【課題】基板を搬送しながら行う蒸着において、蒸着位置精度を向上して緻密なパターンの形成を可能にする。
【解決手段】蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂによる蒸着位置の基板の搬送方向手前側の位置を撮像可能に設けられた撮像手段４により、蒸着マスク１６Ｂに形成されたアライメントマークと有機ＥＬ表示用基板９表面に予め形成されたピクセルとを撮像し、該撮像画像に基づいてアライメントマークの基準位置とピクセルの基準位置との間の位置ずれ量を検出し、該位置ずれ量が所定値となるようにアライメント手段５により蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂを上記基板面に平行な面内にて搬送方向と略直交する方向に移動して位置合わせしながら、搬送中の有機ＥＬ表示用基板９のピクセル上に所定のパターンを蒸着して形成するものである。 （もっと読む）

【課題】蒸着装置を提供する。
【解決手段】被処理体に蒸着物質を蒸着させる蒸着装置において、蒸着物質を被処理体に蒸着させる蒸着源と、被処理体と離隔されて配され、一面上に蒸着源が配されるベースと、蒸着源と被処理体との間に位置する第１補正部及び第２補正部とを具備し、第１補正部及び第２補正部は、互いに対向するように、蒸着源の外郭部にそれぞれ配され、第１補正部及び第２補正部は、それぞれ回転しつつ、被処理体に蒸着される蒸着物質の厚さを調節することを特徴とする蒸着装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】
毒性のない透明導電膜の低抵抗率化と大面積化を可能とし、製造過程に於ける基板選択性を高め低コスト化と同時に省エネルギー化を図る。
【解決手段】
透明基板１上の酸化亜鉛試料２に電位を与えておき、前面に酸素プラズマＯＰを形成し、プラズマ空間電位を直流電源９、交流電源１０又はパルス電源１１で制御する。酸素プラズマＯＰの電子温度分布を変化させ、酸化亜鉛試料２と酸素プラズマＯＰとの間のシース電圧を制御し、亜鉛蒸気ＺＶを亜鉛Ｚｎショット８を加熱して生成させ、非晶質の透明基板１付近の各種粒子の量及び運動量等を質量分析装置１４とプラズマ発光分析装置１３でモニタリングし、各量をオーブンの三次元移動、酸素ガス質量流量、プラズマ生成電源電力等で制御し、得られるＺｎＯ透明導電膜の元素成分を、亜鉛と酸素のいずれか低い存在量に対して、亜鉛、酸素及び水素を除く不純物元素の比が０．４％以下となるように制御する。 （もっと読む）

【課題】蒸着ソースを提供する。
【解決手段】加熱炉と、加熱炉に熱を加えるように、加熱炉を覆い包みながら配された第１加熱部と、第１加熱部と所定間隔に離隔され、加熱炉を覆い包みながら配された第２加熱部と、を備え、第２加熱部は、それぞれ相互離隔された複数の副加熱部を備え、複数の副加熱部は、相互離隔された状態で加熱炉を覆い包む蒸着ソースである。前記副加熱部は、それぞれ前記加熱炉の異なる領域に対応するように配され、前記加熱炉の異なる領域を加熱する。 （もっと読む）

