【課題】蒸着材料の劣化を防止しつつ、長期間にわたる連続運転を可能とする。
【解決手段】るつぼホルダ１３内に、赤外線を主な波長とする加熱波を放射する放射加熱器２１を、赤外線を透過可能な材質からなる加熱波透過管２２に内装して配置し、放射加熱器２１からの加熱波をるつぼ本体１２内の蒸着材料Ｍの表面に照射して加熱し、蒸着材料Ｍの表面のみを蒸発または昇華させる。蒸発または昇華された蒸着材料Ｍが、加熱波透過管２２の表面やるつぼ本体１２、るつぼホルダ１３の内面に付着しても、加熱波により加熱されて再蒸発または再昇華される。 （もっと読む）

【課題】発光色度を改善することが可能な有機ＥＬ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に前記画素電極を形成し、ドーパント材料及びホスト材料からなる混合材料を供給し、混合材料を、ドーパント材料及び前記ホスト材料の昇華温度のうちいずれか高い方の温度以上で加熱することで発光層を形成し、発光層上に対向電極を形成する。 （もっと読む）

【課題】製造が容易であり、大型基板の量産工程に容易に適用でき、製造収率及び蒸着効率が向上した薄膜蒸着装置、これを利用した有機発光表示装置の製造方法及びこれを利用して製造された有機発光表示装置を提供する。
【解決手段】薄膜蒸着装置は複数の薄膜蒸着アセンブリーを備え、複数の薄膜蒸着アセンブリーそれぞれは、蒸着源と、複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、蒸着源ノズル部とパターニングスリットシートとの間の空間を複数の蒸着空間に区切る複数の遮断板を備える遮断板アセンブリーと、を備え、薄膜蒸着装置は、基板と所定距離ほど離隔して形成され、薄膜蒸着装置と基板とは、いずれか一方が他方に対して相対的に移動自在に形成され、各蒸着源には、赤色発光層材料、緑色発光層材料、青色発光層材料又は補助層材料が備えられることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】大型基板であっても、基板とマスクとを精度良くアライメントを行うことができる技術を提供する。
【解決手段】プラズマCVD装置1は、真空処理槽2内に反応ガスを導入し、サセプタ4上に配置された基板10上にマスク7を介してCVD法で成膜するもので、マスク支持機構58と、駆動部53と、CCDカメラ51と、アライメント制御部6とを備える。真空処理槽2の本体部22には、マスク支持機構58の作動部材55を真空処理槽2の外部から内部へ貫通し且つアライメントの際マスク支持機構58の作動部材55が三次元的に移動可能な形状に形成された動作用孔部23を有する。マスク7を基板10から離間させた状態で、基板10とマスク7との重なり部分の像をCCDカメラ51で取り込み、アライメント制御部6にて得られた結果に基づき駆動部53を動作させ、マスク7のアライメントを行う。 （もっと読む）

【課題】蒸着マスク変形の低減、並びに被成膜基板と蒸着マスクとの密着性の向上及び塗り分け精度の向上を実現させる蒸着装置を提供する。
【解決手段】磁性材料を含んでなる金属箔１４と金属箔１４を固定するマスクフレーム１５とからなる蒸着マスク１１の上に載置された被成膜基板（基板２０）を、蒸着マスク１１に押圧する押圧機構１２を備える蒸着装置１であって、押圧機構１２が、少なくとも前記被成膜基板の角部において蒸着マスク１１を引き寄せうる磁石１８を備えている。 （もっと読む）

【課題】成膜室の真空槽内で従来より効率的に成膜マスクから付着物を除去できる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】
真空槽１１内に配置され、薄膜材料４５の蒸気を放出する放出容器３１に、ガス供給装置５０から反応ガスを導入する。放出容器３１の放出孔３４から放出される反応ガスは成膜マスク２１の付着物と反応して反応生成物ガスを形成し、反応生成物ガスは真空排気される。放出容器３１と成膜マスク２１との間に電圧を印加して反応ガスをプラズマ化することもできる。成膜マスク２１に周期的に負電位を印加すると、プラズマ中のイオンが成膜マスク２１に引き寄せられて衝突するのでより効率的に付着物を除去できる。成膜マスク２１に負電位を印加する間に放出容器３１に負電位を印加すると、放出容器３１からも付着物を効率的に除去できる。 （もっと読む）

