【課題】液状樹脂の廃棄を少なくして、樹脂膜の形成コストを低減すること。
【解決手段】本発明の樹脂膜形成装置（２）は、ウェーハ（Ｗ）を保持する吸着面（６１）を囲むように環状凸部（６５）が設けられた成膜用テーブル（２２）と、成膜用テーブル（２２）の環状凸部（６５）に当接して、ウェーハ（Ｗ）上方に液密な空間（Ｓ）を形成する塗布部（２３）とを備え、塗布部（２３）には、液密な空間に液状樹脂を供給する供給口（７４）と、ウェーハ（Ｗ）の外周側に対向する位置において液密な空間（Ｓ）内を吸引する吸引溝（７６）とが形成され、成膜用テーブル（２２）と塗布部（２３）とを相対的にスライドさせる構成にした。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストの消耗量が節減されるノズルユニット、基板処理装置、及び基板処理方法が提供される。
【解決手段】本発明による基板処理装置は、基板を支持するプレートと、前記プレートに支持された前記基板に薬液を塗布するノズルユニットと、前記プレートに置かれる基板と前記ノズルユニットとの間の相対位置が変更されるように前記基板又は前記ノズルユニットを移動させる駆動ユニットと、を含む。前記ノズルユニットは、横方向が第１方向に沿って形成され、前記基板に第１薬液を吐出する第１吐出部と、横方向が前記第１方向に沿って形成され、前記基板に第２薬液を吐出する第２吐出部と、を含む。 （もっと読む）

【課題】高粘度の塗布液を、無駄なく均一に基板上に塗布する。
【解決手段】レジスト塗布装置１の塗布ノズル３３は、その内部にレジスト液Ｒを貯留する貯留室６２が形成された本体部６０と、本体部６０の下面に形成され、レジスト液Ｒの表面張力によりその先端にレジスト液の液溜りを形成するスリット状の吐出口６１と、貯留室６２と吐出口６１とに連通するレジスト液流路６３と、を備え、レジスト塗布装置１は、塗布ノズル３３とウェハとを相対的に上下方向及び水平方向移動させる移動機構と、前記貯留室内部の圧力を調整する圧力調整機構７１と、を有している。圧力調整機構７１は、塗布ノズル３３とウェハとを相対的に移動させてウェハにレジスト液Ｒを塗布する間、吐出口６１からのレジスト液Ｒの吐出量が一定となるように、貯留室６２内部の圧力を調整し、且つ負圧に維持する。 （もっと読む）

【課題】インクジェットヘッドのノズルから塗布液を吐出して塗布液の塗膜を形成しつつ、塗布液の塗膜の表面をより平滑にすることができる塗布方法および塗布装置を提供する。
【解決手段】インクジェットヘッドに設けられる複数のノズルから塗布液の液滴を基板Ｗに吐出させ、基板Ｗの周縁部における膜厚に比べて基板Ｗの中央部における膜厚が厚い塗布液の塗膜Ｆを形成する工程と、基板Ｗを回転させて基板Ｗの中央部から周縁部に向けて塗膜Ｆ内の塗布液を移動させる工程と、を備える塗布方法である。塗膜Ｆ内の塗布液を移動させる工程では、塗膜Ｆを形成している基板Ｗ上の塗布液は基板Ｗの中央部から周縁部に向かって移動するので、基板の中央部と基板の周縁部との間で塗膜の膜厚の差が減少し、塗膜の膜厚を略均一にすることができる。同時に、塗膜Ｆ内の塗布液が動くことによって、塗膜Ｆの表面をより平滑にすることができる。 （もっと読む）

【課題】気泡を含む液体が基板などの対象物に供給されることを抑制または防止できるスリットノズルおよびこれを備えた基板処理装置を提供すること。
【解決手段】スリットノズル１１は、長手方向Ｘ１に延びるスリット状の吐出口５４が形成された吐出部４５と、吐出口５４に供給される液体が流通する液体流路５５が形成された供給部４３と、液体流路５５を上流側と下流側とに仕切っており、上流側と下流側とを接続する複数の第１接続路６４が形成された第１拡散板４７とを含む。 （もっと読む）

【課題】液膜の幅を安定させることができるスリットノズルおよびこれを備えた基板処理装置を提供すること。
【解決手段】スリットノズル１１は、長手方向Ｘ１に延びるスリット状の吐出口５４が形成された吐出部４５と、吐出口５４の長手方向Ｘ１の両端にそれぞれ配置された一対のガイド部４６とを含む。一対のガイド部４６は、長手方向Ｘ１に間隔を空けて対向する一対のガイド面６６をそれぞれ含む。一対のガイド部４６のそれぞれには、ガイド面６６より凹んだ凹部６８が形成されている。 （もっと読む）

