本発明は、人体以外の材料の処理のための方法に関し、処理される前記材料を、a）ジアンヒドロヘキシトールエーテル、好ましくはジメチルイソソルビドから選択される少なくとも1つの化合物A；並びにb）アルカリ剤、酸性剤、並びに25℃において液体であるイソステアリルアルコール以外の脂肪アルコール、非脂肪アルコール、テルペン系化合物、アルデヒド、ケトン、フッ素化化合物、イオウ化合物、エーテル、エステル、及び超臨界流体の中から選択される可溶化剤から選択される少なくとも1つの化合物Bを含む組成物と混合または接触させる。 （もっと読む）

【課題】 グラファイトフィルムを熱伝導シートとして利用する際の、（１）電気絶縁性の付与、（２）グラファイトの粉落ち防止、（３）グラファイトとの他の基材との接着・粘着、と言う課題を解決する。
【解決手段】 グラファイトフィルムと粘着性樹脂組成物からなり、該樹脂組成物として反応硬化型ポリエーテル系重合体を用いて複合熱伝導シートとする。前記反応硬化型ポリエーテル系重合体が、架橋性シリル基、アルケニル基、水酸基、アミノ基、重合性の炭素−炭素二重結合を有する基、エポキシ基の群から選ばれる基を１分子あたり少なくとも１個以上、分子中に有するポリエーテル系重合体である事を特徴とする （もっと読む）

【課題】複数の処理液供給ノズルを一体に設けたノズルユニットを用いて基板例えば半導体ウエハへの処理液の供給を行うにあたり、ノズルユニットの大型化を抑えて各処理液供給ノズル内の処理液の乾燥を防止すること。
【解決手段】ノズルユニットの、一の処理液供給ノズル４Ａの先端内部の処理液層７１の外側に空気層７３と処理液の溶剤層７４とを形成する。次いで前記処理液供給ノズル４Ａの前記溶剤層７４を待機ユニットの液排出部に排出し、次いでこのノズル４ＡからウエハＷ表面に処理液を供給して塗布処理を行う。この後ノズル４Ａ内に残存する処理液を吸引し、次いでノズルユニットのノズル４Ａの先端を、待機ユニット６の溶剤貯留部６１Ａの溶剤内部に浸漬し、前記一のノズル４Ａを吸引することにより、当該ノズル４Ａの先端内部の処理液層７１の外側に空気層７３と溶剤層７４とを形成する。 （もっと読む）

【課題】 エアロゾル内における微粒子の粒径分布及び濃度を均一化する。
【解決手段】 ターゲット材料Ｔをレーザー照射によりアブレーションすることで微粒子ｓを生成し、生成した微粒子ｓをキャリアガスＧ中に分散させてエアロゾル化し、このエアロゾルＡを基材Ｂに吹き付けることによって、微粒子ｓが衝突した基材表面に構造物を形成する。 （もっと読む）

【課題】 低誘電率かつ高膜強度な絶縁膜及びその効率的な製造方法、該絶縁膜を用いた電子装置の提供。
【解決手段】 中心部に空隙を有する炭素系中空構造体が、Ｓｉ原子及びＯ原子の少なくともいずれかを介して連結されてなる網目状構造物を含むことを特徴とする絶縁膜である。前記炭素系中空構造体がフラーレン及びカーボンナノチューブの少なくともいずれかである態様、連結が化学結合により行われる態様、などが好ましい。前記絶縁膜を少なくとも有してなることを特徴とする電子装置である。該電子装置は、絶縁膜を層間絶縁膜として有する態様が好ましい。 （もっと読む）

本発明は、
（ａ）湿気架橋性ポリウレタン系放射線硬化性溶融体の層を、物体の表面の少なくとも一部分に適用する工程；および
（ｂ）溶融体層に放射線照射する工程
を含む、物体の表面の少なくとも一部分のシーリング方法に関する。本発明は、さらに、このようにしてシールされた物体の表面、また、表面にシールするための上記溶融体の使用に関する。 （もっと読む）

【課題】撥水性および防汚染性コーティングならびにその付与方法を提供する。
【解決手段】官能化シランを有するフッ素化アルキルエーテルポリマーを含む撥水性および防汚染性コーティングが、非酸化物表面に塗布される。有利なことに、本発明はプライマー層の必要なしに、ＭｇＦ_２のような比較的不活性な表面用の耐久性のある撥水性および防汚染性コーティングを提供する。 （もっと読む）

