【課題】液状樹脂の廃棄を少なくして、樹脂膜の形成コストを低減すること。
【解決手段】本発明の樹脂膜形成装置（２）は、ウェーハ（Ｗ）を保持する吸着面（６１）を囲むように環状凸部（６５）が設けられた成膜用テーブル（２２）と、成膜用テーブル（２２）の環状凸部（６５）に当接して、ウェーハ（Ｗ）上方に液密な空間（Ｓ）を形成する塗布部（２３）とを備え、塗布部（２３）には、液密な空間に液状樹脂を供給する供給口（７４）と、ウェーハ（Ｗ）の外周側に対向する位置において液密な空間（Ｓ）内を吸引する吸引溝（７６）とが形成され、成膜用テーブル（２２）と塗布部（２３）とを相対的にスライドさせる構成にした。 （もっと読む）

【課題】不良ノズルを確実に検出する液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】基材に向けてノズルから機能液を液滴として吐出する吐出ヘッドと、前記基材に着弾した前記液滴の着弾径を測定する着弾径測定部と、制御部と、を備え、前記制御部では、前記ノズルから基材に向けて吐出された液滴の吐出量と前記基材に着弾した前記吐出量に対応する前記液滴の基準着弾径との関係を示す関係データを取得し、前記ノズルから前記基材に向けて前記関係データに含まれる所定の液滴量を吐出させて、前記基材に着弾した前記液滴の着弾径を測定させ、測定された検査着弾径と前記所定の液滴量に対応する前記基準着弾径とを比較し、前記ノズルの合否を判断する。 （もっと読む）

【課題】基板上に塗布されたインクの乾燥ムラを抑制する。
【解決手段】本発明の一形態に係るインクジェット塗布装置は、第１のヘッド群１２Ａと第２のヘッド群１２Ｂとを有するインクヘッドモジュール１２を備える。第１のヘッド群１２Ａは、基板Ｓの表面全域をＸ軸方向に沿って配列された複数列の領域Ｒ１〜Ｒ６で区画したときに、所定の第１の領域群（Ｒ１，Ｒ３，Ｒ５）にインクの液滴を塗布する。第２のヘッド群１２Ｂは、第１のヘッド群１２Ａに対してＹ軸方向に所定距離（Ｈ）オフセットした位置に配置され、上記複数列の領域のうち残余の第２の領域群（Ｒ２，Ｒ４，Ｒ６）にインクの液滴を塗布する。このとき、第１のヘッド群１２Ａからの液滴が基板Ｓ上に着弾してから、第２のヘッド群１２Ｂからの液滴が基板上に着弾するまでの時間が所定時間以内となるように、基板Ｓを支持するステージ１１の移動が制御される。 （もっと読む）

【課題】インクジェットヘッドのノズルから塗布液を吐出して塗布液の塗膜を形成しつつ、塗布液の塗膜の表面をより平滑にすることができる塗布方法および塗布装置を提供する。
【解決手段】インクジェットヘッドに設けられる複数のノズルから塗布液の液滴を基板Ｗに吐出させ、基板Ｗの周縁部における膜厚に比べて基板Ｗの中央部における膜厚が厚い塗布液の塗膜Ｆを形成する工程と、基板Ｗを回転させて基板Ｗの中央部から周縁部に向けて塗膜Ｆ内の塗布液を移動させる工程と、を備える塗布方法である。塗膜Ｆ内の塗布液を移動させる工程では、塗膜Ｆを形成している基板Ｗ上の塗布液は基板Ｗの中央部から周縁部に向かって移動するので、基板の中央部と基板の周縁部との間で塗膜の膜厚の差が減少し、塗膜の膜厚を略均一にすることができる。同時に、塗膜Ｆ内の塗布液が動くことによって、塗膜Ｆの表面をより平滑にすることができる。 （もっと読む）

【課題】塗液の脈動による塗膜の膜厚ばらつきを低減させる。
【解決手段】塗液を供給する塗液供給ポンプ２と、基材に塗工するコーティングヘッド７と、塗液供給ポンプ２からコーティングヘッド７までを接続するメイン配管３と、メイン配管３に設けられた間欠塗工に使用できる塗液流路切替えバルブ４とを有した塗工装置１００において、塗液供給ポンプ２から塗液流路切替えバルブ４までの間に、一時的に塗液を蓄えることのできるアキュムレータ５を設け、さらにこのアキュムレータ５のガス空間領域の上端の位置が、コーティングヘッド７の吐出口の位置よりも高い位置となるように、アキュムレータ５を配置することで、配管圧力の経時変化にも耐え、塗液供給ポンプ２から発生する吐出脈動による膜厚ばらつきを低減させる。 （もっと読む）

