【課題】 各種光学部材などの被処理基材の表面を前処理を行うことによって、耐防汚性、耐擦傷性、耐溶剤性等に優れた防汚層を短時間に形成することが叫ばれており、この課題の解決を目的とする。
【解決手段】 被処理基材上の少なくとも片面に、防汚剤を用いて防汚層を形成する方法であって、前記防汚層を形成する前に、前記被処理基材上の少なくとも片面を前処理し、この前処理した表面に防汚層を成膜する方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 硬化手段を塗装工程の内部に取り込んで、塗膜層に液だれを生じさせることなく、要スペースも少なく工程時間も短縮できるトラバース塗装工程における連続硬化方法を提供する。
【解決手段】 回転する導電性ローラ１（またはエンドレスベルト）の基体部５の表面に塗料を塗布するトラバース塗装方法において、塗装工程の直後に紫外線あるいは電子線を前記ローラ１の塗膜層４にトラバース照射し、前記照射手段１８とローラ１とを軸方向に相対移動させて前記塗装と硬化を連続して行うことにより、トラバース塗装方法の利点を活かして、塗装コーター１０と紫外線照射手段１８等とを併設し、塗装された塗膜層４の表面が、その後の紫外線等の照射により、即座に均一かつ効果的に硬化されて、液だれを生じることなく、要スペースも少なく工程時間も短縮できて品質が向上する。 （もっと読む）

コーティングシステムによって基材をコーティングする方法が記載されている。この方法においてコーティングシステムは少なくとも２つのコーティング層を有し、これらコーティング層は連続して基材に塗布される。このとき塗布されている前記コーティング層の表面に、前記少なくとも２つのコーティング層のうちの少なくとも１つを塗布した後にコ−ティング強化剤が塗布される。本発明の方法によりコーティングシステムによる基材の簡単なコーティングが可能となり、それによってコーティングシステムは少なくとも領域として機械的な耐荷力が向上し、そのために例えば機械的な安定性が向上した接着箇所を製造することができる。さらに、このようなコーティングシステムによってコーティングされた基材、このようなコーティングシステムに接着を行う方法、接着結合部、接着のための混合物の使用、及び後硬化された領域を備えた多層のコーティング層が提案される。 （もっと読む）

転写印刷で作成される化粧箔を提供する。化粧箔の構造は、プライマ層の上に化粧層、更に当該化粧層の表面を覆うように塗布後硬化して形成された熱または放射線による硬化性樹脂層を有するものであり、上記化粧層は、スパッタリング法等で形成された金属薄膜層を有するものである。
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【課題】 比誘電率が３．０以下と小さく、しかもリーク電流量の少ない非晶質シリカ系被膜を形成するための塗布液およびその調整方法に関する。
【解決手段】 （ａ）テトラアルキルオルソシリケート(TAOS)およびアルコキシシラン(AS)をテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド（TAAOH）および水の存在下で加水分解して得られるケイ素化合物、またはテトラアルキルオルソシリケート(TAOS)をテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド（TAAOH）および水の存在下で加水分解または部分加水分解した後、アルコキシシラン(AS)またはその加水分解物もしくは部分加水分解物と混合し、さらに必要に応じてこれらの一部または全部を加水分解して得られるケイ素化合物、（ｂ）有機溶媒、および（ｃ）水を含む液状組成物であり、しかも該液状組成物中に含まれる水の量が３０〜６０重量％の範囲にあることを特徴とする低誘電率非晶質シリカ系被膜形成用塗布液。 （もっと読む）

本発明は、サイズがより小さく、より高い効率で作業する粒子線処理装置に関し、そしてまた、処理可能な材料から成る基材上のコーティングを処理するために、例えばフレキシブル包装のためにこのような装置を使用することに関する。処理装置は、粒子線生成アセンブリとフォイル・サポート・アセンブリと処理アセンブリとを含む。粒子線生成アセンブリにおいて、電子を生成し加速することにより、電子がフォイル・サポート・アセンブリを通過するようにする。フレキシブル包装用途において、低電圧、例えば110kボルト以下で操作する処理装置に基材を供給し、そして、加速粒子に対して暴露することにより、基材上のコーティングを処理する。
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【課題】無溶剤型の電離放射線硬化型塗工剤から形成されるトップコート層を有する耐擦傷性艶消し化粧材の好適な製造方法を提供する。
【解決手段】トップコート層がシリカを含む電離放射線硬化型樹脂からなる耐擦傷性艶消し化粧材の製造方法であって、
（１）有機溶剤を含まずシリカ及び光重合開始剤を含む電離放射線硬化型塗工剤を、基材上にシリカの粒子径を超える厚みとなるように塗工し、次いで
（２）紫外線照射により電離放射線硬化型樹脂を半硬化させた後、電子線照射により該樹脂をトップコート層に要求される硬度となるまで完全硬化させる
ことを特徴とする製造方法。 （もっと読む）

