【課題】溶剤の揮発による画素形状の変形を抑えることができる塗布装置、その塗布装置を用いた塗布方法及びその塗布装置を用いた有機機能性素子の製造方法を提供する。
【解決手段】塗布装置は、透光性基板１８を設置する可動ステージ１９と、透光性基板１８上にインク１１を吐出するノズルヘッド１３と、可動ステージ１９とノズルヘッド１３とを透光性基板１８の面方向に相対的に移動可能とする移動機構とを含み、さらに吐出されたインク１１に含まれる溶剤の蒸気を排気する排気部２３を有し、排気部２３はノズルヘッド１３に隣接配置されていることを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】 高効率で液滴吐出の良否を検査する。
【解決手段】 基板を保持し水平面内方向に移動させることのできるステージと、絶縁材を吐出しうる複数のノズルを備え、ステージに対向配置される吐出ヘッドと、ノズルから吐出された絶縁材の着弾跡を検出するセンサと、ステージ、吐出ヘッド、センサを制御する制御装置とを備え、ステージは基板を少なくとも一軸方向に移動させることができ、吐出ヘッドの複数のノズルは、水平面内で一軸方向と直交する方向に沿って配置され、センサはステージに対して、水平面内で一軸方向と直交する方向に相対的に移動可能に、ステージに対向配置され、制御装置はステージと吐出ヘッドを制御して、基板に絶縁材を吐出させて描画を行う機能と、ステージとセンサを制御して、吐出された絶縁材の着弾跡を検出する機能とを備え、制御装置は、吐出された絶縁材の着弾跡の検出時に、センサをステージに対して、水平面内で一軸方向と直交する方向に相対的に移動させる液滴吐出装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】被吸入流動体の選択的な吸引排出により吸入排出量の超微小量化、描画の超精密化、装置の超小型化を図ることができるとともに、描画速度に優れ、生産性の高い液体描画装置を提供する。
【解決手段】被吸入流動体１０を吸入排出する吸入排出手段１１と、吸入排出手段１１に被吸入流動体１０を吸入させる吸入駆動部３０と、被吸入流動体１０を貯留する被吸入部２０と、吸入排出手段１１から被吸入流動体１０を排出させる排出駆動部５０と、排出された被吸入流動体１０を被描画媒体６１へ転写する描画部６０と、吸入排出手段１１に当接し回転する複数のローラ４０と、を備え、吸入排出手段１１は、開口部と該開口部に通じる空間を有する吸入排出セル１２が複数配列された無端状のベルト部材であり、複数のローラ４０に掛け渡されて回転し、吸入排出セル１２ごとに、被吸入流動体１０を被吸入部２０において吸入して描画部６０において排出する連続処理が可能である。 （もっと読む）

【課題】汎用性を向上することができるようにする。
【解決手段】接着剤塗布装置１０は、ロボットアーム１２ａを備えたロボット１２と、ロータ５６を設置するためのロータセット治具１４と、接着剤を収容したカートリッジ５８を装着可能なホルダ部１６ａを備え、当該ホルダ部１６ａに装着されたカートリッジ５８内の接着剤を吐出する、ロボットアーム１２ａの先端に取り付け可能なガン１６と、所定圧の圧縮エアの、ガン１６のホルダ部１６ａに装着されたカートリッジ５８内への供給をオン・オフ切替制御する電磁弁２２と、ロボット１２の動作を制御するロボットコントローラ５０と、電磁弁２２によるオン・オフ切替制御、及び、ロボットコントローラ５０によるロボット１２の動作制御を連携して制御する上位コントローラ５２とを有する。 （もっと読む）

【課題】全体工程時間を短縮できる基板処理装置及び方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態による基板処理装置は、基板を支持する基板支持ユニットと、前記基板に第１処理液を吐出するインクジェットノズルと、前記基板に第１処理液と異なる第２処理液を吐出するコーティングノズルと、前記基板支持ユニットに対して前記インクジェットノズルと前記コーティングノズルとの位置が変更されるように前記インクジェットノズルと前記コーティングノズルとを第１方向に直線移動させるジェントリーユニットと、を含む。 （もっと読む）