【課題】低コストで廃棄物の量を抑制可能な発光装置の再生産方法および発光装置の再生産装置を提供する。
【解決手段】透光性の管１と、管１の内周に設けた、透光性の第１電極層１２ｂと、第１電極層の内周に設けた、電界を印加して発光する有機物層ＯＬと、有機物層ＯＬの内周に設けた第２電極層１２ｇと、管１の内周を気密に封止する、封止部１１０とを備えた発光装置の再生産方法であって、以下の工程を有する。封止部１１０を取外す。第２電極層１２ｇを除去して有機物層ＯＬを露出させる。有機物層ＯＬを除去して第１電極層１２ｂを露出させる。第１電極層１２ｂを表面処理する。表面処理された第１電極層１２ｂの内周に新たな有機物層ＯＬを成膜する。成膜された新たな有機物層ＯＬの内周に新たな第２電極層１２ｇを成膜する。成膜された新たな第２電極層１２ｇを含む管１の内周を封止部１１０で気密に封止する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、真空チャンバ内部の圧力状態に依存せずに、例えば、１辺の長さが１ｍを超える大形基板に対して、蒸発源の安定したスキャン動作が行える駆動機構を備えた信頼性の高いまたは稼働率の高いあるいは安定して蒸着が可能なまたは軽量で製作コスト、装置輸送コストの低減を図った真空蒸着装置を提供することである。
【解決手段】本発明は、前記真空チャンバの内部に設けた剛体の第1基準部材、真空チャンバの外部に設けた剛体の第２基準部材、及び一端を前記第１基準部材に固定し、前記真空チャンバの壁に設けた貫通孔を通して他端を前記第２基準部材に固定された剛体の支柱を複数具備するかご構造体と、前記真空チャンバの気密性を確保する気密部と、前記かご構造体を前記真空チャンバの所定位置に維持する維持手段とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高精細パターンを形成したテンションマスクを均一に冷却する。
【解決手段】冷却体４をテンションマスク１のマスク箔３に接触させ、冷却体４をマスク箔上で走査させることにより、マスク箔３の全面を冷却する。冷却体４によってマスク箔３を冷却した後、基板７をマスク箔３に接触させ、シャッター８を開いて、蒸着源６から発生する蒸気を基板７に付着させる。マスク箔３の全面に冷却体４を直接接触させて冷却するため、短時間で均一にテンションマスクの温度調整を行うことが可能である。 （もっと読む）

１つの実施の形態における本発明は、蒸発材料を含んだ複数の気体流を基材に送り出すという形で、蒸発材料を運ぶ第１の気体流を基材に提供して基材上で積層させること、気体流を囲む気体カーテンを形成することにより、目標印刷範囲を越えて気体流が拡散するのを防ぐこと、蒸発材料を目標印刷範囲で凝縮させること、に関する。また、別の実施の形態では、熱を利用して蒸発材料の流れと積層の厚みとを制御する。 （もっと読む）

【課題】薄膜蒸着用マスクフレーム組立体、その製造方法及び有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】開口部及び支持部を備えるフレームと、開口部に対応して位置する蒸着領域を備えるマスクと、を備え、マスクは、蒸着領域が備えられ、蒸着領域の外郭に配置された縁部を備える第１層と、互いに対向した第１面及び第２面を有し、第１面は、第１層に対向して少なくとも第１面の一部が縁部に接するように備えられ、第２面は、支持部に溶接された第２層と、を備える薄膜蒸着用マスクフレーム組立体、その製造方法及び有機発光表示装置の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】均一性の良い薄膜を形成する成膜装置若しくは薄膜の作製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基板の一の領域に特定の成膜材料が被着されるように配置された第１の蒸発源と、基板の他の一の領域に他の特定の成膜材料が被着されるように配置された第２の蒸発源とを設け、基板の被成膜表面において異なる材料が所定の比率で含まれるように基板を回転させる。複数の蒸発源を異なる位置に配置することにより、複数の材料が混合した薄膜、複数の材料の層が格子状に配列した薄膜、若しくは複数の材料の単分子層が膜厚方向に積層した薄膜であって実質的に単分子超多層構造した薄膜を形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】本発明は真空チャンバ内部の圧力状態に依存せず、特に１辺の長さが１ｍを超える大形基板に対して精密なパターニングに向けた高精度基板アライメントが可能な成膜装置または成膜システムを提供することである。
【解決手段】本発明は、基板とマスクとのアライメントを行い成膜材料を基板に真空成膜する真空チャンバを有する成膜装置またはシステムにおいて、前記真空チャンバの内部に設けた剛体の第１基準部材、真空チャンバの外部に設けた剛体の第２基準部材及び一端を前記第１基準部材の固定し、前記真空チャンバの壁に設けた貫通孔を通して他端を前記第２基準部材に固定された剛体の支柱を複数具備するかご構造体と、前記かご構造体を前記真空アライメントチャンバの所定位置に維持するフローティング機構と、前記支柱を覆い前記真空チャンバの気密性を確保し、アライメントマークを撮像する撮像手段を前記剛体のいずれかに取付けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】大気に開放されることなく、かつ蒸発温度を超える温度への一度の加熱で、低温及び高温に属する不純物（中温材料、高温材料）を除去し、成膜の対象である中温材料のみからなる高純度な膜を得ることができる成膜方法を提供する。
【解決手段】第１の温度Ｔ１に制御することにより第１の蒸発源１１に備えられた第１の有機材料２０から低温材料ＬＭ、中温材料ＭＭを気化させる。生成された気体状態の低温材料ＬＭ、中温材料ＭＭを、第２の蒸発源１２系に移動させ、収集パネル１９で冷却し、固体状態または液体状態の第２の有機材料２１を生成させる。次に、第２の有機材料２１を第２の温度Ｔ_２に制御して、低温材料ＬＭを気化させる。残留した中温材料ＭＭからなる第３の有機材料２２を、第３の温度Ｔ_３に制御することにより気化させ、気化された中温材料ＭＭを用いて基板３０に成膜する。 （もっと読む）

