説明

Fターム[3K107FF00]の内容

エレクトロルミネッセンス光源 (181,921) | パラメータ (13,035)

Fターム[3K107FF00]の下位に属するFターム

Fターム[3K107FF00]に分類される特許

401 - 420 / 491


湿気及び/又は酸素に敏感な電子デバイスをカプセル封入するためのバリアスタックが提供される。バリアスタックは、湿気及び/又は酸素の浸透性が小さい少なくとも1つのバリア層と、バリア層の表面と接触するように配置された少なくとも1つの封止層とを有する多層膜を備えている。封止材料は、湿気及び/又は酸素と相互作用することができる反応性ナノ粒子を含有しており、それによりバリア層に存在する欠陥を介して湿気及び/又は酸素が浸透することが妨げられる。 (もっと読む)


【課題】非発光部の発生および成長を抑制した有機EL表示体を提供すること。
【解決手段】基材の少なくとも一方の面上にガスバリア層を有するガスバリア基板であって、
気温40℃、相対湿度が90%の雰囲気下における水蒸気透過率(JIS K7129 B法)が0.1g/m・day・atm以下であり、かつ、気温20℃、相対湿度が90%の雰囲気下における酸素透過度(JIS K7126 B法)が0.1cc/m・day・atm以下であることを特徴とするガスバリア基板を用いて有機EL表示体を作製すること。 (もっと読む)


【課題】発光領域において厚さが均一な発光層を有する発光装置、電子機器、及び発光装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】有機EL装置1は、ガラス基板10上に発光領域5ごとに形成された画素電極11と、発光領域5を除いた領域に形成された第1バンク12と、第1バンク12上に形成された第2バンク22とを有する。第2バンク22は、発光領域5を囲む環状の第1撥液領域22a、第1撥液領域22aを囲む環状の親液領域22b、及び親液領域22bの外側に配置された第2撥液領域22cを有する。第1撥液領域22aに囲まれた領域には正孔注入層14が配置され、正孔注入層14上及び第2バンク22上のうち、第2撥液領域22cに囲まれた領域には発光層15が配置されている。第1撥液領域22aは、正孔注入層14の形成領域を規定し、第2撥液領域22cは、発光層15の形成領域を規定する。 (もっと読む)


【課題】ガスバリア性が高くてフレキシブルな有機ELに適用可能なガスバリア性積層フィルムを提供すること。
【解決手段】基材フィルム上に、少なくとも1層の無機層と少なくとも1層のアクリルモノマーの重合物を主成分とする有機層とを有するガスバリア性積層フィルムであって、前記有機層に少なくとも1種類のスルホニル基またはスルホ基を有する重合性モノマーの重合生成物が含まれていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ガスバリア性が高くてフレキシブルな有機ELに適用可能なガスバリア性積層フィルムを提供すること。
【解決手段】基材フィルム上に、少なくとも1層の無機層と少なくとも1層のアクリルモノマーの重合物を主成分とする有機層とを有するガスバリア性積層フィルムであって、前記有機層に少なくとも1種類のスルホニル基を有する二官能以上の重合性モノマーの重合生成物が含まれていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】多結晶シリコン基板の結晶化度測定方法及び測定システムを利用して移動度及びしきい電圧のばらつきなどの電気的特性が優れている有機発光表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】有機発光表示装置の製造方法は、非晶質シリコン基板を結晶化して多結晶シリコン基板を製造する段階と、多結晶シリコン基板にレーザーを照射してラマンスペクトルグラフを得る段階と、ラマンスペクトルグラフのピーク面積から多結晶シリコン基板の結晶化度を算出する段階と、多結晶シリコン基板を使用して薄膜トランジスタを製造する段階と、を含む。 (もっと読む)


【課題】有機層が高分子材料から構成される層を含む有機EL素子の作製プロセスの簡略化、発光特性のばらつき抑制、並びに、材料管理及び製造装置の簡素化を実現し、かつ充分な発光特性及び寿命特性を得ることができる有機EL素子を提供する。
【解決手段】陽極、陰極、陽極と陰極との間に設けられた発光層を含む有機層、及び、陰極と有機層との間に設けられた電子注入層を備える有機エレクトロルミネセンス素子であって、上記有機層は、高分子材料から構成される層を含み、上記陰極バッファ層は、有機層中の高分子材料から構成される層と接し、かつフッ化カルシウム、フッ化ストロンチウム及びフッ化バリウムからなる群より選択された少なくとも一つを含む材料から構成される層であり、上記陰極は、ポーリングの電気陰性度が1.30〜1.70の単体を含む材料から構成される層である有機エレクトロルミネセンス素子。 (もっと読む)