【課題】塗布膜に乾燥ムラが形成されることを抑えることができる減圧乾燥装置を提供する。
【解決手段】基板を格納するチャンバ２を備え、チャンバ２内部を大気圧より低い圧力に減圧することによって、チャンバ２内部に格納された基板上の塗布膜を乾燥させる減圧乾燥装置であって、チャンバ２は、チャンバ本体３とチャンバ蓋部４を有し、チャンバ本体３とチャンバ蓋部４とが当接することによってチャンバ２内部を密閉し、チャンバ蓋部４は天板４１を有し、天板４１のチャンバ２内部と反対側から天板４１を覆う蓋形状保持部６が設けられ、蓋形状保持部６は、天板４１との間に閉じた空間Ｒを形成し、この空間Ｒの圧力が大気圧以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 基板を傾斜させて搬送する場合においても、基板の裏面のみに適切に処理液を塗布することが可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】 処理液吐出パイプ３０は、搬送ローラ１０により搬送される基板１００が塗布ローラ２０に到達する前に、基板１００の下方側で、かつ、搬送ローラ１０による基板１００の搬送方向の上流側から、塗布ローラ２０の表面に向けて処理液を吐出する。そして、搬送ローラ１０により搬送される基板１００の後端が塗布ローラ２０に到達する前に、処理液吐出パイプ３０からの処理液の吐出が停止される。 （もっと読む）

【課題】描画対象物に均一な厚みの材料層を描画する描画装置および描画方法を提供する。
【解決手段】描画対象物５０に描画すべきパターンの液状材料を付着させるべき領域を、主走査方向に直交する仮想直線上に垂直投影した像の連続する部分の長さ、つまり配線領域の長さＬｗに基づいて、ノズルヘッド２３の１回の主走査で描画されるパス領域の幅Ｌｐを、ノズルヘッドに設けられるノズルの配列長さＬａよりも短く設定する。 （もっと読む）

【課題】移動自在な垂直ベース５３に吐出ユニット３を取り付けた構成において、塗布液の吐出時に発生する反力に起因した吐出ユニット３の振動を抑制可能とする。
【解決手段】垂直ベース５３を、梁５１３により支持するのみならず、梁５１３の反対側から第２支持機構６によっても支持する。こうして、両側に配置された梁５１３と第２支持機構６で垂直ベース５３を強固に支持することが可能となり、その結果、垂直ベース５３に取り付けられた吐出ユニット３を吐出時に発生する反力に抗してしっかりと支持することができる。よって、塗布液の吐出時に発生する反力に起因した吐出ユニット３の振動を抑制することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】光源と紫外線硬化剤との間の距離を短くして紫外線硬化剤を効率良く硬化させることができる紫外線照射硬化装置を提供する。
【解決手段】透明導電性ガラス基板４（第１部材）及び非透明ガラス板６（第２部材）の間に介在されたシール剤８（紫外線硬化剤）を硬化させる紫外線を照射するための面状光源（複数本の直管蛍光放電管１２）と、面状光源を点灯するための電源とを備え、透明導電性ガラス基板４が面状光源の上側に載置され、面状光源からの紫外線が下方から透明導電性ガラス基板４を透過してシール剤８に照射される。このような構成よって、面状光源とシール剤８との間隔が短くなり、シール剤８を短時間に効果的に硬化させることができ、照射硬化装置の被照射体を収容するための収容容積を小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】液滴の着弾地点を正確に制御できる技術を提供する。
【解決手段】吐出回路２２に吐出信号が入力されてから吐出された液滴が吐出対象物に着弾するまでの吐出必要時間よりも長い処理割当時間を設定し、吐出口１６が着弾地点の真上に到達する真上時刻よりも処理割当時間前の信号出力時刻に制御部１０が吐出部１３に吐出信号を出力する。遅延部２４には、処理割当時間と吐出必要時間の差である遅延時間が設定されており、遅延部２４は、入力された吐出信号を遅延時間遅らせて吐出回路２２に入力させ、吐出された液滴を真上時刻において吐出地点に着弾させる。同じ真上時刻において複数の吐出地点にそれぞれ吐出口１６が到達する場合は、各吐出口１６に対し、同じ信号処理時刻において吐出信号を出力すればいよい。 （もっと読む）