【課題】材料補充時、成膜装置内を大気開放せず、装置内の温調を管理しながら有機材料を補充、混合する成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置１０は、有機材料ｍが収納された材料容器５００を収容するロードロック室１００ａと、ゲートバルブＧＶ２を介してロードロック室１００ａと接続された中間室２００と、ロードロック室内の材料容器５００を、ゲートバルブＧＶ２を介して中間室２００に投入する複数のピン機構７００と、複数のピン機構７００により中間室２００に投入された材料容器５００内の有機材料ｍを気化させるシースヒータ２０５ａと、シースヒータ２０５ａにより気化された有機材料ｍを輸送する輸送室３００と、輸送室３００を輸送された有機材料ｍにより基板Ｇを成膜する成膜室４００とを有する。 （もっと読む）

【課題】スループット良くＥＬ発光を利用した照明装置を製造することが可能な製造装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】真空室と、真空室を減圧あるいは高真空状態とする排気系と、真空室へ基板を搬送する搬送室と、を有する照明装置の製造装置を提供する。この製造装置において、真空室は、搬送室から搬送された基板上に第１の電極を成膜する成膜室と、第１の電極上に少なくとも発光層を有する第１の発光ユニットを成膜する成膜室と、第１の発光ユニット上に中間層を成膜する成膜室と、中間層上に少なくとも発光層を有する第２の発光ユニットを成膜する成膜室と、第２の発光ユニット上に第２の電極を成膜する成膜室と、第２の電極が設けられた基板上に封止膜を成膜する成膜室と、成膜室のそれぞれに基板を順次搬送するための基板搬送手段と、を有する。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着を行った後のマスク部材をクリーニングするに当って、負荷を最小限に抑制したクリーニング時におけるマスク部材及びクリーニング装置を提供する。
【解決手段】マスク部材１をドライ洗浄ステージ１１で鉛直状態に保持して、レーザ発振器からスキャニング光学系を介してレーザ光のパルスをマスク板の表面にスポット的に照射し、マスク板表面の蒸着物質を、マスク板と蒸着物質との間の熱膨張率の差で破砕させ、その砕片及び薄片を長尺ノズルによる負圧吸引力の作用で除去し、次いでウエット洗浄ステージ１４において、溶剤洗浄部１２で超音波洗浄を行い、シャワー洗浄部１３で溶剤を用いてマスクフレームを含めたマスク部材の全体をクリーニングする。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタ及びその製造方法、並びにそれを含む有機電界発光表示装置を提供する。
【解決手段】基板と、前記基板上に位置し、チャンネル領域、イオンを含むソース／ドレイン領域及びオフセット領域を含む半導体層と、前記半導体層上に位置するゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜上に位置するゲート電極と、前記ゲート電極上に位置する第１絶縁膜と、前記第１絶縁膜上に位置する第２絶縁膜と、前記第２絶縁膜上に位置し、前記半導体層のソース／ドレイン領域とそれぞれ電気的に接続されるソース／ドレイン電極とを含み、前記ソース／ドレイン領域上の前記ゲート絶縁膜及び前記第１絶縁膜の厚さの合計は、０を超え前記ソース／ドレイン領域に含まれたイオンの垂直浸透深さより小さいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】信頼性の高い有機ＥＬ装置の蒸着装置及び方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ装置の蒸着装置５は、第１電極２３Ｒ等と、発光機能層と、第２電極とを基板２０上に備える有機ＥＬ装置１の蒸着装置５である。有機ＥＬ装置の蒸着装置５は、基板２０を収容し、内部が真空状態であるチャンバ４０と、チャンバ４０内で発光機能層を基板２０上に成膜するために蒸着材料を加熱蒸発する蒸着源４２と、蒸着源４２より基板２０に近い位置における不活性ガスの濃度が、基板２０より蒸着源４２に近い位置における不活性ガスの濃度と比較して濃くなるようにチャンバ４０内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段４５とを備える。 （もっと読む）

