【課題】 ノズルを十分清浄に洗浄でき、かつ、そのメンテナンスが容易なノズル洗浄装置および該ノズル洗浄装置を備えた塗布装置を提供する。
【解決手段】 洗浄機構６０は、超音波振動子１５を収納するとともに、この超音波振動子１５を冷却するための冷却水１３を貯留する冷却水貯留部１１を備える。また、洗浄機構６０は、冷却水貯留部１１に貯留された冷却水１３中にその下面が浸漬された状態で配設され、その内部に溶液１４を貯留する溶液貯留部１２を備える。スリットノズル４１を溶液１４中に浸漬した状態で超音波振動子１５が超音波振動を発振した場合には、この超音波振動は、冷却水１３および溶液貯留部１２を介して溶液１４に伝達される。 （もっと読む）

【課題】材料の供給状態を正確に調整して高精度に膜圧形状を制御することが可能な塗布装置及び塗布方法の提供。
【解決手段】実施形態の塗布装置は、塗布対象物に材料を吐出して塗布するノズルと、前記ノズルに供給される材料を貯留する貯留部と、前記貯留部と前記ノズルとを連通する流路と、前記流路の開閉状態を切り替える吐出用ダイヤフラムバルブと、前記流路に接続され前記流路における材料の流量を調整するとともに、そのサックバック量が調節可能なサックバック部と、を有する吐出弁と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】塵ＰおよびレジストＲを基板Ｗの周縁部Ｅから同時に除去する。
【解決手段】基板Ｗの周縁部Ｅに液状の被覆剤Ｃを塗布して、基板Ｗの周縁部Ｅに付着した塵Ｐを液状の被覆剤Ｃによって覆う。そして、基板周縁部Ｅに付着した塵Ｐを覆う被覆剤Ｃを硬化させることで、当該塵Ｐを硬化された被覆剤Ｃの内部に捕捉する。したがって、被覆剤Ｃを基板Ｗの周縁部Ｅから除去することで、基板Ｗの周縁部Ｅから塵Ｐを除去することができる。さらに、基板Ｗの周縁部Ｅに被覆剤Ｃを塗布した後に、基板表面ＷfにフォトレジストＲを塗布するため、基板Ｗの周縁部Ｅでは、フォトレジストＲは被覆剤Ｃの上に塗布される。したがって、基板Ｗの周縁部Ｅから被覆剤Ｃを除去した際には、被覆剤Ｃの上に塗布されたフォトレジストＲも被覆剤Ｃとともに基板Ｗの周縁部Ｅから除去される。こうして、塵ＰおよびフォトレジストＲを基板Ｗの周縁部Ｅから同時に除去できる。 （もっと読む）

【課題】液膜の幅を安定させることができるスリットノズルおよびこれを備えた基板処理装置を提供すること。
【解決手段】スリットノズル１１は、長手方向Ｘ１に延びるスリット状の吐出口５４が形成された吐出部４５と、吐出口５４の長手方向Ｘ１の両端にそれぞれ配置された一対のガイド部４６とを含む。一対のガイド部４６は、長手方向Ｘ１に間隔を空けて対向する一対のガイド面６６をそれぞれ含む。一対のガイド部４６のそれぞれには、ガイド面６６より凹んだ凹部６８が形成されている。 （もっと読む）

【課題】吐出部と対象物の間の離間距離の変動を検査する対象物上の地点が少ない場合でも、吐出タイミングの補正を良好に行うことができる技術を提供すること。
【解決手段】液滴吐出装置は、液滴を吐出する複数の吐出口が形成された吐出部に対して対象物を移動機構によって相対的に移動させ、該吐出部から吐出した前記液滴を前記対象物に着弾させる。液滴吐出装置は、吐出部に対して吐出信号を出力することにより、吐出口からの液滴の吐出を制御する吐出制御部と、対象物上の複数の地点について、対象物の相対的な移動に応じた、吐出部と前記対象物との間の離間距離の変動を検査する検査部と、対象物上の領域のうち、前記複数の地点を除く地点における前記変動を、検査部の検査結果に基づいた演算により補間する補間部と、補間部によって取得された前記変動に関する情報に基づいて、吐出口からの液滴の吐出タイミングを補正する補正部とを備える。 （もっと読む）