【課題】蒸着源である金属の酸化に起因する発光不良を防止した、有機ＥＬ装置の製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】陽極と陰極との間に、少なくとも有機発光層を含む機能層を有してなる有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた有機エレクトロルミネッセンス装置の製造装置である。真空チャンバー５１と、真空チャンバー５１内に配置されて蒸着材料を収容する坩堝５３と、坩堝５３内の蒸着材料を加熱する蒸着用加熱装置５４と、真空チャンバー５１内に還元ガスを供給し、還元ガスを坩堝５３内の蒸着材料に接触させる還元ガス供給手段５５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】大面積の成膜対象物に対して膜厚及び膜質が均一の膜を形成することができる蒸着技術を提供する。
【解決手段】本発明の有機蒸着装置１は、基板３が配置される真空槽２と、真空槽２の外部に設けられ、有機材料を蒸発させる複数の蒸発源５ｈ、５ｄ、６ｈ、６ｄと、複数の蒸発源５ｈ、５ｄ、６ｈ、６ｄから供給された蒸発材料の蒸気を基板３に向って放出するための面蒸発器４とを備えている。面蒸発器４は、互いに雰囲気が隔離された複数の蒸気放出室２１と、複数の蒸発源５ｈ、５ｄ、６ｈ、６ｄから複数の蒸気放出室２１内にそれぞれ蒸発材料の蒸気を導入する蒸気導入器３０とを有する。各蒸気放出室２１には、基板３に対して対向するように面状に配列された複数の蒸気放出ノズル２３が設けられている。 （もっと読む）

【課題】異なる色を発光する画素を有する発光装置の作製において、画素の大きさ、間隔の異なる発光装置を同一装置にて、ダウンタイムなく作製する作製装置、および当該作製装置を使った発光装置の作製方法を提供する。
【解決手段】レーザビームを複数に分岐させ、照射面において同一間隔で一列に並べ、製造対象の仕様に合わせて回転させる作製装置により、いかなる画素間隔の発光装置の作製にも対応できる。画素の大きさの変更にはレーザビームの投影レンズの倍率を変えるなどして対応する。これにより、異なる大きさと間隔の画素を有する発光装置の作製を、同一装置の簡易な設定変更のみで可能にできる。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ用マスクに対して復元不能なダメージを与えることなく、且つクリーニング速度の高速化を図ることを目的とする。
【解決手段】有機ＥＬ用マスク１の表面に付着した有機材料５０を剥離するためのレーザ光Ｌを発振するレーザ光源３１と、レーザ光Ｌの強度分布をガウス形状から平均的な分布（トップハット形状）に変換するビーム整形光学系３３と、強度分布が変換されたレーザ光Ｌを有機ＥＬ用マスク１の表面に走査させるＸガルバノミラー３５およびＹガルバノミラー３６を有する走査光学系と、を備えている。この構成により、レーザ光Ｌの強度分布が平均的になり、有機ＥＬ用マスク１に復元不能なダメージを与えなくなり、且つクリーニング速度が高速化する。 （もっと読む）

【課題】大型基板の量産工程に容易に適用でき、歩留まりが向上した薄膜蒸着装置及びこれを用いた有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】被蒸着用基板を静電チャックで固定させるローディング部と、チャンバと、チャンバの内部に配され、かつ静電チャックに固定された基板５００に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリー１００を備える蒸着部と、静電チャックから蒸着が完了した基板を分離させるアンローディング部と、基板が固定された静電チャックをローディング部、蒸着部及びアンローディング部に順次移動させる第１循環部６１０と、を備え、第１循環部は、互いに平行に形成された２対の第１ガイドレール６１３及び第２ガイドレール６１７と、第１ガイドレールに結合する一つ以上の第１ガイドブロック６１５と、第２ガイドレールに結合する一つ以上の第２ガイドブロック６１９とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板の自重たわみを安定させると共にこのたわみを利用して基板との密着を容易にする蒸着用メタルマスクを提供する。
【解決手段】金属フレーム１０と、金属フレーム１０に固定され、複数の開口１１を有する金属箔１２と、から構成され、金属フレーム１０の内縁の角部に基板受け部１３が設けられ、基板受け部１３のみによって基板２０が支持されることを特徴とする、蒸着用メタルマスク１。 （もっと読む）

【課題】ロール・ツー・ロール方式で樹脂フィルム上に反射膜を連続成膜する場合でも、蒸着状態を安定させ、膜組成の変動を防止し、反射率のバラツキを小さくすることができる反射膜形成用蒸着材を提供する。
【解決手段】質量％で、Ｉｎを０．２〜２．０％、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒから選ばれる少なくとも１種を合計で０．００４〜０．０１％含有し、残部がＡｇと不可避不純物からなる蒸着材により、ロール・ツー・ロール方式で連続走行させられる樹脂フィルムに連続的に反射膜を蒸着する。 （もっと読む）