【課題】 基板の周辺領域にレジスト等の樹脂膜を効率良く形成することができ、半導体素子製造におけるスループット向上に寄与する。
【解決手段】 素子形成に供される基板１０上の周辺部に樹脂膜を塗布する塗布装置であって、基板１０が載置され、少なくとも１８０度回転可能な回転テーブル３２と、基板１０の中心を通る第１の方向（Ｘ方向）軸で２分割された第１の基板周辺領域及び第２の基板周辺領域の一方に相当する円弧に沿って樹脂を吐出するための複数のノズルを配置してなり、該ノズルが基板１０の周辺領域に対向するように設置される樹脂膜形成ヘッド部５０と、基板１０と樹脂膜形成ヘッド部５０を相対的に、第１の方向とは直交する第２の方向（Ｙ方向）に移動させる移動機構４５とを備えた。 （もっと読む）

【課題】被加工物の異なる領域にそれぞれ異なる液状樹脂を被覆することができる保護膜形成装置を提供する。
【解決手段】保護膜形成装置であって、被加工物保持手段と、被加工物に第１の液状樹脂を微細粒子として噴射する第１の液状樹脂噴射手段７０ａおよび第２の液状樹脂を微細粒子として噴射する第２の液状樹脂噴射手段７０ｂと、液状樹脂噴射手段７０と被加工物保持手段を相対的に加工送り方向（X軸方向）に移動せしめる加工送り手段と、X軸方向と直交する割り出し送り方向（Y軸方向）に移動せしめる割り出し送り手段と、液状樹脂噴射手段７０と被加工物保持手段との相対位置関係を検出するX軸方向位置検出手段と、Y軸方向に相対移動する液状樹脂噴射手段７０と被加工物保持手段との相対位置関係を検出するY軸方向位置検出手段と、X軸方向位置検出手段およびY軸方向位置検出手段からの検出信号に基いて噴射手段を制御する制御手段とを具備する。 （もっと読む）

【課題】塗布対象物の表面及び裏面に相対位置精度良くパターンを形成する。
【解決手段】塗布装置１は、塗布対象物Ｗの表面Ｗａ及び裏面Ｗｂに液を塗布してパターンを形成する塗布装置であって、液をノズルから吐出する塗布ヘッド４と、塗布対象物Ｗを撮像可能な撮像部６と、塗布ヘッド４のノズルから吐出された液によって塗布対象物Ｗの表面Ｗａに形成されたパターンを撮像部６により撮像した撮像画像に基づいて、塗布対象物Ｗの表面Ｗａに形成されたパターンの位置を検出し、その検出した位置に基づいて塗布ヘッド４による塗布対象物Ｗの裏面Ｗｂに対する液の塗布位置を調整する制御装置９とを備える。 （もっと読む）

【課題】微少量の塗布剤の塗布も可能とする塗布装置を提供する。
【解決手段】シリンジ４２をヘッド２１に接続し、樹脂１１をヘッド２１の貯留空間３１に供給する。圧力制御部５１からのエア圧に応じた予圧を貯留空間３１内の樹脂１１に付与する。ヘッド２１のノズル部２３に小孔部６３とテーパー部６４からなる連通穴６１を設け、小孔部６３は、チップをボンディングする為に十分な樹脂量の樹脂１１を貯留可能とする。ヘッド２１に押出ツール７４を挿通し、前進時に小径部８２に貯留した樹脂１１を押出ツール７４の先端部に付して押し出して、ボンディング箇所１０１に塗布する。 （もっと読む）

【課題】 塗布液の消費を極力抑制しつつ吐出孔からの塗布液の吐出状態の良否を判定し、良好な塗布状態を維持可能な塗布液の塗布装置を提供する。
【解決手段】 塗布ヘッド７の吐出面７ａに一列に配列されて設けられた複数の吐出孔７ｂから、それぞれの吐出孔７ｂに対応して設けられた圧電素子７ｅの駆動によって各吐出孔７ｂから塗布液の液滴を吐出させ基板Ｗ等の塗布対象物上に塗布液を塗布する塗布液の塗布装置において、所定周波数の振動を発生させる発振装置としての超音波発振装置８と、この超音波発振装置８の発振に伴って圧電素子７ｅから出力される出力信号に基づいて吐出孔７ｂからの塗布液の液滴の吐出状態の良否を判定する制御装置１３とを備える。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、基板に均一な厚みの材料層を描画する描画装置および描画方法を提供することにある。
【解決手段】
基板の表面に画定される単位領域ごとに、該単位領域内のうち液状材料を付着させるべき領域が占める面積の割合に基づいて、ノズルヘッドのノズルに印加する電気信号の電圧パルス高さまたは電圧パルス幅の少なくとも一方を制御する。 （もっと読む）

