【課題】透明電極の仕事関数を向上させ、低消費電力化を達成でき、良好な表示特性が得られる積層型の有機ＥＬ表示装置を得る。
【解決手段】有機層１３と１５の間、有機層１５と１７の間に挟まれる透明電極１４、１６の陽極となる面に対して、１０Ｐａ〜１００００Ｐａの圧力下で、少なくとも酸素を含む気体を雰囲気中に導入しながら、紫外線照射処理を行う。 （もっと読む）

【課題】成膜不良を抑制する成膜装置を提供する。
【解決手段】被処理基板Ｗを収納する真空容器２と、真空容器２内において被処理基板Ｗを戴置すると共に、所定の搬送方向に搬送するホルダー３と、搬送される被処理基板Ｗに対向して真空容器２内に設けられるハース４Ａ，４Ｂと、ハースにプラズマビームを照射するプラズマガン６，７と、ハースに対向するとともに、被処理基板Ｗを挟んでハースと反対側に設けられる歪曲手段１５Ａと、を備え、歪曲手段１５Ａは、Ｎ極側が材料源に対向する第１の磁石と、Ｓ極側が材料源に対向する第２の磁石と、を有し、ハース４Ａ，４Ｂと被処理基板Ｗとの間の空間に磁界を発生させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ターゲット材、特に無機ＥＬ素子形成用ターゲット材としての硫化亜鉛成型体およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】硫化亜鉛または硫化亜鉛と銀、銅、マンガンおよび希土類元素の少なくとも１種の元素を含む硫化物とを含む複合硫化物からなり、一方の面と他方の面の硫黄／亜鉛の比が０．９以上であって、これら硫黄／亜鉛の比の差が±０．０５以下であるターゲット材。 （もっと読む）

【課題】真空中でドナー基板と被転写基板とを容易に分離することが可能な表示装置の製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】ドナー基板４０および被転写基板１１Ａを重ね合わせた状態で、ドナー基板４０の裏面の辺４０Ａ近傍に本体５１の曲面５１Ａの一端を当接させる。ドナー基板４０の裏面の上で本体５１を矢印Ｒ１方向に回動させることによりドナー基板４０の裏面を曲面５１Ａに巻きつけると共に、静電チャック５２により曲面５１Ａに密着させる。これにより、ドナー基板４０は、辺４０Ａから曲面に変形されると共に被転写基板１１Ａから剥離される。ドナー基板４０と被転写基板１１Ａとの剥離位置４０Ｃは、変形を開始した辺４０Ａから対辺４０Ｄに向かって移動する。剥離位置４０Ｃが対辺４０Ｄに到達すると、完全にドナー基板４０が被転写基板１１Ａから剥離される。 （もっと読む）

【課題】簡便な工程で歩留まりのよい有機ＥＬ表示パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】複数個のフィルタ素子が配設されたカラーフィルタ３０を備える第１の基板２０上に、接続端子４６ａが形成された接続用の電極をそれぞれ備える互いに同じ構成の複数個の有機エレクトロルミネッセンス素子４０を、各フィルタ素子に重なるように設けることにより、表示装置用基板６０を形成する工程と、複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を駆動する駆動回路と、駆動回路に導通する接続部５２ａとを備える駆動用基板５０を準備する工程と、表示装置用基板と駆動用基板とが貼り合わされた状態において、複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を取り囲むように、表示装置用基板または駆動用基板の表面に貼り合わせ部材７４Ｘを配置する工程と、接続端子と接続部とが当接するように、表示装置用基板と駆動用基板とを貼り合わせる工程とを含む、表示パネルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】真空中で迅速に基板を反転させる技術を提供する。
【解決手段】本発明の基板反転装置２０は、真空槽であるチャンバー２１内において、基板５０を昇降させる昇降機構６０と、基板５０を挟んで保持する把持部４１ａ、４２ａを有する基板保持機構４Ａ〜４Ｄと、基板保持機構４Ａ〜４Ｄの把持部４１ａ、４２ａを回転させて基板５０の上下関係を反転させる基板回転機構３０とを有する。本発明においては、基板５０を保持した状態で、水平方向に延びる直線を回転軸として基板回転機構３０を１８０°回転させる。 （もっと読む）

【課題】高真空装備内で大面積基板のチャッキング及びデチャッキングを安定的に制御できる静電チャックを提供する。
【解決手段】本発明の静電チャックは、中心部を貫通する少なくとも１つの開口部を備える絶縁プレートと、前記絶縁プレートに実装される一対の電極と、前記一対の電極に電圧を印加する第１コントローラと、前記絶縁プレートに隣接するように配置され、前記絶縁プレートの一面上に位置する帯電物体の静電荷が除去されるように前記少なくとも１つの開口部にイオンを放出する除電部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】真空チャンバーを大気開放することなく、膜厚センサーの振動子を繰り返し再生して使用することを可能にする。
【解決手段】複数の振動子５を振動子ホルダー６上に設置し、検知部３に位置する振動子５の表面にある程度の膜厚の蒸着膜が堆積したら、振動子ホルダー６を回転させ、誘導電極９を有する再生部８に移動させる。誘導加熱によって振動子５の表面の蒸着膜を再蒸発させて再生する間、検知部３に位置する振動子５を測定に使用する。この工程を繰り返すことで、真空チャンバーを大気開放せずに膜厚センサーを再使用して蒸着を続けることが可能になる。 （もっと読む）