【課題】 塗布液の消費を極力抑制しつつ吐出孔からの塗布液の吐出状態の良否を判定し、良好な塗布状態を維持可能な塗布液の塗布装置を提供する。
【解決手段】 塗布ヘッド７の吐出面７ａに一列に配列されて設けられた複数の吐出孔７ｂから、それぞれの吐出孔７ｂに対応して設けられた圧電素子７ｅの駆動によって各吐出孔７ｂから塗布液の液滴を吐出させ基板Ｗ等の塗布対象物上に塗布液を塗布する塗布液の塗布装置において、所定周波数の振動を発生させる発振装置としての超音波発振装置８と、この超音波発振装置８の発振に伴って圧電素子７ｅから出力される出力信号に基づいて吐出孔７ｂからの塗布液の液滴の吐出状態の良否を判定する制御装置１３とを備える。 （もっと読む）

【課題】幅方向に長く先端で開口しているスリット７が内部に形成されている口金３において、従来では振動波（振動波に基づくキャビテーション）の伝播が充分にされず残っていた固着物を、浮かび上がらせることが可能となり、短時間で所望の洗浄結果を得る。
【解決手段】洗浄槽１１内の振動波を与えた洗浄液Ｌに口金先端９を浸漬させ、スリット７を通じて当該洗浄液Ｌを口金内部へ流入させる。この状態から、スリット７を通じて口金内部に気体を、スリット７の幅方向全長にわたって、流入させる。この後、口金先端９を洗浄槽１１内の振動波を与えた洗浄液Ｌに浸漬させ、スリット７を通じて当該洗浄液Ｌを口金内部へ流入させる。 （もっと読む）

【課題】塗布ロボットを使った液剤塗布において、半導体や医療品に対応したクリーンな塗布を可能とする。
【解決手段】液剤塗布の装置カバー７の上部にＨＥＰＡフィルター６を設け、塗布ヘッド９の下方には、塗布部材（回路基板２）の上面を示すＡ−Ａのラインより下方にＸ−Ｙテーブル部２０の摺動部やＺ軸駆動部４２、Ｘ軸駆動部４３、Ｙ軸駆動部４４を配置し、ダウンフローエアの流れ４５は排気口１７を通過し排出される。 （もっと読む）

【課題】バックアップロールに基材を巻き掛けることなく、吐出部から吐出される塗布液を基材に塗布することができる塗布装置用スロットダイを提供すること。
【解決手段】長手方向に移動する帯状の基材１に対して間隙を空けた状態で近接して配置される吐出部４０を備え、吐出部４０よりも基材移動方向に関して上手側で基材１を支持する上手側支持手段と、吐出部４０よりも基材移動方向に関して下手側で基材１を支持する下手側支持手段との間に配置され、吐出部４０から吐出される塗布液を基材１の塗布面に塗布する塗布装置用スロットダイＳＤ２であって、基材幅方向に沿う横軸心Ｙ２周りに回転自在で当該横軸心方向視にて外周面が円形状に形成され、且つ、吐出部４０に基材移動方向で上手側に近接する箇所において、外周面が塗布面に接触する状態で基材１を支持する回転支持体５０が設けられている塗布装置用スロットダイＳＤ２。 （もっと読む）