【課題】 断熱材からの無機繊維の飛散を抑制・防止するとともに、平滑性、難燃性や造膜性などに優れた表面加工処理技術を提供することにある。
【解決手段】 ロックウールやガラスウール等の低密度繊維集合体表面に対し、硝酸カルシウムと水を主成分とする凝固剤組成物を塗布した後に、ラテックス組成物を塗布し、加熱乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】柔らかい材質の粉末コーティング時にノズルが塞がる現象を最少化し、高硬度材質の粉末コーティング時にノズルの摩耗を防止することができて、ノズルを長時間使用できるので大量生産への適用が容易であり、長時間高品質のコーティングを実施できるコールドスプレー用ノズル及びこれを利用したコールドスプレー装置を提供する。
【解決手段】コールドスプレー用ノズル及びこれを利用したコールドスプレー装置は、断面積が収斂する収斂引入部２と、前記収斂引入部の収斂端部に連結されるスロート部４と、前記スロート部の端部に連結される出口部６とからなる中空型のノズル部１０及び前記収斂引入部の内部に位置し、その端部噴射口１２が前記スロート部またはこれを過ぎた出口部内に位置するように配置される噴射チューブ２０を含み、前記出口部での粉末の出口端流速が３００〜１，２００ｍ／ｓになるようにする。 （もっと読む）

【課題】 有機材料膜を、比較的短時間で、しかも、簡単な構成により、無機材料により構成される基材表面に形成する方法を提供する。
【解決手段】 無機材料により構成される基材表面を、酸化処理してから、真空雰囲気下においてシランカップリング剤蒸気に晒し、その後、前記基材表面に有機材料膜を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 シロキサン及びシラノール塩多分子量溶液を噴散し加熱発泡させ、且その加熱融着性で被着面に融着塗着形成させる無機質発泡層の塗着形成方法を提供する。
【解決手段】 固形分が２０乃至３５重量％、水分が６５乃至８０重量％で分子量が４，０００乃至８，０００のシロキサン及びシラノール塩多分子量溶液を、３００℃以上に加熱且加圧された加熱加圧空気と混合し、所要孔径のオリフィスより噴散させ所要粒径に加熱発泡させ且その加熱融着性により被着面に融着塗着させ無機質発泡層を塗着形成させる。 （もっと読む）

【課題】 液体プロセスによる微細パターンの薄膜の形成を確実に行うことが可能な機能性基板を提供すること、当該機能性基板の製造方法を提供すること、所望のパターンの薄膜を確実に形成することが可能な微細パターンの形成方法を提供すること、断線、短絡等のない微細なパターンの導電膜配線を提供すること、当該導電膜配線を備えた電子光学装置、電子機器を提供すること。
【解決手段】 本発明の機能性基板の製造方法は、基板本体に第１の処理を施す第１の工程と、第１の処理が施された基板本体上に自己組織化膜を形成する第２の工程とを備え、自己組織化膜の所定の液滴に対する後退接触角をＡ［°］、自己組織化膜の前記液滴に対する前進接触角をＢ［°］としたとき、Ａ／Ｂ≦０．６０の関係を満足するように、第１の処理の処理条件および自己組織化膜の形成条件を設定することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 種々の官能基の導入が容易なシリコン表面修飾方法を提供する。
【解決手段】 表面に水素終端化されたシリコン層をもつシリコン基板を有機反応液に浸漬して攪拌する。その有機反応液は電子吸引性又は共役系置換基をもって不飽和結合部分が活性化されたアルキンを含む液であり、反応工程では有機反応液にエネルギー源としての光照射を行なわない。好ましくは、反応工程は有機反応液を加熱しないで室温にて行なう。 （もっと読む）

一般式
【化１】


のポリマーにつき開示し、
式中Ｒ_１（同一もしくは互いに異なる）は水素またはメチル基を示し、Ｘ_１およびＸ_２＝−Ｏ−、−Ｓ−もしくは−ＮＨ−であると共に、Ｘ_１はＲ_２における第１原子がＣ原子でなく、Ｒ_２が下記するラジカルの１種であれば更に単結合を意味する；
（ａ）少なくとも２個の構造単位−（−Ｏ−Ｃ_２Ｈ_４）_ｎ−（エチレンオキシド＝ＥＯ）および−（−Ｏ−Ｃ_３Ｈ_６−）_ｎ−（プロピレンオキシド＝ＰＯ）もしくは−（−Ｏ−Ｃ_４Ｈ_８）_ｎ−（ブチレンオキシド＝ＢｕＯ）および−（−Ｏ−ＣＨ_２−）_ｎ−（メチレンオキシド＝ＭｅＯ）を５〜９５：９５〜５のモル比（ここでｎ（各構造単位につき同一もしくは互いに異なる）は約１〜１０００である）を含有するコポリマーラジカル（Ｃｏｐ）；
（ｂ）
【化２】