少なくとも１つのアルファ，ベータ−エチレン性不飽和の放射線重合可能な二重結合を有する水溶性化合物、および水を本質的な成分として含む、化学線硬化可能な均質な水性組成物から、耐溶剤性の抽出可能物質の少ないフィルムを製造する方法。 （もっと読む）

本発明は、ａ）低温プラズマ、コロナ放電、強烈な照射および／または火炎処理を無機または有機基材上に作用させ、ｂ）１）活性化可能な開始剤１種以上、または２）活性化可能な開始剤１種以上とエチレン性不飽和化合物１種以上を、溶融物、溶液、懸濁液またはエマルションの形態で、無機または有機基材に適用し、これにより、処理した基材の望ましい表面特性を調整する機能調整基１種以上を、活性化可能な開始剤および／またはエチレン性不飽和の化合物に組み入れ、次いでｃ）被覆した基材を加熱および／または電磁波照射して、基材がこれにより望ましい表面特性を得る、無機または有機基材上に機能層を形成する方法に関する。本発明は、この方法にしたがって被覆した基材、およびこの基材の使用にも関する。 （もっと読む）

酸化法を使用してシリコーンへの接着剤の塗布を可能にする。この方法は、制御され、シリコーン構造への選択的酸化処理を可能にし、管状構造の内側への処理を可能にする。
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【課題】 被塗布物に対して吹き付けによって強固で、かつムラなく均一なバリアー膜をローコストに形成可能なバリアー膜形成方法およびバリアー膜形成装置を提供する。
【解決手段】 乾燥前の被塗布物２の表面に塗布された塗布液に塗布ムラがあったり、一部が途切れていても、マイクロウェーブを照射することによって、被塗布物２の表面に塗布された塗布液を均一化させるので、被塗布物２の表面に厚みムラや孔などの無い、均一化された強固なバリアー膜３５を形成することが可能になる。被塗布物２の表面にはガスバリアー性に優れた強固なバリアー膜３５が形成される。 （もっと読む）

【課題】 耐帯電性に優れた帯電防止剤を提供する。
【解決手段】１分子内に平均１個以上のラジカル重合性不飽和基と親水性及び／又は加水分解により親水性となる親水性基とを含有する不飽和樹脂を含有する活性エネルギー線硬化型樹脂組成物及び酸化亜鉛を主成分とする複合微粒子であって平均一次粒子径０．２μｍ以下の導電性微粒子を必須成分として含有することを特徴とする帯電防止剤及び帯電防止剤を塗装し、次いで活性エネルギー線照射により硬化させることを特徴とする帯電防止膜形成方法。 （もっと読む）

【目的】 本発明は、従来よりも塗布液の蒸発速度の場所による偏りをなくすことができ、且つ乾燥中の溶質の移動による塗布膜厚の偏りもなくすことができるための塗布膜形成方法及び塗布膜加熱乾燥装置を提供する。
【構成】 本発明は、基板に塗布液を塗布し加熱乾燥させ、塗布膜を形成する塗布膜形成方法において、該塗布液が少なくとも溶質を含む親油成分と親水性溶媒からなるエマルジョンであり前記加熱乾燥させる工程が、親水性溶媒を選択的に加熱して乾燥を行う工程を有することを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】 高解像度で、断線がなく、更に、耐久性に優れる導電性パターンを備えた導電性パターン材料の製造方法を提供すること。
【解決手段】 基材上に、導電性粒子と相互作用しうる官能基及び架橋性官能基を有するグラフトポリマーをパターン状に直接結合させる工程と、
該グラフトポリマーが有する導電性粒子と相互作用しうる官能基に、導電性粒子を吸着させて導電性粒子吸着層を形成する工程と、
該導電性粒子吸着層にエネルギーを付与することにより、該導電性粒子吸着層中に架橋構造を形成する工程と、
を有することを特徴とする導電性パターン材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ナーリンク処理と同等な効果を低価格で極めて安価な基材に対しても適用できる方法および基材を提供するばかりではなく、通常のオフライン成膜においても最適化されたインライン成膜と同等な効果をもたらことが可能な基材を提供することを目的とする。
【解決手段】高分子樹脂基材の両端部に真空中で（メタ）アクリル化合物を凝集させた後、電子線あるいはプラズマを照射し、上記アクリル化合物を硬化させ活性エネルギー線硬化樹脂層を形成した保護フィルムの形成方法などを提供する。 （もっと読む）