本発明に記載されているのは、材料堆積装置（５０）において基板（１０）を保持する装置（１）である。この基板（１０）は、材料（Ｍ）が堆積される堆積面（１０ａ）を有しており、装置（１）は、複数の堆積開口部（Ｄ₁）を含むシャドウマスク（２０）と、複数の包囲開口部（Ｓ₁）を含むサポート構造体（３）と、上記のサポート構造体（３０）を保持するサポート構造体保持手段（６）および／または基板（１０）を保持する基板保持手段（５）とを有しており、サポート構造体（３０）は、基板の堆積面（１０ａ）と同じ側にあり、シャドウマスク（２０）は、基板（１０）とサポート構造体（３０）との間に配置されて、シャドウマスク（２０）の少なくとも１つの堆積開口部（Ｄ₁）がサポート構造体（３０）の相応する包囲開口部（Ｓ₁）内に配置されている。さらに本発明には、基板（１０）を保持する装置（１）を有する材料堆積装置（５０）が記載されている。また本発明には、材料堆積装置（５０）において基板（１０）、シャドウマスク（２０）およびサポート構造体（３０）を配置する方法が記載されている。
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【課題】電子デバイス製造装置の占有スペースの増大や基板を流動させる際のロスタイム
を発生させることなく、蒸着マスクをクリーニングすることのできる電子デバイス製造装
置および電子デバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】電子デバイス製造装置１０では、有機膜蒸着室６６Ｒ、６６Ｇ、６６Ｂでの
マスク蒸着に用いた蒸着マスクについては、蒸着マスク返却路７５を介して、最下流側の
有機膜蒸着室６６Ｂから最上流側の有機膜蒸着室６６Ｒに戻す。蒸着マスク返却路７５に
はプラズマ処理装置が設けられており、蒸着マスク返却路７５において蒸着マスク４０に
プラズマを照射することにより、蒸着マスク４０に付着した有機物を除去する。 （もっと読む）

【課題】スプラッシュを低減させ、連続運転を可能とする成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置は、成膜材料１０を気化させ、成膜材料１０を被成膜物の表面に堆
積させることにより成膜を行う成膜装置であって、真空容器１４と、真空容器１４内に設
けられ、成膜材料１０を収容する絶縁性の坩堝１８と、坩堝１８に収容された成膜材料１
０の表面に生成される副生成物１２を除去する副生成物除去部材２６と、所定の待機位置
と坩堝１８の近傍との間で副生成物除去部材２６を移動させるための、先端部２４ａに副
生成物除去部材２６が固定された腕部材２４と、を備える。 （もっと読む）