【課題】中間層内の気泡がなく、すなわち有機EL素子パネルとして光鮮鋭性が良く、また生産性、歩留まりも非常に良い有機EL素子パネルを提供する。
【解決手段】母材の上に弾性率が1.0Mpa以下の第1中間層が形成され、第1中間層の上に弾性率が10Mpa以上の第2中間層が形成され、第2中間層の上に保護層との接着力が0.1Mpa以上の第3中間層が形成された大面積積層体から複数の小面積積層体を残すように積層体を除去する。小面積積層体を保護層に貼り合わせる。小面積積層体を有する保護層と有機EL素子を有する基材とを貼り合わせる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、高いガスバリア性能を有し、密着性及び耐屈曲性に優れたガスバリア性樹脂基材と、これを用いたガスバリア耐性に優れた有機エレクトロルミネッセンスデバイスを提供する。
【解決手段】透明樹脂基材の少なくとも1面に、少なくとも2層の酸化珪素を含有するセラミック層を積層したガスバリア層を有するガスバリア性樹脂基材において、該セラミック層の少なくとも1層が、弾性率が5GPa以上、20GPa以下の酸化珪素を含有する第一のセラミック層であり、かつ該ガスバリア層の圧縮応力が0MPa以上、20MPa以下であることを特徴とするガスバリア性樹脂基材。 (もっと読む)


【課題】各電気光学素子の光量のムラを長期間にわたって抑制する。
【解決手段】電気光学素子Eは、駆動信号Xiに応じて階調が制御される。単位回路Uは、保持回路261と選択回路263と駆動部DRとを含む。保持回路261は、電気光学素子Eについて補正値Ca[i]およびCb[i]を保持する。選択回路263は、保持回路261が保持する補正値Ca[i]およびCb[i]の何れかを選択する。駆動部DRは、電気光学素子Eに指定された階調値と選択回路263が選択した補正値C[i]とに基づいて駆動信号Xiを生成する。 (もっと読む)


【課題】特により低い駆動開始電圧で駆動可能な有機EL素子とそれを達成しうる有機EL材料が求められている。Inq3は、その類縁体であるAlq3より駆動開始電圧が低い材料であることは既に知られているが、本発明は、より低い駆動開始電圧を与え、安定かつ安価に工業的規模で製造できるInq3を提供することを目的とする。
【解決手段】常圧下、25℃にて、トルエンに対する溶解度が、0.05g/L以下であることを特徴とするトリス(8-オキシキノリノラト)インジウムからなる有機エレクトロルミネッセンス材料。
原料として、常圧下、25℃にて、トルエンに対する溶解度が、0.5g/Lより大であるトリス(8-オキシキノリノラト)インジウムを、窒素もしくはアルゴン雰囲気下、360℃以上、420℃未満の温度にて5分間以上保持する第1工程、その後昇華する第2工程からなることを特徴とする上記有機エレクトロルミネッセンス材料の製造方法。 (もっと読む)


【課題】発光効率を向上させた電界発光素子を簡易な工程で効率よく製造することができる電界発光素子の製造方法を実現する。
【解決手段】電界発光素子の製造方法(10)は、ウェハを準備する工程(12)と、テルビウムをドープした酸化ケイ素前駆体溶液を調整する工程(12)と、該酸化ケイ素前駆体溶液をスピンコート法により塗布し、ウェハ上に上記酸化ケイ素薄膜を形成する工程(14)と、上記ウェハおよび酸化ケイ素薄膜を、昇温し焼き付ける工程(16)と、高速熱アニール処理する工程(18)と、湿潤酸素雰囲気下でアニール処理する工程(20)と、テルビウムドープ型酸化ケイ素薄膜上に上部透明電極を堆積する工程(22)と、該上部透明電極に対しパターニングおよびエッチング処理を施す工程(24)と、該上部透明電極、テルビウムドープ型酸化ケイ素薄膜およびウェハをアニール処理(26)し、電界発光特性を向上させる工程を含んでいる。 (もっと読む)


【課題】長寿命化、可撓性付与、耐衝撃性付与、耐熱性付与、寸法安定性付与、輝度ムラ低減、実用的発光面積での歩留まり向上、バックライト適性を有する有機EL素子を提供すること。
【解決手段】本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は、ガス遮蔽性の層を有するプラスチックフィルムからなる基板上に、透明電極層と、少なくとも発光層を含む有機層と、対向電極とを有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記プラスチックフィルムは、架橋樹脂とガラス繊維とを含み、且つ該プラスチックフィルムの30℃から150℃における線膨張係数が、0ppm/℃以上、40ppm/℃以下であり、前記発光層が、発光層ホストとりん光材料からなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】全光線透過率が高くかつ着色が抑制された高度の透明性を有する透明導電膜付きフィルム、およびこれを用いたディスプレイ用基板ならびにディスプレイ。を提供する。
【解決手段】透明基材と透明導電性膜とからなり、550nmの光線に対する消衰係数が0.05以下でありかつ黄色度(YI)YIが0.5〜3.0であることを特徴とする、透明導電膜付きフィルム、及びこの透明導電膜付きフィルムを用いたディスプレイ用基板、ディスプレイ。 (もっと読む)


