
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【図6C】
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【図7】
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【図8】
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【図9】
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【図10】
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【図11】
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【図12】
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【図13】
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【図14】
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【図15】
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【図16】
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【図17】
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【図18】
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【図19】
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【図20】
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【図21】
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【図22】
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【図23】
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【図24】
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【図25】
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【図26】
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【図27】
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【図28】
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【図29】
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【図30】
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【図31】
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【図32】
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【図33】
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【図34】
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【図35a】
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【図35b】
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【図35c】
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【図35d】
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【図36】
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【図37】
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【図38】
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【図39】
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【図40】
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【図41】
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【図42】
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【図43】
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【図44】
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【図45】
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【図46】
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【図47】
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【図48】
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【図49】
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【図50】
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【図51】
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【図52】
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【図53】
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【図54】
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【図55】
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【図56】
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【図57】
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【図58】
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【図59】
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【図60】
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【図61】
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【図62】
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【図63】
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【図64】
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【図65】
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【図66】
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【図67】
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【図68】
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【図69】
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【図70】
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【図71】
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【図72】
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【図73】
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【図74】
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【図75】
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【図76】
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【図77】
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【図78】
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【図79】
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【公表番号】特表2012−514658(P2012−514658A)
【公表日】平成24年6月28日(2012.6.28)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2011−531200(P2011−531200)
【出願日】平成21年10月9日(2009.10.9)
【国際出願番号】PCT/US2009/060128
【国際公開番号】WO2010/042794
【国際公開日】平成22年4月15日(2010.4.15)
【出願人】(505056694)ヴェロシス,インク. (20)
【Fターム(参考)】