【課題】成膜室内の部品に付着した蒸着材料を大気解放することなく除去するためのクリーニング方法を提供する。
【解決手段】 成膜室１０１内に設けられた基板ホルダ１０２、蒸着マスク１０４、マスクホルダ１０５もしくは防着シールド１０６といった部品に付着した蒸着材料１１１に対して加熱処理を行う。これにより付着した蒸着材料１１１を再び昇華させ、真空ポンプにより排気して除去する。このようなクリーニング方法を電気光学装置の作製工程に含めることで、作製工程の短縮化と信頼性の高い電気光学装置の実現を図る。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ドライ洗浄方式において、表面を洗浄(剥離)しながら裏面も洗浄(剥離)できるマスク洗浄装置または洗浄方法を提供すること、あるいは上記マスク洗浄装置を蒸着装置に隣接して設けることで短時間に洗浄できる稼働率の高い有機ＥＬ製造装置を提供することである。
【解決手段】マスクに付着した蒸着材料にレーザ光を照射しマスクを洗浄する際に、マスクの蒸着面である表面に該レーザ光を照射し該表面を洗浄し、前記レーザ光を前記マスクの裏面へ照射し該裏面も洗浄することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】原子層堆積方法および原子層堆積装置は、従来のような防湿性を維持しつつ、内部応力の小さな薄膜を形成する。
【解決手段】基板に薄膜を形成するとき、基板が配置された、減圧した成膜空間内に、原料ガスを一定期間供給する。この後、原料ガスの前記成膜空間への供給後、原料ガスの成分を吸着した基板に向けて、前記成膜空間内に反応ガスを供給し、プラズマ生成素子を用いて反応ガスを活性化させることにより、基板に吸着された原料ガスの成分と反応ガスの成分を反応させて、基板に所定の薄膜を形成させる。上記原料ガスの供給と反応ガスの供給を繰り返し行うことにより、所定の厚さの薄膜を基板に形成する。このとき、上記原料ガスの供給と反応ガスの供給の繰り返し回数が増えるに従って、段階的にあるいは連続的にプラズマ生成素子への供給電力を増加させる。 （もっと読む）

【課題】大型基板の量産工程に容易に適用でき、歩留まりが向上した薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着物質１１５を放射する蒸着源１１０と、蒸着源１１０の一側に配され、複数の蒸着源ノズル１２１が形成された蒸着源ノズル部１２０と、蒸着源ノズル部１２０と対向して配され、複数のパターニングスリット１５１が配されるパターニングスリットシート１５０と、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間に配されて、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間の空間を複数の蒸着空間に区切る複数の遮断板１３１を備える遮断板アセンブリー１３０と、パターニングスリットシート１５０に対する基板５００の相対的な位置を検出する位置検出部材と、基板５００に対するパターニングスリットシート１５０の相対的な位置を変化させるアライン制御部材と、を備える薄膜蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ用蒸着マスクのクリーニングを行うときに、有機ＥＬ用蒸着マスクに応じた適切なエネルギーを設定することを目的とする。
【解決手段】有機材料が付着した有機ＥＬ用蒸着マスク２の表面に対してレーザ光Ｌを走査して有機材料を剥離するレーザ走査手段４と、有機ＥＬ用蒸着マスク２のうち一部の領域にレーザ光Ｌをテスト走査させるレーザ制御部５５と、有機ＥＬ用蒸着マスク２のうちテスト走査を行った部位の有機材料が剥離されたか否かを検出する画像処理部５２と、画像処理部５２の検出結果に基づいて、有機ＥＬ用蒸着マスク２に照射されるレーザ光Ｌの照射条件を補正する電流補正部５３およびフォーカス補正部５４と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】真空内を機構が簡単で基板の蒸着面を上面にして搬送ができ、前記上面搬送においても高精彩に蒸着可能な有機ＥＬデバイス製造装または同製造方法あるいは成膜装置または成膜方法を提供することである。
【解決手段】
真空内を基板の蒸着面を上面にして搬送し、少なくとも前記基板が移動する場合には前記基板の搬送面が摺動しないように保持し、前記真空チャンバ内で前記基板を受渡し、その後前記基板を垂直または略垂直にたてて蒸着する。
また、上面搬送されてきた複数の基板を一つの真空蒸着チャンバ内で同一の蒸着源で交互に蒸着する。 （もっと読む）

【課題】基板を一方的にマスクに押し付けても基板とマスクを十分に密着させることができない。静電吸着により基板とマスクの双方を引き合わせることで、基板とマスクを十分に密着させて真空成膜（蒸着、スパッタリング等）を行うことにより、パターン精度の高い表示パネルを提供する。
【解決手段】１または複数の表示パネル用回路が形成される基板４２０とマスク５２０とを重ねて配置し、当該基板が前記マスクに静電吸着するように、当該マスクに電圧を印加し、当該基板に当該マスクを介して真空成膜する。 （もっと読む）