【課題】浮上ステージにおいて分割ステージブロックの境界（繋ぎ目）にできる段差の許容度を大きくして浮上面の高さ位置調整作業を簡便に短時間で行えるようにする。
【解決手段】浮上ステージ１０において、左端の搬入用ステージブロックＳＢ_Aには、専ら噴出口１２を多数配設した第１のラフ浮上領域Ｍ_INが搭載される。真ん中のステージブロックＳＢ_Bには、搬送方向（Ｘ方向）の両端部に専ら噴出口１２を多数配設した突き上げ浮上領域Ｍ_P，Ｍ_Qが局所的に搭載されるとともに、それらの間に噴出口１２と吸引口１４とを混在して多数配設した精密浮上領域Ｍ_CTが搭載される。また、右端の搬出用ステージブロックＳＢ_Cには、専ら噴出口１２を多数配設した第２のラフ浮上領域Ｍ_OUTが搭載される。 （もっと読む）

【課題】ダイコータで、ガラス基板とダイ間のクリアランスを全幅に渡って略均一に非常に小さくすることで、ガラス基板に非常に薄い塗布膜を形成できる塗布装置および塗布方法、並びにディスプレイ用部材の製造方法を提供する
【解決手段】スリット状の吐出口を有する塗布器から、塗布液を被塗布部材上に吐出して塗布膜を形成する塗布方法で、被塗布部材表面が高さＨだけエアー浮上されて保持されている被塗布部材に、塗布器の吐出口面がＨ−６０μｍ〜Ｈ＋５０μｍの高さに位置するよう塗布器を近接させ、吐出口より塗布液を吐出しながら、塗布器および被塗布部材の少なくとも一方を相対的に移動させて、被塗布部材上に塗布膜の形成を行う塗布方法。 （もっと読む）

【課題】過酷な環境下に置かれる電子部品にも適用することが可能なマーキングを提供する。
【解決手段】電子部品の製造方法は、光硬化性を有しＮ−ビニルカプロラクタムを５質量％以上２０質量％以下の範囲で含有するインク４５を、電子部品である半導体チップ１２へ塗布してマーキングを行なう塗布ステップ（ステップＳ４、Ｓ９）と、塗布されたインク４５へ、積算光量２００ｍＪ／ｃｍ²以上の光を照射する照射ステップ（Ｓ３〜Ｓ６、Ｓ８〜Ｓ１１）と、照射ステップの後、インク４５を１５０℃以上２００℃以下の温度で加熱する加熱ステップ（ステップＳ１５）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】コータヘッドと液体が塗布される被塗布体との距離を迅速かつ高精度に測定する。
【解決手段】コータヘッド１１は、保持部２に面し第１の開口１２と同一面上に位置する第２の開口２０を備えた少なくとも１つの内側空間部２１を有している。距離測定器２２は、被塗布体３または保持部２、及び第２の開口の位置２０に設けられレーザ光を反射する遮へい体２３ａを測定位置として、内側空間部２１を通してレーザ光を出射することにより、被塗布体３または保持部２と距離測定器２２との距離である第１の距離Ｄ１、及び遮へい体２３ａと距離測定器２２との距離である第２の距離Ｄ２を、同時にまたは別々に測定する。距離算出器２２は、第１の距離Ｄ１と第２の距離Ｄ２との差分に基づき、コータヘッド１１の第１の開口１２と被塗布体３または保持部２との距離である第３の距離Ｄ３を算出する。 （もっと読む）

【課題】枚葉処理される基板間の処理時間間隔を短縮し、生産効率を向上することのできる基板処理装置及び処理液供給方法を提供する。
【解決手段】制御手段１０はノズル１１の吐出口１１ａからプライミングローラ３５に所定量の処理液Ｒを吐出させ、プライミング処理部３６により前記プライミングローラ３５を回転させて吐出口１１ａに付着しているレジスト液を整える一方、ポンプ２２に、吸入管２１を介して処理液供給源２０から処理液を吸入させる。 （もっと読む）

【課題】塗布膜に形成されるムラの発生を抑えるとともに、タクトタイムを短縮できる塗布装置および塗布方法を提供する。
【解決手段】基板１０上に吐出装置３aから塗布液を吐出し、塗布後に塗布基板を乾燥装置５に浮上搬送機構６により搬送する塗布装置１であって、前記浮上搬送機構は振動浮上機構４２を有し、搬送工程において基板上に塗布された塗布膜を前記振動浮上搬送機構により基板に生じる振動により引き起こされるレベリング効果より塗布膜に生じる塗布ムラを解消する。 （もっと読む）