【課題】装置自体の製造コストが安価で且つ高精度な位置決めを維持し得る真空蒸着用アライメント装置を提供する。
【解決手段】真空容器３内に保持されたマスクの上方に、真空容器の取付用フランジ１ａに形成された貫通穴１ｂを挿通された吊持部材12を介して保持された基板ホルダ11と、真空容器の外部に設けられると共に吊持部材に連結された連結用板体13と、この連結用板体を移動させて基板ホルダに保持された蒸着室２内の基板のマスクに対する位置を調整し得る位置調整手段14と、吊持部材に外嵌されると共に取付用フランジの貫通穴の外周と連結用板体との間に設けられて真空側と大気側とを遮断する伸縮式筒状遮断部材15と、連結用板体と取付用フランジとの間に設けられて、筒状遮断部材の内側が真空状態であることにより発生する連結用板体への押圧力と同等の付勢力を、当該押圧力と逆方向に発生させる空気圧シリンダ61とを具備したもの。 （もっと読む）

【課題】シャドウマスクの反りの影響を低減し、高精度に蒸着できる有機ＥＬデバイス製造装置及び成膜装置並びにそれらの製造方法及び成膜方法を提供することである。あるいは、駆動部等を大気側に配置あるいは配線を敷設することで真空内の粉塵やガスの発生を低減し、生産性の高い有機ＥＬデバイス製造装置及び成膜装置を提供することである。
【解決手段】本発明は、真空チャンバ内で基板とシャドウマスクとのアライメントを行ない、蒸発源内の蒸着材料を基板に蒸着する際に、前記基板を保持し、立てた姿勢に保持する基板ホルダーと、前記シャドウマスクを前記立てた姿勢の前記基板に対面するように保持するシャドウマスク保持手段とを有し、シャドウマスクの反りによる蒸着時の影響を低減することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ装置に用いる基板の洗浄処理において、基板表面からより多くの異物を除去し、高い洗浄効果が得られる有機ＥＬ装置の製造装置を提供する。
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス装置の製造装置であって、プロセスガスが供給されるチャンバー１と、チャンバー１内に設けられ、被処理基板Ｘを電気的に浮いた状態で保持する基板保持部２と、チャンバー１内のプロセスガスをプラズマ状態にして、被処理基板Ｘに照射する電極３Ａ，３Ｂと、被処理基板Ｘの被処理面Ｘｓに対向する位置と対向しない位置との間を移動可能に設けられた静電吸着部５と、を備え、静電吸着部５は、電圧を印加する外部電源５ａが接続され、プラズマの電荷に起因して被処理基板Ｘ上の異物Ｆが有する電荷と、自身に印加される電圧により発生するプラズマの電荷と逆の電荷と、によって生じる静電力により、異物Ｆを吸着することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被処理体の成膜材料を吹き出す蒸着ヘッドを成膜位置と収納位置との間にて移動させることが可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】６層連続成膜装置１０は、成膜材料が収納された複数の蒸着源１５５と、複数の蒸着源１５５に連結され、蒸着源１５５にて気化された成膜材料を搬送する複数の連結管１５０と、複数の連結管１５０にそれぞれ連結され、高さ方向にそれぞれ離隔しながら配設された複数の蒸着ヘッド１２５と、複数の蒸着ヘッド１２５から吹き出された成膜材料により、内部にて被処理体を連続成膜する処理室１００と、を備える。複数の蒸着ヘッド１２５は、複数の連結管１５０を搬送した成膜材料を基板Ｇに向けて吹き出すために収納位置と成膜位置との間を移動する。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子をウェット成膜工程と、ドライ成膜工程とを有する製造工程でロールツーロール方式により製造する時、ウェット成膜工程と、ドライ成膜工程とを分断することなく、且つ成膜原料の量に影響されることなく、ドライ成膜工程で連続して成膜することが出来る有機ＥＬ素子の製造方法の提供。
【解決手段】有機ＥＬ素子をウェット成膜工程と、ドライ成膜工程とを有する製造工程を使用し、ロールツーロール方式で製造する有機ＥＬ素子の製造方法において、前記ドライ成膜工程は、成膜条件を独立に制御し得る成膜室と、気圧調整室と、加熱蒸発室とを有する気相成膜ユニットを使用し、前記気相成膜ユニットは前記成膜室の真空を維持し、前記加熱蒸発室と、前記成膜室とを分離及び接合が可能であり、連続して成膜を行うことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】基板上に有機発光層等の薄膜を成膜する際に、この基板上の異物に対する薄膜の回り込みを改善することにより、電極間のリーク等の異物に起因する不具合を防止することができ、異物に起因する暗点欠陥等の欠陥が生じる虞の無い薄膜を成膜することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明の成膜装置１は、基板Ｗを水平に保持した状態で搬送し収納する真空容器２と、この真空容器２内に基板Ｗの成膜領域Ｗ１の下方かつ基板Ｗの搬送方向と直交する方向に配設され蒸着材料Ｍを収納するルツボ３、４とを備え、これらのルツボ３、４は、基板Ｗ上の成膜領域Ｗ１より外側の位置に、それぞれ配設されている。 （もっと読む）

