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Fターム[3K107GG32]の内容

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【課題】簡素な構成で温度分布の均一化を図ることができ、材料の余分な充填を低減することができる真空蒸着装置及び温度調整方法を提供する。
【解決手段】外部より搬入される被蒸着体Bを収容可能な真空チャンバ1と、該真空チャンバ1内に設けられて蒸着材料Mを収容する坩堝2と、該坩堝2を加熱して前記蒸着材料Mを気化させる加熱源3と、坩堝2の底部2cに分散配置され坩堝2を支持すると共に、坩堝2と真空チャンバ1の床部1aとの間で伝熱する複数の支持部5とを備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】室内の気密を保持しながら成膜材料を補充する材料供給装置を提供する。
【解決手段】材料供給装置100は、有機材料305が収納された材料容器300と、材料容器300を投入する材料投入室110と、蒸着源ヘッド200aに連結された連結管120bの内部通路と連通し、その連通した部分を材料気化部として、投入された材料容器300を材料気化部まで搬送させる搬送路120aを有し、材料気化部にて気化された有機分子を連結管120bの内部通路を介して蒸着源ヘッド200aに向けて送り出す材料輸送室120と、材料輸送室130から材料容器300を取り出す材料取出室130と、を有する。材料投入室110と材料輸送室120と材料取出室130とは、それぞれ所望の減圧状態に維持されている。 (もっと読む)


【課題】固体原料を加熱して蒸発させて成膜用の原料ガスを得るにあたって、熱による劣化や変質を抑えながら長時間に亘って安定した量の原料ガスを得ること。
【解決手段】固体原料を貯留する粉体貯留部と、この粉体貯留部から供給される固体原料を溶融させて液体原料を得る粉体受け入れ室と、この粉体受け入れ室から取り出した液体材料を気化させることにより原料ガスを得る気化室と、を設けて、気化室では成膜処理に必要な生成量となるように液体材料に大きな熱量を加えて原料ガスを発生させる一方、粉体受け入れ室では固体原料が溶融できる程度の小さな熱量を加えて熱劣化を抑えながら液体原料を得て、この液体原料を粉体受け入れ室から気化室に向かって通流させる。 (もっと読む)


【課題】精度よくアライメントできるアライメント装置及びアライメント方法並びにそれらを用いて高精度に蒸着できる有機ELデバイス製造装置及び成膜装置を提供することである。
または、アライメントに必要な駆動部等を大気側に配置することで真空内の粉塵や発熱を低減した生産性の高い、あるいは、保守性を高めて稼働率の高い有機ELデバイス製造装置及び成膜装置を提供することである。
【解決手段】シャドウマスクはアライメント用の貫通孔を有し、アライメント部は、前記貫通孔の一端側から光を入射する光源と前記他端を撮像する撮像手段とを有するアライメント光学系と、前記撮像手段の出力に基づいてアライメントを行なう制御部とを有することを特徴とする。さらに、上記特徴に加え、前記貫通孔は前記シャドウマスクの前後に貫通した孔であり、前記アライメント光学系は前記少なくとも前記基板への処理時に前記貫通孔への処理材の付着を遮蔽する遮蔽手段を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】発光膜中のO含有量を十分に低減することができるEL素子製造用スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】EL素子製造用スパッタリングターゲットの製造方法が、少なくとも、2価金属の硫化物と、3価金属と、発光中心元素の硫化物とを混合して混合物を得る混合工程と、該混合物を成形して成形物を得る成形工程と、該成形物を焼結してEL素子製造用スパッタリングターゲットを得る焼結工程とを含むと、上記課題を解決することができる。 (もっと読む)


【課題】蒸着速度を低下させることなくX線による悪影響を避け得る電子ビーム蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空容器1内に配置された坩堝2内の蒸着材料に電子ビームEBを照射し、この電子ビームの照射により蒸発した蒸着材料を真空容器1内の基板ホルダー4に保持された基板K表面に付着させて薄膜を形成するための蒸着装置であって、坩堝2と基板Kとの間に円筒体からなるX線遮蔽体11を水平軸心回りで回転自在に配置するとともに、このX線遮蔽体11を加熱するヒータ13を具備し、且つX線遮蔽体11を、坩堝2の開口部からX線を被蒸着部材に照射した際に、X線RによるX線遮蔽体11の投影部分が被蒸着部材の薄膜形成範囲に略一致するような大きさにしたものである。 (もっと読む)


【課題】酸化物導電膜との低い接触抵抗を実現すると共に、優れた反射率を達成できるAl合金反射膜を備えた有機ELディスプレイ用の反射アノード電極を提供すること。
【解決手段】基板上に、Ni又はCoを0.1〜2原子%含有するAl合金膜を成膜し、前記Al合金膜を、真空または不活性ガス雰囲気下、150℃以上の温度で熱処理し、次いで酸化物導電膜を、前記Al合金膜と直接接触するように成膜することを特徴とする有機ELディスプレイ用の反射アノード電極の製造方法。 (もっと読む)