【課題】バックアップローラに巻き掛けられて走行するウェブと塗布ヘッド先端との間のクリアランスに塗布液ビードを形成して塗布する塗布装置を用いて、ナノサイズの紐状フィラーを含む塗布液をウェブに塗布しても塗布スジ故障が発生しない。
【解決手段】バックアップローラ２０に巻き掛けられて走行するウェブ１２と塗布ヘッド先端１８Ａとの間のクリアランスｄに塗布液ビード２２Ａを形成して塗布する塗布装置を用いて、金属ナノワイヤー２６Ａを多数本含む塗布液２２をウェブ１２に塗布する塗布工程と、塗布された塗布層２２Ｂを乾燥する乾燥工程とを少なくとも備えた紐状フィラー含有塗布物の製造方法において、塗布工程では、塗布液２２のウエット膜厚をｈとし、クリアランスをｄとしたときに、ｈ＜ｄ≦３ｈを満足するようにクリアランスを設定する。 （もっと読む）

【課題】低い粘度の塗布液を使用しても良好に製膜可能な塗布装置及び多層膜付きフィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】ダイ先端部の空間を減圧するための吸引装置と、前記塗布液を貯留するためのポケットと、を備え、前記ポケットは、塗布点よりも下の位置に配置され、下流リップと、前記ウエブと、の最短距離をｄ１とし、隣接リップと、前記ウエブと、の最短距離をｄ２とし、前記隣接リップの前記走行方向の幅をＬ２とし、最上層の膜厚をｈ１とし、最上層を除く全ての膜の総膜厚をｈ２としたとき、式１〜式４の全てを満たすように前記ブロックが設置されて前記ダイが構成された塗布装置。
10μｍ≦（ｄ１−ｄ２）≦200μｍ 式１
ｄ２≦３×ｈ２ 式２
５０μｍ≦Ｌ２≦２００μｍ 式３
dP/dX＞０ 式４ （もっと読む）

【課題】均一な幅広塗布を実施することが可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】塗布装置は、被塗布面３Ａ（３Ｂ）に対して流体Ｆを吐出する吐出装置１を相対移動させて流体Ｆを塗布するものであり、吐出装置１は、各々が流体Ｆを吐出するスリット状の吐出口１０Ａを有し、吐出口１０Ａが少なくとも相対移動方向Ｚに沿って並ぶように配置された複数の吐出ノズル１０を備えている。 （もっと読む）

【課題】塗工域の塗工始端部又は塗工終端部に生じる盛り上がり部の盛り上がり高さ寸法を小さくする。
【解決手段】基材走行路Ｒの途中に設けられた間欠塗工装置２で、基材走行路Ｒを走行する基材Ｗの表面に基材走行方向に沿って塗工域Ｃと非塗工域Ｄを交互に形成するときに、塗工域Ｃの塗工始端部Ｃａ又は塗工終端部Ｃｂに形成される盛り上がり部Ｑが生じる場合に、盛り上がり部Ｑが通過する基材走行路Ｒの所定箇所Ｒａに向かってガスをＧを噴出させるガス噴出用スリット１３を備えたガス噴出装置７と、ガス噴出用スリット１３から噴出させるガスＧをガス噴出装置７へ設定時間だけ供給するガス供給装置８を備えたこと。 （もっと読む）

【課題】デバイスの品質の低下を抑制できる液滴吐出方法を提供する。
【解決手段】基板上の隔壁によって規定される凹部の開口と液滴吐出口とが対向する第１状態で、凹部に、液滴吐出口より複数の液滴を供給する第１動作と、第１動作後、開口と液滴吐出口とが対向しない第２状態に変化させる第２動作と、第２動作後、第１状態に変化させて、液滴が供給された凹部に、液滴吐出口より複数の液滴を供給する第３動作と、を含み、第３動作における液滴供給位置が、第１動作における液滴供給位置より、開口のエッジから離れるように、第３動作における複数の液滴の間隔を第１動作における複数の液滴の間隔よりも狭くするための液滴供給位置の調整を行う。 （もっと読む）

【課題】描画対象物に均一な厚みの材料層を描画する描画装置および描画方法を提供する。
【解決手段】描画対象物５０に描画すべきパターンの液状材料を付着させるべき領域を、主走査方向に直交する仮想直線上に垂直投影した像の連続する部分の長さ、つまり配線領域の長さＬｗに基づいて、ノズルヘッド２３の１回の主走査で描画されるパス領域の幅Ｌｐを、ノズルヘッドに設けられるノズルの配列長さＬａよりも短く設定する。 （もっと読む）

【課題】塗布膜の性質にバラつきが生じるのを防ぐこと。
【解決手段】易酸化性の金属及び溶媒を含む液状体を基板に吐出するノズルを有する塗布部と、前記塗布部に前記液状体を供給する供給系と、前記供給系及び前記塗布部のうち少なくとも一方から前記液状体を回収し、回収した前記液状体を前記供給系及び前記塗布部のうち少なくとも一方に供給する循環系とを備える。 （もっと読む）

【課題】粘度変化が生じる液体材料を高精度に塗布すること。
【解決手段】液体材料を吐出するノズル６と、液体材料をノズル６から吐出するためのポンプと、液体材料が通過する経路における液体材料の粘度を算出するための熱式流量センサ９と、算出した粘度に基づいて液体材料をノズル６から吐出させるための吐出圧力を設定し、設定された吐出圧力に基づいてポンプを制御するメインコントローラ８と、を備えた塗布装置であって、液体材料の粘度変化に合わせ、吐出圧力を調整することにより、高精度な塗布が実現可能となる。 （もっと読む）