【課題】ノズルと基板表面の距離（ギャップ）を精度良く制御することを可能とする。
【解決手段】実施形態にかかる塗布方法は、測定により、基準となるノズルの位置情報である基準情報を検出し、前記基準情報測定の後に、前記ノズルを洗浄し、前記洗浄後に、測定により、前記ノズルの位置情報である実測情報を検出し、前記実測情報、及び前記基準情報の変化量から、ノズルの位置変化量を検出し、前記ノズルの位置変化量が、予め設定されたノズルの許容変化量の範囲内である場合には、前記実測情報を対象情報とし、この対象情報に基づいて前記ノズルの位置調整を行って、塗布対象物に塗布材料を供給し、前記ノズルの位置変化量が、前記許容変化量の範囲外である場合には、再度、前記ノズルを洗浄し、その後、前記塗布対象物に、前記塗布材料を供給することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電極用塗工塗膜を形成する際、塗工精度を保ちつつ、塗工部の終端部にヒゲ形状が生じないように塗工することが可能な二次電池の電極部材の塗工装置および塗工方法を提供すること。
【解決手段】塗料を吐出する塗工用ヘッド（５）と、塗工用ヘッド（５）に塗料を供給する塗料供給装置(１，２)と、塗料供給装置(１，２)から流路仕切弁（４）を介して塗工用ヘッド（５）へ塗料を送液するための第１の流路と、塗料供給装置(１，２)から流路仕切弁（４）を介して塗料供給装置(１，２)に塗料を還流させるための第２の流路と、塗工用ヘッド（５）の近傍に設けられ、塗工停止時に塗工用ヘッド（５）内の塗料を吸引する２つ以上の吸引バルブ（１０）とを備える電極部材の塗工装置。 （もっと読む）

【課題】簡易な構造でわずかな乾燥ムラの発生を抑制することができる塗布物の製造装置および製造方法を提供する。
【解決手段】搬送中の帯状の基材３に有機溶剤を含む塗布液を塗布した後、乾燥炉４を通過させて乾燥する装置であって、乾燥炉は塗布膜が搬入する搬入口を有する搬入側乾燥炉４ａと、塗布膜を搬出する搬出口を有する搬出側乾燥炉４ｃと、両者の間の少なくとも１つの中間乾燥炉４ｂとを備えており、搬入側乾燥炉内外の差圧を−０．１Ｐａ以上０．１Ｐａ以下の範囲となるように制御し、中間乾燥炉内部および搬出側乾燥炉内部の圧力を乾燥炉外部の圧力より１Ｐａ以下の範囲で低くなるように制御する。 （もっと読む）

【課題】 重量が大きく反りが大きい基板に対して塗布液を塗布する場合においても、装置コストを増大させることなく、短い処理時間で精度よく塗布液を塗布することが可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】 基板は、基板搬送機構１４によりステージ１２上に搬送されて、その保持面３０に吸着保持される。そして、ステージ１２上に吸着保持された基板の表面に、スリットノズル４１における塗布液吐出用スリットを近接させた状態で、スリットノズル４１を基板に対して移動させることにより、基板の表面に塗布液を塗布する。しかる後、塗布液が塗布された基板は、基板搬送機構１５によりステージ上から搬出される。 （もっと読む）

