本発明は、カソードと発光層との間に電子妨害層を含むＯＬＥＤに関する。基材上に配置された、アノード；ホール輸送層；発光層ホストと発光性ドーパントを含む有機発光層；電子妨害層；電子輸送層；カソードをこの順に含む有機発光デバイス。
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【課題】安い製造コストによって、大きな基板を生成することができる、希土類元素がドープされた酸化物前駆体を生成する方法を提供する。
【解決手段】第１の有機溶媒中にシリコン粒子を添加し、第１の沸点を有する第１の溶液を生成する。巨大な粒子を除去するために第１の溶液をろ過する。ろ過した第１の溶液に第１の沸点よりも高い第２の沸点を有する第２の有機溶媒を混合する。分留によって、ナノ結晶シリコンを有する第２の溶液を生成する。シリコン粒子は、フッ化水素（ＨＦ）酸およびアルコール類を含む第３の溶液中に浸漬し、電圧を印加し、シリコンウエハ上にポーラスシリコン層を形成することによって形成される。シリコン粒子は、第１の有機溶媒中にシリコンウエハを沈殿し、シリコンウエハからポーラスシリコン層を超音波によって除去することによって有機溶媒中に混合される。 （もっと読む）

【課題】耐熱性が高く、線膨張係数が低く、ガスバリア性が高く、柔軟性も備えたディスプレイ用基板を提供する。
【解決手段】粘土薄膜層１と無機薄膜層２とをそれぞれ１層以上有する層構造体をディスプレイ用基板とする。粘土薄膜層１は、粘土を主要成分とし、粘土粒子が高度に配向して積層した構造を有する。無機薄膜層２は、シリコン及びアルミニウムの少なくとも一方を含む無機化合物を主要成分とする。無機薄膜層２は粘土薄膜層１に隣接して積層してもよいし、緩衝層３のような他層を介して積層してもよい。さらに、機械的強度を高める補強層４や表面の凸凹を平滑化する平滑化層５を積層してもよい。 （もっと読む）

デバイスの酸素および水分劣化を抑制する方法および得られるデバイスが本明細書に記載されている。デバイスの酸素および水分劣化を抑制するには、低液相線温度（または特定の実施形態では低ガラス転移温度）を通常は有する低液相線温度（ＬＬＴ）材料を用いて、デバイス上にバリヤー層を形成させる。ＬＬＴ材料は、例えば、スズ・フルオロフォスフェートガラス、カルコゲナイドガラス、テルライトガラスおよびホウ酸塩ガラスであってよい。ＬＬＴ材料は、例えば、スパッタリング、蒸発、レーザーアブレーション、吹付け、流し込み、フリット溶着、蒸着、浸漬被覆、塗布またはロール塗、スピンコーティングあるいはそれらの任意の組合せによって、デバイスに付着させることができる。付着ステップによって起こるＬＬＴ材料の欠陥は、固化ステップ（熱処理）によって除去して、孔がなく気体および水分が浸透できない保護コーティングをデバイス上に形成させることができる。多くの付着方法が普通のガラス（すなわち、ホウ酸塩、ケイ酸塩、シリカなどのような溶融温度の高いガラス）の場合に可能であるが、固化ステップが実際に役立つのは、デバイス内の内層を損傷しないように固化温度が十分低いＬＬＴ材料の場合のみである。
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【課題】従来技術による欠点を克服するエレクトロルミネセンスデバイスを提供する。
【解決手段】エレクトロルミネセンスデバイスが、アノード層と、溶液ベースの処理技術によりアノード層の上に堆積された正孔注入層とを有し、正孔注入層は少なくとも１つの導電性ドーパントでドープされた架橋可能な正孔注入材料を用いて作成されている。 （もっと読む）

【課題】時間階調方式で表示するときに発生する擬似輪郭の低減を課題とする。
【解決手段】１つの画素を、各サブ画素の面積比が２^０：２^１：２^２：・・・・：２^ｍ−３：２^ｍ−２：２^ｍ−１（ｍはｍ≧２の整数）となるように、ｍ個のサブ画素に分割するとともに、１フレームを、各サブフレームの点灯期間の比率が２^０：２^ｍ：２^２×ｍ：・・・・：２^{（ｎ−３）×ｍ}：２^{（ｎ−２）×ｍ}：２^{（ｎ−１）×ｍ}（ｎはｎ≧２の整数）となるように、ｎ個のサブフレームに分割する。そして、ｎ個の各サブフレームにおいてｍ個の各サブ画素の点灯のさせ方を制御することにより、階調を表現する。また、ｎ個のサブフレームのうち最長の点灯期間を有するサブフレームを、その半分の長さの点灯期間を有する２個のサブフレームにさらに分割することにより、擬似輪郭をより低減できる。 （もっと読む）