【課題】有機EL素子が潜在的な不良箇所を有するか否かを短時間で検査して、有機EL素子全体が良品か否かを判別することができ、有機EL素子の大量生産ラインのインライン検査装置として使用し得る検査方法及び検査装置を提供することを課題とする。
【解決手段】有機EL素子に電気信号を印加する手段と、有機EL素子を完全に遮光状態で撮像するための遮光手段と、有機EL素子を撮像する撮像手段と、撮像画像を検査する画像検査手段と、を備える検査装置について、印加電気信号として有機EL素子にとって逆バイアス条件となる所定の電圧値と所定のパルス幅を有する逆パルス電圧を有機EL素子に印加し、撮像手段は前記特定逆パルス電圧が印加されている状態の有機EL素子を遮光状態下で撮像し、画像検査手段は、該撮像画像の中に所定の輝度以上の発光箇所の個数が所定の個数未満であれば被検有機EL素子は良品、所定の個数以上であれば不良品であると判定する。 (もっと読む)


【課題】発光寿命の長い有機EL素子、照明装置及び表示装置を提供する。
【解決手段】陽極と該陰極間に、化学構造が異なる、二種の化合物を含有する発光層を有し、該二種の化合物が共に下記一般式(1)で表される部分構造を有する有機EL素子。
(もっと読む)


【課題】全光線透過率が高く、ガラス転移温度が一定値以下で、かつ透湿度が低い硬化物を与える硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(A)カチオン重合性化合物、(B)ラジカル重合性化合物、(C)エポキシ基又はオキセタン基を有する(メタ)アクリレート、(D)光カチオン重合開始剤及び/又は熱カチオン重合開始剤並びに(E)光ラジカル重合開始剤及び/又は熱ラジカル重合開始剤を含有する硬化性樹脂組成物であって、該樹脂組成物の硬化物が、分光光度計で波長380〜1000nmにおいて測定した全光線透過率:95%以上、ガラス転移温度:100℃以下、及びJIS Z 0208に準拠して、温度60℃、相対湿度90%の条件下で測定した透湿度:100(g/m2・24h/100μm)以下である硬化性樹脂組成物である。 (もっと読む)


【課題】発光素子の特性の経時的な低減を抑制または防止することができる有機発光装置を、低コストで、生産性よく製造することができる有機発光装置の製造方法、かかる製造方法によって製造された有機発光装置、および、かかる有機発光装置を備え信頼性の高い電子機器を提供すること。
【解決手段】有機発光装置の製造方法は、例えば、有機EL素子3が形成された基板(一方の基板)21と、乾燥剤膜4が形成された上基板(他方の基板)22と、封止部23とをする有機EL装置を製造する方法であり、上基板22の閉空間24側の面の乾燥剤膜4を形成しない撥液膜形成領域221に、撥液性を付与する第1の工程と、上基板22の乾燥剤膜形成領域223に乾燥剤を含有する液状材料を供給して乾燥することにより乾燥剤膜4を形成する第2の工程と、基板21と上基板22とを封止部23を形成することにより貼り合わせる第3の工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、有機物質、特に、OLEDを有する電子デバイス、又はその他有機オプトエレクトロニックデバイスのための薄膜カプセル化構造、対応のコンポーネント及び製造方法に関する。
【解決手段】カプセル化されるデバイス又は表面に直接配置された第1の無機バリア層(5)と、該第1の無機バリア層上に配置された平坦化層(6)であって、該平坦化層の厚さを選択して、第1のバリア層の表面又は第1のバリア層の下のデバイスの表面又はカプセル化される表面の最頂部と最底部間の距離の単純値よりも厚くなるようにした平坦化層(6)と、平坦化層上に配置された第2のバリア層(14)とを備えている。 (もっと読む)


【課題】隔壁を用いずに第2電極を分割でき、かつフォトレジストとして同じパターン精度のものを用いても、第2電極の分割間隔を従来に比べて狭くすることを可能にする。
【解決手段】有機ELディスプレイ11は、基板12と、基板12上にストライプ状に形成された複数の第1電極13と、第1電極13を覆うように形成された有機EL層14と、有機EL層14上に、第1電極13と交差するストライプ状に形成された複数の第2電極15とを備えている。第2電極15上には、第2電極15と平行に形成された複数の第2電極被覆層16を備えている。第2電極被覆層16は、第2電極15の材料に比較して第2電極用のエッチング剤に対するエッチング速度が速い材料で形成されるとともに、隣接する第2電極被覆層16の間隔が隣接する第2電極15の間隔より広く設定されている。 (もっと読む)


401 - 420 / 491