【課題】スリットコータのスリット部を清掃する能力を一層向上することができる清掃具及び清掃装置を提供すること。
【解決手段】被塗布面Ｋａ上に塗工液を塗布するスリットコータ１のスリット部２４を清掃する清掃具７であって、スリット部２４に挿入され、スリット部２４を構成する一対の壁部２４１，２４１に付着した塗工液を清掃する清掃部材７３と、一対の壁部２４１，２４１の少なくとも一方に向けて清掃部材７３を付勢する付勢部７４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ガラスペーストの塗布高さを所定の誤差範囲に好適に維持できるペースト塗布装置およびペースト塗布方法を提供することを課題とする。
【解決手段】ノズル５５ａの始点Ｐｓから始端部１０１Ｓを形成する部分ではノズル高さＮｈを基準塗布高さＳｔｄＨより低くしてノズル５５ａが移動し、ノズル５５ａの終点Ｐｅまでの終端部１０１Ｅを形成する部分では、ノズル高さＮｈを基準塗布高さＳｔｄＨより高くしてノズル５５ａが移動し、始端部１０１Ｓが形成される部分および終端部１０１Ｅが形成される部分以外の部分ではノズル高さＮｈを基準塗布高さＳｔｄＨとしてノズル５５ａが移動し、さらに、始端部１０１Ｓと終端部１０１Ｅの少なくとも一部でガラスペーストＧｐが重なって塗布されるようにノズル５５ａが移動することを特徴とするペースト塗布装置およびペースト塗布方法とする。 （もっと読む）

【課題】塗布液が乾燥する前に撓みが生じる状態で持ち上げられる操作が行なわれる基板に対して塗布液を塗布する際に、出来上がった塗布膜の厚さ分布の均一性の悪化を抑制できる塗布方法及び塗布装置を提供する。
【解決手段】本発明の塗布方法は、表面ｆに塗布されたレジスト液ｒが乾燥する前に撓みが生じる状態で持ち上げられる操作が行なわれる基板Ｓに対して塗布液を塗布する塗布方法であって、前記操作で生じ得る基板（Ｓ）の撓みが大きい箇所が小さい箇所に比べてレジスト液ｒの厚さが薄くなるように基板Ｓの表面ｆにレジスト液ｒを塗布する工程を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】ノズルの移動方向の違いで塗布高さに生じる違いを吸収してガラスペーストの塗布高さの精度を確保できるペースト塗布方法およびペースト塗布装置を提供することを課題とする。
【解決手段】有機ＥＬ素子が蒸着された基板８の蒸着部Ａ１の周囲に沿ってノズル５５ａを移動させてガラスペーストを基板８の蒸着部Ａ１の周囲に塗布するペースト塗布方法であって、ノズル５５ａが移動するときのノズル高さを補正するノズル補正量を、蒸着部Ａ１の周囲に沿ってノズル５５ａが移動するときの移動方向ごとに設定する準備工程と、ノズル高さを移動方向ごとにノズル補正量で補正し、ノズル５５ａを蒸着部Ａ１の周囲に沿って移動させてガラスペーストを塗布する塗布工程と、を有することを特徴とするペースト塗布方法とする。また、当該ペースト塗布方法によってガラスペーストを基板８に塗布するペースト塗布装置１００とする。 （もっと読む）

【課題】電気機械変換膜を形成するための原料を含む塗布液をノズルから吐出させて電極上に塗布するときに不要な液滴を電極に付着させることなく、かつ所望パターンの電気機械変換膜を形成することができる。
【解決手段】所定の極性に帯電されているＰＺＴ前駆体溶液２０３がノズルから吐出された後所定時間が経過した後にミスト回収用電極２０９に電圧を印加する。ミスト回収用電極２０９への電圧印加の開始を吐出から所定時間遅らせることで、主液滴３００は電圧が印加されたミスト回収用電極２０９の電界から静電気力を受ける時間を少なくするとともに、ミスト液滴３０１を第１の電極に到達する前に回収される。第１の電極の所定部分に塗布され、基板１１上の所望のパターンに塗布される。 （もっと読む）