［式中、Ｃｏｐは（ａ）に規定したようなコポリマーラジカルを意味し、ｘ＝１〜５であると共にｙ＝１〜２０である］；
（ｃ）
【化３】


［式中、Ｒはアルキル基を意味し、ｒ＝同一もしくは互いに異なる）１〜１０００であり、ｓ＝１〜５００である］；
（ｄ）
【化４】


［式中、ｏ＝１０〜４０００であり、Ｒ_３（同一もしくは互いに異なる）は水素または１〜５個の炭素原子を有するアルキル基を意味する］；
（ｅ）
【化５】


［式中、ｐ＝５〜２０００である］；または
（ｆ）
【化６】


［式中、ｑ＝１０〜４０００である］。
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【課題】 本発明の目的は、塗布法により形成される有機半導体層のキャリア移動度の向上させることであり、また、有機半導体層薄膜の繰り返し使用（測定）時の特性変動抑制、又閾値の低下、更には基板上における有機半導体薄膜の成膜性の向上にある。
【解決手段】 基板上に有機半導体材料を含有する溶液を供給した後、有機半導体材料を含有する該溶液を冷却することにより、基板表面に有機半導体材料を析出させることを特徴とする有機半導体層の形成方法。 （もっと読む）

【課題】 ＡＤ法を用いて、高温プロセスを経ることなく結晶性の良い膜を作製できるセラミックス膜の製造方法等を提供する。
【解決手段】 この製造方法は、エアロゾルを利用したセラミックス膜の製造方法であって、非結晶性の成分を含有するセラミックス原料粉をガスに分散させることによってエアロゾルを生成する工程（ａ）と、工程（ａ）において生成されたエアロゾルを基板が配置されたチャンバ内に供給して、上記セラミックス原料粉を基板に堆積させることにより膜を形成する工程（ｂ）とを含む。 （もっと読む）

【課題】新しいバッフルとその使用法を提案する。
【解決手段】バッフルは、組成物の流れを基板（シリコンウエハなど）のエッジに向けて案内するように構成されるエッジ壁を有する本体を備える。エッジ壁は垂直面と、垂直面に連結される湾曲側壁と、湾曲側壁に連結されるリップとを備える。好ましいバッフルは形状が環状であり、合成樹脂組成物から形成される。バッフルは金属で形成されていないことが更に好ましい。本発明の方法は、バッフルを基板に隣接して位置決めし、スピンコート処理時に、エッジ壁によって組成物が基板のエッジと好ましくは基板の後側の一部とを被覆するようにすることを含む。 （もっと読む）

【課題】フルオロオレフィンと反応性シリコーンとを必須成分とする含フッ素共重合体に基く塗料組成物から形成される塗膜の特性、殊に撥水撥油性を改善すること。
【解決手段】フルオロオレフィンと反応性シリコーンとを必須成分とするシリコーン含有フッ素系共重合体又はそれを含む組成物を用いて基材上に硬化反応を経て形成される塗膜であって、Ｘ線光電子分光法により測定したときに塗膜表面に存在するＳｉ原子の原子数が２〜３０ａｔｏｍｉｃ％であるか、又は該存在Ｓｉ原子に加えてＦ原子が２〜３２ａｔｏｍｉｃ％であることを特徴とする、防汚性、撥水撥油性、耐薬品性、耐候性等に優れた塗膜。 （もっと読む）

この発明は、表面が少なくとも部分的に封止された物体およびその封止方法に関し、封止層は反応性溶融層とコーティング層とを備える。 （もっと読む）

本発明は、無機又は有機基材上への強接着性コーティングの製造方法であって、第一の工程ａ）において、低温プラズマ、コロナ放電、又は火炎を、無機又は有機基材上に作用させ、第二の工程ｂ）において、１種以上の定義された光開始剤、又は定義された光開始剤と少なくとも１個のエチレン性不飽和基を含有するモノマーとの混合物、あるいは前述の物質の溶液、懸濁液、又はエマルションを、好ましくは常圧で、無機又は有機基材に塗布し、第三の工程ｃ）において、適切な方法を用いて、これら前述の物質を乾燥するか、かつ／又は電磁波を照射し、そして場合により、第四の工程ｄ）において、そのように前処理した基材上に更なるコーティングを塗布する方法に関する。 （もっと読む）