【課題】塗布ロボットを使った液剤塗布において、半導体や医療品、食品対応したクリーンな塗布を可能とする。
【解決手段】液剤塗布装置カバー上部のＨＥＰＡフィルターを設け、塗布ヘッドの下方には塗布部材を水平方向に位置決めるＸ−Ｙテーブル上に塗布部材を載置している。塗布時における塗布対応上下駆動部や、ＸＹテーブルユニットの摺動部や駆動部を塗布面より下方に構成した。 （もっと読む）

【課題】空気浮上搬送方式に好適なスリット状開口部の清浄化機構を備えたスリットコート塗布装置を提供することを課題とした。
【解決手段】エアー噴出装置から噴出するエアーによって浮上した状態でスライダーにより所定方向に移動する基板に対し、スリット状開口部から塗布液を吐出して基板上に塗布層を形成する基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置であって、前記塗布装置は、少なくとも、スリット状の開口部を備える塗布ヘッドと、前記塗布ヘッドを略上下方向に移動させる塗布ヘッド移動機構と、前記エアー噴出装置から噴出するエアーによって浮上した状態でスライダーにより所定方向に移動する拭き取り機構と、を備え、前記拭き取り機構は、ゴムパッドがスリット状の開口部に当接したまま開口部に沿って移動することでスリット状開口部を洗浄する機構である。 （もっと読む）

【課題】液体の吐出精度の低下を抑制できる液滴吐出装置及び印刷装置を提供する。
【解決手段】基材１に対して液体の液滴を吐出する吐出ヘッド４９と、吐出ヘッドを支持して基材に対して、吐出ヘッドと一体的に相対移動する移動体４５と、移動体の相対移動をガイドするガイド部４４と、ガイド部に取り付けられ移動体を支持して移動体と一体的に移動する取付部１７１と、取付部に移動体とは分離して固定された固定部１７２と、固定部に設けられ、吐出ヘッドに供給される液体を貯溜する液体貯溜部１７５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】前処理に用いる光照射部の光量を簡便な構成で効率的に測定することができる印刷装置を提供する。
【解決手段】基材上に液体の液滴を吐出する吐出ヘッドと、吐出ヘッドの液滴吐出動作に先立ち、基材の表面に活性光線を照射して基材の表面に対する所定の処理を行う処理部９と、を備えた印刷装置に関する。処理部９は、同一面内における一方向に沿って配列されて活性光線を照射する複数の照射部３２ａと、複数の照射部３２ａの光量を測定する光量測定部３５と、光量測定部３５を複数の照射部３２ａに対して昇降可能とする昇降機構３６と、を有する。 （もっと読む）

【課題】狭い隙間であっても、容易にメンテナンス作業を実施できる液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】基材に対して所定平面に沿う方向に相対移動して、活性光線で硬化する液体の液滴を吐出する吐出ヘッドと、基材上の液滴に活性光線を照射する照射部４８とを備える。活性光線を透過するカバー部材９２を、所定平面と平行な方向に着脱可能に保持する保持装置９３を備える。 （もっと読む）

【課題】基板に対する前処理後、塗布までの間に基板の表面の状態が変化するのを抑えること。
【解決手段】易酸化性の金属を含む液状体を基板に塗布する塗布部と、前記液状体が塗布される前の前記基板に対して前処理を行う前処理部と、前記塗布部によって前記液状体が塗布される塗布空間と前記前処理部によって前記前処理が行われる前処理空間とを接続する接続空間を有し、前記接続空間の雰囲気が不活性ガスの雰囲気となるように調整可能に設けられた接続部とを備える。 （もっと読む）

【課題】印刷品質の低下を防止できる印刷方法を提供する。
【解決手段】第１方向Ｘに配列された複数のノズル５２を有するノズル列６０Ｂ〜６０Ｅが第１方向と直交する第２方向Ｙに間隔をあけて複数配置された吐出ヘッド４９と基材とを第２方向に相対移動させて、ノズルから活性光線で硬化する液体の液滴５７を基材に吐出する吐出工程と、基材上の液滴に活性光線を照射する照射工程とを有する。吐出ヘッドの第２方向の一方側への相対移動時と、第２方向の他方側への相対移動時との間で、基材に液滴が着弾してから活性光線が照射されるまでの時間が同一となるように、複数のノズル列から液滴を吐出させるノズル列をそれぞれ選択する選択工程を有する。 （もっと読む）

【課題】液体を高速かつ正確な量で液滴として吐出する。
【解決手段】液体２０１を貯留する貯留室２１０の一部を形成する第一部材１１１と、貯留室２１０内の液体２０１を吐出する吐出孔１１７が設けられる第二部材１１２と、第一部材１１１と第二部材１１２との間に配置される弾性部材１１３と、貯留室２１０内に液体２０１を供給する供給孔１１６と、貯留室２１０の容積を増減させる作動手段１１４と、第二部材１１２と熱的に接続され、第二部材１１２よりも熱容量の大きな蓄熱体１９２と、蓄熱体１９２を昇温する加熱手段１２１とを備える。 （もっと読む）