【課題】広い領域及び狭い領域の両方に効率よく防湿剤を塗布することができる基板塗布装置を提供する。
【解決手段】防湿剤を基板６１上に吐出する吐出ユニット２と、吐出ユニット２と基板６１とを相対的に３次元方向に移動させる移動部とを備え、吐出ユニット２は、防湿剤を基板６１上に吐出する第１及び第２のノズル１１，１２を有するノズルユニット６と、基板６１に防湿剤を塗布する際に、移動部による吐出ユニット２の移動方向と直交する方向にノズルユニット６を振動可能な振動手段７とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板の表面にダメージを与えることなく良好に液処理することができる２流体ノズルや同２流体ノズルを用いた基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを提供すること。
【解決手段】本発明では、第１の液体を吐出する第１の液体吐出口（４５）と、気体を吐出する気体吐出口（４７）とを有し、第１の液体吐出口（４５）から吐出した第１の液体と気体吐出口（４７）から吐出した気体とを外部で混合して被処理体（基板２）に向けて混合流体（５２）を噴霧する２流体ノズル（３４）において、被処理体（基板２）に噴霧された混合流体（５２）の被処理体上での外縁部に第２の液体を供給するための第２の液体吐出口（５３）を有することにした。 （もっと読む）

【課題】インクミストの除去機構を比較的簡単な構成で実現すること。
【解決手段】記録媒体６との対向面に吸込口１４が形成され且つ冷却用ファン２０が空気を吸い込む領域に排出口１５が形成されたダクト１３をキャリッジ１０の内部に設けた。そのため、ダクト１３内の空気が排出口１５から冷却用ファン２０に吸い込まれることで、記録ヘッド１２周辺の空気が吸込口１４からダクト１３に流入するようになる。それゆえ、インク吐出時にインクミストが発生しても、記録ヘッド１２周辺を漂っているインクミストを含む空気をダクト１３で吸い込むことができる。すなわち、冷却用ファン２０をインクミストの除去にも利用することができ、インクミストの除去機構を比較的簡単な構成で実現できる。 （もっと読む）

【課題】前処理時に媒体にダメージを与えることを防止するとともに良好な印刷品質が得られる印刷方法及び印刷装置を提供する。
【解決手段】樹脂でモールドされた半導体装置３に対し、オゾンを含有する雰囲気で紫外線を照射して表面処理を行う表面処理部９と、半導体装置３の表面に活性光線で硬化する液体の液滴を吐出するノズルを有する吐出ヘッドと、半導体装置３上の液滴に活性光線を照射する照射部と、を備える印刷装置に関する。 （もっと読む）

【課題】基材を加熱しながら、基材表面に紫外線照射を行うことにより基材表面の改質を行うことが可能な基材表面の改質装置、およびそれを備えた印刷装置を提供する。
【解決手段】基材表面の改質装置１００は、基材としての半導体装置３の表面を加熱する赤外線照射ユニット１０３と、半導体装置３と相対して設けられ、半導体装置３に紫外線Ｖを照射する紫外線ランプ１０６と、紫外線Ｖを透過し、且つ半導体装置３から放射される熱エネルギーおよび赤外線照射ユニット１０３から照射される加熱エネルギーを遮断するように、半導体装置３および赤外線照射ユニット１０３と紫外線ランプ１０６との間に設けられた遮蔽部としての合成石英ガラス板１０５と、が備えられている。 （もっと読む）

【課題】浮上ステージにおける基板の浮上高や姿勢を最適化しつつ、浮上用高圧気体の消費効率を改善すること。
【解決手段】このレジスト塗布装置における浮上ステージ１０は、搬送方向において塗布領域Ｍ_CTの前後に延びる搬入領域Ｍ_INおよび搬出領域Ｍ_OUTの浮上面をそれぞれ多数の浮上エリアに区画している。これらの浮上面には多数の噴出口１２配置されている。各々の浮上エリアにおける高圧気体の噴出圧力は噴出圧力制御部により独立に可変ないしオン・オフ制御されるようになっている。 （もっと読む）

【課題】ステージに載置する基材のいずれの面にアライメントマークが設けられる場合であっても、１つのカメラで撮像可能な印刷装置を提供する。
【解決手段】吐出ヘッドのノズルから液体の液滴が吐出される基材１を載置するステージ３７Ａと、基材１の一方面側或いは他方面側のいずれかに設けられたアライメントマークＭを撮像するカメラ６１と、一方面側からアライメントマークＭを撮像する第１の状態と、他方面側からアライメントマークＭを撮像する第２の状態とを切り替え可能とするようにカメラ６１の位置を制御するカメラ位置制御機構６５と、を備える印刷装置に関する。 （もっと読む）

【課題】清掃時に塗布器から除去した塗布液が清掃部材を伝わって流出する速度を高めて塗布器への再付着が生じないことと、塗布液や洗浄用の溶剤等が残存せず塗布膜厚異常や塗布膜面の欠点を引き起こさないことが可能な清掃部材を提供する。
【解決手段】互いに対向する第１の面と第２の面を有し、塗布器の一方向に延在する吐出口の吐出口面と、当該吐出口面の両隣接面に接触しながら、当該一方向に摺動して、当該吐出口面と当該両隣接面との清掃に供される清掃部材は、前記第１の面側に設けられた、前記吐出口面と前記両隣接面とに同時に接触する清掃部と、前記清掃部を起点として、前記第２の面側まで延在する複数の流出経路面とを備え、前記流出経路面には、前記第２の面側で切欠き２２０が設けられている。 （もっと読む）