【課題】 基板上に塗布された金属微粒子塗布層に対して、低温加熱焼結を施して金属微粒子焼結体層を形成する際、利用される加熱処理温度を少なくとも２００℃を超えない範囲として、良好な導電性を示す金属微粒子焼結体を簡便に、高い再現性で作製可能な方法の提供。
【解決手段】 塗布層中に含まれる、表面被覆分子層を備えた金属微粒子から、表面の被覆分子を除去した後、金属微粒子を低温加熱焼結する際、塗布層表面からエネルギー線を照射した後、１５０℃以下の低温で加熱処理を施すことにより、表面の被覆分子の除去を促進し、金属微粒子の焼結自体もかかる低温加熱で速やかに進行し、良好な導電性を示す金属微粒子焼結体が形成される。 （もっと読む）

無機または有機基材表面への紫外線吸収剤層の形成方法が記載されている。
その方法は、
ａ）低温プラズマ、コロナ放電または高エネルギー放射を、無機または有機基材表面に作用させ、
ｂ）処理された無機または有機基材に、少なくとも１種のフリーラジカル形成性開始剤と、１個以上のエチレン性不飽和基を含む少なくとも１種の紫外線吸収剤と、場合により、溶融物、溶液、懸濁液または乳濁液の形態で、少なくとも１種の相乗剤および／または少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物を適用し、
ｃ）被覆された基材を加熱するか、および／またはそれに電磁波を照射する、
ことを含む。
本発明はまた、その方法によって紫外線吸収剤層を付与された基材に関する。その方法は、実質的に、真空条件および過度な熱ストレスまたはエネルギーストレス、ならびにまた、紫外線吸収剤の分解を伴わない。良好に接着している、澄んだ、透明な紫外線吸収剤層が形成され、その特性、例えば光学濃度は、有利に調節可能である。 （もっと読む）

本発明は、種々の組成物のナノ構造化された及びナノ多孔質の薄フィルム構造物の製造方法を含む。これらのフィルムは、直接パターン化されてよい。これらの方法において、先駆物質フィルムは、表面に付着され、またこの先駆物質フィルムの異なる成分は、選択条件下で反応し、ナノ構造化された又はナノ多孔質のフィルムを形成する。そのようなフィルムを種々の用途、例えば低κ誘電体、センサー、触媒、導線又は磁性フィルムに使用し得る。ナノ構造化されたフィルムは、次のように作られ得る。（１）一種の先駆物質成分及び二種の反応の使用（２）光化学変換の異なる速度に基づく２種以上の成分の使用（３）一つの先駆物質の熱感受性及び他方の光化学感受性に基づく２種の先駆物質の使用、及び（４）先駆物質フィルムの光化学反応及びほとんど未反応の成分のフィルムからの選択された除去による。 （もっと読む）

【課題】汚染除去性に優れる被膜を基材表面に形成した防汚性基材、及びこの防汚性基材を一工程で、かつ、省スペースで製造可能な製造方法を提供すること。
【解決手段】合成樹脂組成物からなる基材と、この基材の表面に被覆された被覆層とを備え、被覆層が、光硬化性樹脂と、光重合開始剤と、撥水撥油剤を含有する光硬化性樹脂組成物から形成された防汚性基材を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】多孔質インクジェット記録材料の製造時に高温高速乾燥によるひび割れ等の故障を生じないインクジェット記録材料の製造方法を提供することである。
【解決手段】少なくとも無機微粒子とアセトアセチル基を有するポリマーを含有している水溶液であるインク受容層用塗液を支持体に塗布し、乾燥前に該水溶液を電子線照射することを特徴とするインクジェット記録材料の製造方法。 （もっと読む）