【課題】作成が容易で、かつ耐久性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する
【解決手段】少なくとも一方が透明または半透明である一対の陽極および陰極からなる電極間に、少なくとも高分子発光層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、高分子発光層が配置された側とは反対側の陰極面が、酸素透過率が２００（ｃｍ³ ／ｍ² ・２４ｈ・ａｔｍ）以下であり、水蒸気透過率が２００（ｇ／ｍ² ・２４ｈ・ａｔｍ）以下であり、ガラスまたはガスバリア性高分子からなる基材で覆われていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 （もっと読む）

本発明は、第１電極、１層以上の有機物層、および第２電極を含む有機発光素子であって、前記第１電極は導電層および前記導電層上に位置するｎ−型有機物層を含み、前記第１電極のｎ−型有機物層のＬＵＭＯエネルギー準位と前記第１電極の導電層のフェルミエネルギー準位とのエネルギー差が４ｅＶ以下であり、前記第１電極のｎ−型有機物層と前記第２電極との間に位置する有機物層のうちの１層は前記第１電極のｎ−型有機物層とＮＰ接合を形成するｐ−型有機物層で、前記第１電極のｎ−型有機物層のＬＵＭＯエネルギー準位と前記ｐ−型有機物層のＨＯＭＯエネルギー準位とのエネルギー差が１ｅＶ以下であり、前記第１電極の導電層と前記第２電極との間に位置する有機物層のうちの１層以上は有機物または無機物によってｎ−型ドーピングまたはｐ−型ドーピングされることを特徴とする有機発光素子およびその製造方法を提供する。
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可撓性のある有機発光ディスプレイの改良シールを示した。本発明の課題は、均一なシールでは、達成することができないため、ディスプレイの寿命に最も重要な事項である、必要なロバスト性と必要な不透過性とが、組み合わせによって提供される。すなわち、内側シール部と外側シール部を有するシールが提案される。外側シール部は、内側シール部に比べて可撓性であり、内側シール部は、外側シール部に比べて不透過性であり、外側シール部とディスプレイ素子の間に設置される。
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好適には、２００ｎｍ乃至４９０ｎｍの波長範囲を有する一次放射線を出射するために少なくとも１つのエレクトロルミネッセンス光源（２）と、前記一次放射線の部分吸収及び二次放射線の出射のために前記一次放射線の光線の経路内に備えられている少なくとも１つの光変換要素（３）とを有するエレクトロルミネッセンス装置であり、光変換要素（３）は一次放射線の放射線方向（５）における拡張を有し、該拡張は、光変換要素（３）に一次放射線の平均散乱長より小さい、エレクトロルミネッセンス装置。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、ガスバリア性がより良好な表示素子用基板を提供することにある。
【解決手段】２層以上の樹脂層を有する表示素子用基板であって、２層以上の樹脂層のうちの少なくとも１層が（Ａ）液晶ポリエステルおよび（Ｂ）該液晶ポリエステルと反応性を有する官能基を有する共重合体から実質的になる液晶ポリエステル樹脂層であり、２層以上の樹脂層のうちの少なくとも１層が該液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層であることを特徴とする表示素子用基板。該液晶ポリエステル樹脂層の少なくとも１層と該液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層の少なくとも１層とが接し、該液晶ポリエステル樹脂層以外の樹脂層側の表面平均粗さ（Ｒａ）が５ｎｍ以下であることを特徴とする表示素子用基板。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、フレキシブル性をより高いレベルで保持し、かつ熱に対するフィルムの反りのないポリイミドフィルムを基材として使用した、耐熱平面保持性に優れた高誘電体層積層のキャパシタや、光電変換層積層の太陽電池やディスプレイ、耐熱ガスバリアフィルムなどに使用できる薄膜積層ポリイミドフィルムを提供する。
【解決手段】ポリイミドが少なくとも芳香族テトラカルボン酸類の残基としてピロメリット酸残基、芳香族ジアミン類の残基としてジアミノジフェニルエーテル残基を有し、かつフィルムの３００℃熱処理後のカール度が１０％以下であるポリイミドフィルムを基材として使用し、その上に乾式めっきで非金属の薄膜層を形成した薄膜積層ポリイミドフィルム。 （もっと読む）

【課題】有機発光デバイス（ＯＬＥＤ）を提供すること。
【解決手段】有機発光デバイスは、電子と正孔の輸送能力が異なる少なくとも２種の材料の混合物を含むエレクトロルミネセンス材料層と、トリアジンを含む電子輸送層とを備える。このＯＬＥＤを備えるディスプレイ・デバイスもまた開示される。 （もっと読む）