【課題】塗布対象物に所望の塗布量で液滴を塗布し、塗布製品の品質を向上させる。
【解決手段】液滴塗布装置１は、塗布対象物Ｗを支持するステージ２と、複数のノズルが並ぶノズル列を有するインクジェット式の塗布ヘッド４と、その塗布ヘッド４とステージ２とを塗布対象物Ｗの塗布面Ｗａに沿ってノズル列に交差する第１の方向に相対移動させる移動装置３と、塗布面Ｗａ上における液滴の塗布位置を示す情報を含む塗布パターンを設定するパターン設定部８ｂと、その塗布パターンに基づいて移動装置３及び塗布ヘッド４を制御し、ステージ２上の塗布対象物Ｗの塗布面Ｗａに液滴を塗布する制御部８ａとを備える。制御部８ａは、前述の塗布パターンが複数のノズルの中で近接して位置するノズルから液滴を同時に吐出させる塗布パターンであったとき、当該近接して位置するノズル同士において液滴の吐出タイミングをずらすようにノズルからの液滴の吐出を制御する。 （もっと読む）

【課題】長期にわたって安定した液滴の精度を保つための技術を提供する。
【解決手段】液晶材料吐出装置のノズルの貫通孔２０２内には、ノズル本体２０１の表面を露出させた状態で、吐出口付近と外周側面とを撥液被膜で覆う。撥液被膜は、フッ素樹脂粒子が分散された金属膜にする。液滴がノズルの表面に接触しても拡がらないので、ノズル先端に液溜まりが生じず、吐出不良が生じない。また、貫通孔２０２内に気泡が付着せず、吐出方向不良や異物混入が生じない。 （もっと読む）

【課題】スリットノズルを用いて基板上に塗布液を塗布する基板塗布方法及び装置において、待機時間におけるスリットノズル内の塗布液の乾燥及び酸化等の液劣化を抑制する。
【解決手段】スリットノズル３１から塗布液２０を塗布して塗布膜を形成する第１の工程と、次なる基板上に塗布液２０を塗布せずに待機する第２の工程と、スリットノズル３１の下方位置にその吐出口３０から間隔を経て配置されるローラ部５０に塗布液２０を吐出する第３の工程と、を含み、第２の工程において、スリットノズル３１からローラ部５０へ塗布液２０を吐出させる。こうすれば、塗布液２０が適宜に循環されるので、スリットノズル３１内の塗布液２０の乾燥及び酸化等の液劣化を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】簡単に画像の意匠性を向上させることができる描画装置及び描画方法を提供する。
【解決手段】描画装置は、ワークＰに対して液体Ｌを噴射する走査型液体噴射ヘッドと、ワークＰを載置しつつ副走査方向に搬送するワーク搬送テーブル６と、ワーク搬送テーブル６のワーク載置面６ａに配置された複数の温度差発生素子３０と、ワークＰに描画する画像データに基づいて、画像の外周部に対向する位置に配置された温度差発生素子３０ａにより、画像の外周部に着弾した液体Ｌａと他の領域に着弾した液体Ｌとの間に温度差を発生させる温度差発生部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】液体が液垂れすることによる不良品の発生を抑制する。
【解決手段】芯体１２への塗布が終了した後、遮断部材６２を芯体１２の塗布開始端側に向かって遮蔽位置へ移動させる。これにより、吐出部５６Ｃのノズル５６Ｅと芯体１２との間が遮蔽された状態とする。 （もっと読む）

【課題】１つのシリンジで塗布する場合には、塗布面積が大きい場合には時間がかかる。また、複数のシリンジで塗布する場合には、それぞれのシリンジの違い（圧力さ、ペースト量、等）により、流動性材料を同一の塗布量にすることが難しく、塗布むらや断線が発生し易い。本発明の目的は、上記のような問題に鑑み、複数のシリンジで塗布作業を短時間とし、かつ、塗布形状が安定した半導体製造方法を提供する
【解決手段】Ｘ軸およびＹ軸方向に任意の距離を相対的に水平移動する基板に流動性材料で所定のパターンを描画塗布して形成するペースト塗布方法であって、複数のシリンジそれぞれが異なるサブパターンを描画塗布して１つのパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】媒体の接着面同士が貼り合わされる場合において、適切な接着力を確保しつつ接着剤の塗布量を抑える。
【解決手段】ドット群が島状に配置される奇数用の糊形成パターンと、奇数用の糊形成パターンの各ドット群と対称的な位置にドット群が島状に配置される偶数用の糊形成パターンＡとを設定し、設定した奇数用の糊形成パターンが奇数枚目の用紙の接着面に形成されるよう糊吐出ヘッドを制御し、設定した偶数用の糊形成パターンＡが偶数枚目の用紙の接着面に形成されるよう糊吐出ヘッドを制御する。これにより、両接着面の全面に均一に糊を塗布するものに比して糊の塗布量を抑えることができ、また、両接着面の塗布領域を重ねることができるから、適切な接着力を確保しつつ糊の塗布量を抑えることができる。 （もっと読む）