【課題】基体５８上に有機薄膜を形成する方法を提供する。
【解決手段】基体５８上に有機薄膜を形成する方法であって、その方法は、複数の有機前駆物質（１４、４８）を気相で与え、前記複数の有機前駆物質（１４、４８）を大気圧未満で反応させる工程を有する。そのような方法により製造された薄膜及びそのような方法を実施するのに用いられる装置も含む。本方法は、有機発光デバイスの形成及び他のディスプレイ関連技術によく適している。 （もっと読む）

【課題】材料容器から放出口まで連なる輸送管温度の影響が、輻射あるいは伝導により材料容器に及ぶことにより、材料容器への材料補充や交換のための装置停止期間が長時間に及び、装置の稼動効率が低下するのを防ぐ。
【解決手段】材料容器１０において気化した成膜材料を放出口２０へ輸送するための輸送管１４と材料容器１０の間は、材料容器１０を輸送管１４から取り外し交換可能とする連結部１３によって接続されている。輸送管１４を加熱する加熱手段を複数に分割し、連結部１３の近傍の輸送管１４の温度を残りの部位から独立して制御するための連結部加熱手段１６を設ける。材料容器交換等のために成膜を停止するときは、材料容器加熱手段１１及び連結部加熱手段１６を輸送管加熱手段１５より先に停止する。 （もっと読む）

【課題】高密度な有機薄膜をマスク成膜で成膜する
【解決手段】本発明に用いるマスク７０は、貫通孔７２の内壁面が傾斜し、貫通孔７２は基板７側程狭く、放出装置５０側程広くなっている。従って、マスク本体７１の厚さが５０μｍ以上２００μｍ以下と厚い場合であっても、貫通孔７２の底面７４縁部分に斜めに入射する蒸気も基板７に到達可能であり、膜厚均一な有機薄膜８が形成される。マスク本体７１が厚いため、マスク７０は変形し難く、洗浄等によって再利用が可能であり、成膜精度も落ちない。 （もっと読む）

【課題】膜厚を高い精度で制御できるとともに、蒸着パターンが異なる蒸着を連続して行
なう場合でも蒸着用マスクの枚数が少なく済むインライン式蒸着装置、マスク蒸着方法、
および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】インライン式蒸着装置１００において、被処理基板２０の搬送経路に沿って
、蒸着源１２０および蒸着用マスク１３１、１３２を備えた第１蒸着エリア１１０と、蒸
着源２２０および蒸着用マスク２３１、２３２を備えた第２蒸着エリア２１０と設けてお
き、被処理基板２０を第１蒸着エリア１１０および第２蒸着エリア２１０において蒸着用
マスク１３１、１３２、２３１、２３２と重なる位置で一時停止させながら被処理基板２
０を搬送経路に沿って搬送する。 （もっと読む）

本発明の教示内容は、ＯＬＥＤや他の種類のディスプレイ装置の一部を成す１以上の基材の上に、１以上の材料（例えば、１種以上の固体など、１以上の薄膜）を積層するための装置および方法に関する。いくつかの実施の形態での開示内容は、１以上の基材の上にインクを積層するための装置および方法に関する。こうした装置には、例えば、インクを格納する１以上のチャンバと、１以上のチャンバ内にあってインクの液滴を噴射するように構成された複数の開口部と、例えば矩形配列の形を取る微細孔配列を有する放出ノズルと、を有し、各微細孔は入口ポートと出口ポートと有し、放出ノズルはチャンバから開口部を介して入口ポートで複数のインク液滴を受け取り、出口ポートから放出する。インク液滴は、放出ノズルの入口ポート上に間隔をあけて定められた固有の位置で受け取られる。いくつかの実施の形態では、複数（例えば３つ）の開口部を有する単一の液体インク格納チャンバが、複数の粒子が懸濁した液体の状態のインクを受け取り、インク液滴はチャンバからほぼ同時に、放出ノズル上の間隔をおいた別々の位置に向けて放出され、放出ノズルはキャリア液を蒸発させてから、固体の粒子を１以上の基材に積層する。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成で温度分布の均一化を図ることができ、材料の余分な充填を低減することができる真空蒸着装置及び温度調整方法を提供する。
【解決手段】外部より搬入される被蒸着体Ｂを収容可能な真空チャンバ１と、該真空チャンバ１内に設けられて蒸着材料Ｍを収容する坩堝１２と、該坩堝１２を加熱して蒸着材料Ｍを気化させる加熱源３とを備え、該加熱源３は、坩堝１２への加熱量を坩堝１２の位置に応じて異ならせていることを特徴とする。 （もっと読む）