両方のオルト位で置換されたアリール又はヘテロアリール基を有する配位子を含むリン光金属錯体を含んだ、有機発光物質及びデバイスを記載する。有機発光デバイスは、基材上に以下の順に配置された、アノード；ホール輸送層；発光層ホストと発光ドーパントとを含む有機発光層；電子妨害層；電子輸送層；及びカソード、を含む。 （もっと読む）

ＨＳＰＥＴのＴｇ以上のＴｇを有する第１のポリマー層によってオーバーコートされ、そしてＨＳＰＥＴのＴｇ以上のＴｇを有する少なくとも１つの第２のポリマー層によって分離された少なくとも２つの可視光透過性無機バリヤー層によってさらにオーバーコートされている、熱安定化ポリエチレンテレフタレート（「ＨＳＰＥＴ」）のＴｇ以上のＴｇを有する可撓性の可視光透過性基材を有する可撓性のバリヤーアセンブリーを使用して、有機発光デバイスおよび光弁のような感湿および酸素感応性物品を取り付けるか、カバーするか、被包化するか、または形成することができる。 （もっと読む）

複合フィルムの製造方法、および電子または光電子デバイスの製造方法であって、前記方法は、（ｉ）ポリマー基板層を形成するステップと、（ｉｉ）少なくとも１つの方向に基板層を延伸するステップと、（ｉｉｉ）基板層のポリマーのガラス転移温度より高いが、その溶融温度より低い温度で、フィルム幅１ｍ当たり約１９から約７５ｋｇの範囲の張力において寸法制限下で熱硬化するステップと、（ｉｖ）基板層のポリマーのガラス転移温度より高いが、その溶融温度より低い温度で、フィルムを熱安定化するステップと、（ｖ）平坦化被覆組成物を適用するステップであって、前記被覆基板の表面が、０．６ｎｍ未満のＲａ値および／または０．８ｎｍ未満のＲｑ値を示すようにするステップと、（ｖｉ）高エネルギー気相蒸着によって厚さ２から１０００ｎｍの無機バリア層を提供するステップと、任意で（ｖｉｉ）前記電子または光電子デバイスにおける基板として、前記ポリマー基板層、前記平坦化被覆層、および前記無機バリア層を含む複合フィルムを提供するステップとを含む方法、ならびに前記複合フィルムおよび前記電子または光電子デバイス自体。 （もっと読む）

基板上に材料層を低温で堆積するための方法及び装置を記載する。材料層は、その下の材料の熱安定性の悪さから様々なディスプレイ応用例で必要とされる低温処理用のカプセル化層として使用することができる。カプセル化層は、多くのタイプやサイズの基板について表面粗さを低下させ、遮水性を改善し、熱応力を低下させ、高いステップカバレージを付与するために、１つ以上のバリア層材料と１つ以上の低誘電率材料を有する１つ以上の材料層（多層）を含む。従って、このようにして堆積されたカプセル化層は、ＯＬＥＤデバイス等の様々なディスプレイ装置に関して、優れたデバイス寿命を付与する。加えて、基板上に非晶質炭素材料を低温で堆積するための方法を提供する。非晶質炭素材料を用いて熱応力を低減し、堆積された薄膜が基板から剥落するのを防ぐことができる。

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アノード、カソード、前記アノードとカソードの間に位置する発光層を含む発光装置であって、前記発光層は発光用の帯電金属及び前記帯電金属上の電荷をバランスするに十分な電荷を有する対イオンを含み、装置からの発光が速やかになるように対イオンは実質的に移動せず、前記結合された帯電金属錯体及び対イオンは次の一般式Ｉ又はＩＩ有しないことを特徴とする発光装置であって、
【化１】


【化２】


Ｃ−Ｎは、シクロメタレート配位子である。 （もっと読む）

厚膜誘電体層と共に使用される改良された平滑層、及び改良された複合材厚膜誘電体構造物が提供される。平滑層は欠陥量が減少した圧電性または強誘電体材料である。平滑層は有機金属前駆体化合物のゾルゲルまたは有機金属溶液に界面活性剤を添加することによって形成される。複合材厚膜誘電体構造物は、その上部にＰＺＴ平滑層を有する厚膜誘電体組成物と、界面活性剤を含む処理によって作製される平滑層とを含む。平滑層及び複合材厚膜誘電体構造物の双方は、エレクトロルミネッセントディスプレイに使用される。
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少なくとも１種のポリピロールおよび少なくとも１種のコロイド形成性高分子酸の水性分散液を含む組成物が、このような組成物の製造方法で得られる。新規な組成物は、有機発光ダイオードディスプレイなどの有機電子デバイス、メモリ記憶装置、電磁遮蔽、エレクトロクロミックディスプレイ、薄膜トランジスタ、電界効果抵抗デバイスをはじめとする電子デバイスにおいて有用である。
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