【課題】従来の描画装置では、画像の品位を向上させることが困難である。
【解決手段】機能液５３を吐出する吐出ヘッド３３と、ワークＷに塗布された機能液５３から形成されたパターンに向けて赤外光１８を照射する照射装置１７と、照射装置１７から前記パターンに向けて照射された赤外光１８のうち前記パターンを透過した赤外光１８の進路に設けられ、前記パターンを透過した赤外光１８を、相互に波長域が異なる複数の波長域の光９１に分光する分光素子８５と、分光された光９１の進路に設けられ、複数の波長域の光９１のうちの一部の波長域の光９２を透過させる光学フィルター８７と、光学フィルター８７を透過した光９２の進路に設けられ、光９２を受光し、受光した光量に応じた値の信号を出力する受光素子８９と、を有する、ことを特徴とする描画装置。 （もっと読む）

【課題】 例えばフィンガー配線のような塗布パターンを基板の主面に形成する際に、塗布パターンを厚膜（高アスペクト比）に形成することができるパターン形成装置を提供する。
【解決手段】 第１ノズル４１の第１吐出口４７から吐出され、第１ノズル４１の対向面４５と、ステージにほぼ水平に支持されて第１ノズル４１に対して移動する基板９の主面との間に界面張力により存在する、光硬化性を有するペースト７に対して、その側方から光を照射することにより、ペースト７を硬化させる。 （もっと読む）

【課題】インクジェット方式によるカラーフィルタの製造過程において、ノズルの不吐出による白抜け欠陥の発生を完全になくすことができる、インクジェット塗工装置を提供すること。
【解決手段】基板を保持するステージ２の上に、複数のノズルを有するインクジェットヘッド１４を一つ以上備えたヘッドユニット３と、基板上の各開口部が正常に塗工されているかを確認し、塗工異常部を特定するカメラ５とを配置する。本塗工に付随して塗工検査を行うことで、即座に白抜け欠陥発生を検知することが可能であり、同時に不吐出ノズルの発生も検知できる。 （もっと読む）

【課題】生産効率の向上を図りつつ、基板の破損を抑制することが可能となる。
【解決手段】基板Ｗの各主面Ｓ1、Ｓ2へのパターン形成を並行して実行することで、生産効率の向上が図られている。しかも、ディスペンサー３、４、５、６それぞれは、基板Ｗに対して非接触で対向するノズル３１、４１、５１、６１から塗布液を吐出することで、基板Ｗにパターンを形成する。これによって、パターン形成の際に基板Ｗに加わる圧力を小さく抑えることができる。こうして、生産効率の向上を図りつつ、基板の破損を抑制することが可能となっている。 （もっと読む）

【課題】 塗布液による閉図形に対して太りや断線を生ずることなく、閉図形を正確に形成することが可能な塗布方法および塗布装置を提供する。
【解決手段】 ダム剤吐出ノズル１４の高さ位置を通常より低い位置に配置した状態で、ダム剤吐出ノズル１４からダム剤の吐出を開始するとともに、ダム剤吐出ノズル１４の移動を開始する吐出開始工程と、ダム剤吐出ノズル１４から吐出されたダム剤が基板１００の表面に着床した後にダム剤吐出ノズル１４の高さ位置を上昇させる上昇工程と、ダム剤吐出ノズル１４を矩形に対応させて移動させる塗布工程と、ダム剤吐出ノズル１４からのダム剤の吐出を停止するとともに、ダム剤吐出ノズル１４の高さ位置をさらに上方に上昇させる液切り工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】移動するノズルから吐出される処理液の流量の変動を抑えられる技術を提供する。
【解決手段】基板処理装置２０は、基板２００を略水平に保持する基板保持部３０と、基板２００に対して略平行な主走査方向に沿って延びる主走査機構ガイド部４２と、主走査機構ガイド部４２により主走査方向に沿って移動可能に支持されたスライダ４４と、を有する主走査機構４０と、スライダ４４により主走査方向に沿って移動可能に支持され、基板２００に塗布液を吐出する吐出部５０と、吐出部５０に接続されるとともに吐出部５０に塗布液を導く可撓性の塗布液配管８０ｂと、塗布液配管８０ｂの途中の部分を支持するとともに、主走査の繰返しによるスライダ４４の周期的な動きに追随してその向きが周期的に変化する可動配管支持部１００と、を備える。 （もっと読む）