【課題】真空蒸着法を採用し、安定した膜厚分布が得られるインライン蒸着装置、有機EL装置の製造装置、有機EL装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本適用例のインライン蒸着装置としての有機蒸着部は、減圧可能なチャンバーとしての有機蒸着室125と、有機蒸着室125内において基板Wを所定の搬送方向に搬送する基板搬送経路125a,125b,125cと、基板Wの搬送方向に複数の蒸着室125eとを有し、それぞれの蒸着室125eにおいて、基板搬送経路125a,125b,125cの数を3本とするとき、3+1個の蒸着源110を搬送方向に直交する方向において、基板搬送経路125a,125b,125cの直下を避けた位置に等間隔に設けた。 (もっと読む)


【課題】スプラッシュの発生をリアルタイムで検出できるようにした物理気相成膜装置と、有機EL装置の製造方法を提供する。
【解決手段】物理気相成膜法によって被成膜体に成膜材料を成膜する物理気相成膜装置1である。真空チャンバー3と、真空チャンバー3内に設けられた成膜材料からなる成膜源4と、成膜源4から成膜材料を被成膜体2に向けて飛翔させる成膜手段5と、真空チャンバー3の外に配置されて、真空チャンバー3に設けられた透光性の窓8を透して成膜源4と被成膜体2との間に光を照射する光源10と、真空チャンバー3の外に配置されて、光源10から照射された光を直接的にまたは間接的に受光することで、成膜源4と被成膜体2との間での成膜材料の飛翔状況を観察する観察手段11と、を有してなる。 (もっと読む)


【課題】露光マスク数を削減することでフォトリソグラフィ工程を簡略化し、酸化物半導体を有する半導体装置を低コストで生産性よく作製することを課題の一とする。
【解決手段】チャネルエッチ構造の逆スタガ型薄膜トランジスタを有する半導体装置の作製方法において、透過した光が複数の強度となる露光マスクである多階調マスクによって形成されたマスク層を用いて酸化物半導体膜及び導電膜のエッチング工程を行う。エッチング工程において、第1のエッチング工程は、エッチング液によるウエットエッチングを用い、第2のエッチング工程はエッチングガスによるドライエッチングを用いる。 (もっと読む)


【課題】ノズルでの蒸着物質の凝縮を防止することができる蒸発源を提供する。
【解決手段】蒸着物質が位置し、一部分が開口された蒸着物質貯蔵部と、開口された部分に連結され、蒸着物質を噴射するための開口部を有するノズル部30と、ノズル部30の少なくとも一部の角部を取り囲む反射板50と、蒸着物質貯蔵部を取り囲むハウジング60と、ハウジング60と蒸着物質貯蔵部との間に介在される加熱部と、を含む蒸発源100と、基板を支持するチャンバーとを含む。 (もっと読む)


【課題】基板内の成膜のカバレッジ性を改善することができ、異物があった場合においても、この異物に起因する欠陥部が生じる虞が無く、外部からの酸素や水分の進入を防止することができ、薄膜の信頼性を確保することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】基板Wを収納する真空容器と、この真空容器内かつ基板Wに対向して配設される複数対のハース4A、4B、5A、5Bと、これらのハース4A、4B、5A、5Bにプラズマビームを照射するプラズマガン6、7とを備え、ハース4A、4Bとハース5A、5Bとを時系列的に切り替えることにより、基板W上に成膜を行う。 (もっと読む)


【課題】有機EL層への異物の混入や損傷を阻止することができ、しかも製造コストの点で優れた有機EL素子の製造方法及び有機EL層の転写装置を提供する。
【解決手段】本発明の有機EL素子300の製造方法は、転写基板615上に有機EL層330を形成する有機EL層形成工程と、有機EL層形成工程で有機EL層330を形成した転写基板615の有機EL層側に被転写基板624を重ね合わせて輻射線を照射することにより有機EL層330を転写基板615から被転写基板624に転写する有機EL層転写工程と、有機EL層転写工程で有機EL層330を被転写基板624に転写した後の転写基板200に残った残渣を輻射線を照射することにより除去する残渣除去工程と、を備える。有機EL層形成工程、有機EL層転写工程、及び残渣除去工程はいずれも真空中で行われる。 (もっと読む)