【課題】エア排出時間を短縮するために内部流路に接続するエア排出経路の個数を増加させても、エアを塗布器外部へ排出する排出口の個数は最小限に保つ手段を実現することで、排出口に接続されるエア排出用付帯部品の個数も最小限にして、低コスト化を図るだけでなく、塗布以外の作業時間を短縮して塗布生産時間を増やし、生産性と塗布品質に優れる塗布器を提供する。
【解決手段】
塗布液が供給される供給口、供給される塗布液を長手方向に拡幅するマニホールド、塗布液を吐出する吐出口、マニホールドと吐出口を連通するスリット、マニホールドに存在する塗布液／エアをマニホールドから流出させる複数のベント口とそれに連なるベント経路、ベント口から流出する塗布液／エアを塗布器の外部に排出する排出口を備えるとともに、排出口の個数がベント口の個数よりも少ない塗布器。 （もっと読む）

【課題】吐出幅の変更が容易でありながら、塗布した塗布液による塗膜の幅方向寸法の変動を抑える。
【解決手段】幅方向に長いスリット１６からなる吐出口１１が形成され塗布液を吐出口１１から基板Ｗに対して吐出して塗布するスリットノズル１０と、このスリットノズル１０に対して基板Ｗを前後方向に移動させる駆動部４と、スリット１１内を幅方向に移動することにより吐出口１１の幅方向寸法を変更する吐出幅変更部材１７と、吐出口１１から吐出された塗布液の幅方向両外側の領域に対してエアを吹き付けるエアノズル２２を有し吐出口１１の幅方向寸法の変更に応じてエアノズル２２によるエアの吹き付け位置の調整が可能であるエア供給ユニット２１とを備えている。 （もっと読む）

【課題】従来の液滴吐出装置では、描画品位を向上させることが困難である。
【解決手段】液状体を液滴として吐出するノズルが設けられたノズル面３５を有する吐出ヘッド３３と、ノズル面３５に接触した状態で、ノズル面３５に付着した前記液状体を払拭するブレード８３と、ブレード８３に接触した状態で設けられ、ブレード８３に付着した前記液状体を吸収する吸収体８５と、吸収体８５のブレード８３に対する位置を変化させる電磁ソレノイド８７と、を有し、吸収体８５は、ブレード８３がノズル面３５に接触している状態において、ノズル面３５から離間しており、電磁ソレノイド８７は、吸収体８５のブレード８３に対する位置を吐出ヘッド３３側に向けて変化させる、ことを特徴とする液滴吐出装置。 （もっと読む）

【課題】効率的な前処理が可能であり、タクトタイムを短縮できる印刷装置を提供する。
【解決手段】吐出ヘッドと、吐出ヘッドの液滴吐出動作に先立ち、基材１の表面に紫外線を照射して基材の表面を改質する表面改質処理を行う処理部９と、を備えた印刷装置に関する。処理部９は、複数の照射部３２ａと、照射部が紫外線を照射するタイミングで複数の照射部３２ａを挟持するように基材を保持する基材保持機構２７ｂ，２８ｂと、を備える。 （もっと読む）

【課題】装置の小型化及び低価格化に寄与できる印刷装置を提供する。
【解決手段】基材１を搬送する搬送部１３と、基材に対して相対移動して、液滴を吐出する吐出ヘッドと、搬送部１３に設けられ、対向する基材の表面の凹凸情報を検出する検出装置１２０と、を備える。検出装置１２０は、基材１の表面に投光した検知光Ｌの反射光を受光した結果に基づいて、表面位置までの距離を計測する測距部１２１と、搬送部１３の移動を制御して搬送部１３の基材１の表面に沿った方向の位置と測距部１２１の計測結果とに基づいて凹凸情報を導出する制御部とを有する。 （もっと読む）

【課題】短時間で精度良く全ノズルの吐出状態を検査することのできる吐出状態検査モードを備えた塗布装置および吐出状態検査方法を提供する。
【解決手段】各吐出ノズルからの液滴の吐出状態を検査する吐出状態検査モードを有する塗布装置であって、吐出状態検査モードにおいて、塗布ヘッド１０を検査面３１に対して平行な方向に速度ｖ_１で相対移動させている状態で吐出ノズル１１から検査面３１に向かって液滴を吐出することにより、液滴が検査面３１に対して平行な方向にシフト量ｄだけ移動して検査面３１上に着弾して液滴パターン２１を形成し、画像認識カメラが取得したこの液滴パターン２１の画像から液滴の位置を確認することにより、シフト量ｄを求め、このシフト量ｄをもとに液滴の吐出速度ｖ_２を算出し、これらシフト量ｄおよび吐出速度ｖ_２基づいて液滴の吐出状態を検査することを特徴とする。 （もっと読む）