【課題】処理対象物の重量が重い場合でも、特にθ方向の位置合わせを高精度かつ容易に行い得る低コストのアライメント機能付きステージを提供する。
【解決手段】基板Ｓをその処理面を開放して保持するステージ本体４ａを備えたアライメント機能付きステージを有し、基板の処理面に背向する他面に吸着自在な吸着手段８と、前記吸着手段での吸着箇所以外の領域に気体を供給する気体供給手段９と、前記吸着手段を回転中心として基板が同一平面内で回転されるように前記吸着手段に回転力を付与する駆動手段１０とを備え、前記駆動手段は、前記吸着手段を所定の微小角度範囲内で回転させる微動機構と、前記吸着手段を微動機構より大きな角度範囲で回転させる粗動機構とから構成され、前記粗動機構が前記吸着手段に直結されている。 （もっと読む）

【課題】パターニング装置において、基板からインクを効率的に除去でき、基板の汚染を抑制すると共に、生産性を向上させる。
【解決手段】パターニング装置１は、基板２０上の所定箇所のインク３０を除去する拭取り機構４を備える。この拭取り機構４は、溶剤４０を含有させたテープ４１と、テープ４１を巻き取る回転式のリール４２と、テープ４１を基板２０上に当接させるテープヘッド４３と、を有する。テープヘッド４３でテープ４１を基板２０に当接させて、テープ４１に基板２０上のインク３０を付着させる。この構成によれば、インク３０をテープ４１で拭取るとき、テープ４１の拭取り面は常に新しい面となるので、効率的にインク３０を除去でき、テープ４１が劣化し難くなる。また、長時間の使用でも削り屑等が発生し難いので、基板２０の汚染を抑制でき、生産性が向上する。 （もっと読む）

【課題】スプレー噴射時には、蛍光体含有液を安定してスプレーノズル１２に供給し、スプレー非噴射時には、不純物を混入させることなく蛍光体含有液を移動させ、これによって、蛍光体含有液が塗布される発光素子の部分的な点欠陥を低減する。
【解決手段】蛍光体塗布装置１０は、蛍光体含有液の移動を調節する移動調節部１８を有している。移動調節部１８は、スプレーノズル１２によるスプレー噴射時には、圧力タンク１５の内部に空気を供給することによって、圧力タンク１５から蛍光体含有液を押し出してスプレーノズル１２に供給する一方、スプレー非噴射時には、上記空気の供給によって圧力タンク１５から蛍光体含有液を押し出し、スプレーノズル１２を介して貯蔵タンク１４に移動させる。 （もっと読む）

【課題】従来の処理装置では、処理効率を向上させることが困難である。
【解決手段】ワークＷを支持する２つのワークテーブル２５と、ワークテーブル２５のそれぞれを、２つのワークテーブル２５間で共通する経路である共通経路を含む移動経路で案内するガイドレール２３及びガイドレール２４と、前記共通経路において、ワークテーブル２５のそれぞれに支持されたワークＷに対向した状態で、対向するワークＷに対して描画処理を施す吐出ヘッド１９と、前記共通経路においてワークテーブル２５のそれぞれが吐出ヘッド１９に対向し得る領域である処理領域７３の外側に設けられ、ワークテーブル２５に支持されたワークＷの高さ位置を、処理領域７３の外側で検出する第１検出装置１４及び第２検出装置１５と、吐出ヘッド１９とワークＷとの間の隙間量を調整する昇降モーター１８と、を有する、ことを特徴とする処理装置。 （もっと読む）

【課題】液晶材料の滴下を微量かつ微細なピッチで行うことができ、結果として液晶パネルの液晶材料層を狭ギャップ化することが可能な液晶材料滴下装置及び液晶材料塗布方法を提供する。
【解決手段】液晶材料を基板に塗布する液晶材料塗布装置であって、液晶材料が貯留される液晶材料貯留手段２２と、液晶材料貯留手段２２に接続され、液晶材料貯留手段２２の内圧を所定範囲内に維持する内圧制御手段１６ａ，１７，２０と、液晶材料貯留手段２２に接続され、液晶材料を基板に塗布するインクジェット方式の塗布手段１１と、を備え、内圧制御手段は、液晶材料貯留手段に大気又は任意の気体を供給する気体供給部１８，１８ａと、液晶材料貯留手段に負圧を供給する負圧供給部１７，１７ａ，２０とを含んで構成されている。 （もっと読む）