【課題】成膜する際に、スプラッシュの原因となる蒸着源にて発生する粒子を速やかに取
り除くことにより、スプラッシュに起因する欠陥等の不具合が生じる虞の無い薄膜を成膜
することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】基板Wを収納する真空容器2と、真空容器2内の側壁かつ基板Wの成膜面の
下方に配設され蒸着材料を収納する有底筒状のハース4と、このハース4に収納された蒸
着材料を加熱するプラズマガン5とを備え、このハース4はプラズマガン5と対向して配
置され、このハース4の軸線L1は、基板Wの成膜面の垂線L2と略直交している。 (もっと読む)


【課題】少ない工程でより性能の高い有機EL素子を製造することが可能な製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】有機EL素子パネル500の製造装置80は、各層の成膜を行う複数の蒸着室12乃至15及び22乃至25を備える。蒸着室12乃至15及び22乃至25の外部には、蒸着物56の膜厚を計測するエリプソメータ70がそれぞれ設けられる。蒸着室12のエリプソメータ70により計測した膜厚が、予め設定された膜厚となった場合、真空搬送用ロボット11は次段階に設けられる蒸着室13へ蒸着物56が蒸着されたガラス基板51を搬送する。 (もっと読む)


【課題】蒸着材料が劣化しにくい真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明の真空蒸着装置1は、真空槽11とボックス21とを有しており、真空槽11はボックス21に通路14を介して接続されている。交換用の蒸着容器31bは内部空間が蓋33で密閉されている。蓋33は、蒸着容器31bをボックス21内部に搬入し、該内部空間が不活性ガスで置換されてから開けられるので、有機材料32が劣化しない。蒸着容器31bはボックス21に挿入されたグローブ36で把持され、真空槽11内部を移動する。 (もっと読む)


粒子材料を計量し、気化するための装置が、計量デバイスであって、粒子材料を受け取るための貯蔵室と、内部容積を有し、第1の開口部254及び第2の開口部200を有するハウジングと、内部容積内に配置され、滑らかな表面と、外周溝275とを有する回転可能シャフト270と、貯蔵室内に配置され、粒子材料を流動化して該粒子材料を貯蔵室から外周溝内に移送するために回転可能シャフトと協働する、複数の棒295を有する回転アジテーター290とを備え、粒子材料が溝によって移送されるように協働し、スクレーパー280が、その中に保持される粒子材料を取り除き、計量された量の粒子材料を第2の開口部を通して送達するように溝と協働し、回転可能シャフト及びスクレーパーは粒子材料を第2の開口部において流動化するように協働する、計量デバイスと、受け取った粒子材料をフラッシュ蒸発させるフラッシュ蒸発器とを備える。
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本発明は蒸着物質供給装置およびこれを備えた基板処理装置に係り、さらに詳しくは、有機物質が大容量で充填されて変質なしに保管されると共に、所望の量だけ有機物質を気化させて基板に供給することのできる蒸着物質供給装置およびこれを備えた基板処理装置に関する。
本発明に係る蒸着物質供給装置は、内部に原料物質が充填される貯留空間および原料物質が気化される気化空間が連通状に形成される坩堝と、前記坩堝に充填された原料物質を貯留空間から気化空間に連続的に又は周期的に搬送する搬送ユニットと、前記坩堝に形成される気化空間の外側に配設されて原料物質を気化させる熱を供給する発熱ユニットと、を備える。また、本発明に係る蒸着物質供給装置は、前記坩堝に形成される貯留空間の外側に配設されて前記貯留空間に貯留された原料物質の熱変質を防止する冷却ユニットをさらに備える。 (もっと読む)


粒子材料を計量し、気化するための装置190が、粒子材料を計量するための計量デバイスであって、粒子材料を受け取るための貯蔵室230と、第1の開口部及び第2の開口部を有するハウジング240と、内部容積250内に配置され、滑らかな表面と、外周溝とを有する回転シャフト270と、貯蔵室内に配置され、粒子材料を流動化し、該粒子材料を貯蔵室から外周溝内に移送するために回転可能シャフトと協働する、複数の棒を有する回転するアジテーター290とを備え、粒子材料が溝によって移送されるように協働し、スクレーパーが、その中に保持される粒子材料を取り除き、計量された量の粒子材料を、前記第2の開口部を通して送達するように溝と協働し、構造が、第2の開口部において粒子材料を流動化する、計量デバイスと、計量された粒子材料を受け取り、フラッシュ蒸発させるフラッシュ蒸発器210とを備える。
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【課題】ルツボの有機材料への水分の混入を抑えるとともに、成膜時の成膜レートや圧力等の安定性を向上させる。
【解決手段】成膜室2の前段に設けられた材料前処理室1において、ルツボ4にて昇華精製された有機材料を前処理ヒーター6によって加熱し、水分量を低減した環境で溶融して固化させる。この材料前処理工程で、ルツボ4の有機材料から水分を除去するとともに、有機材料の材料充填率を高めて、成膜室2における成膜の安定性を向上させる。 (もっと読む)


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