【課題】水蒸気バリア性に優れる液晶ポリエステルから構成される基材層と、水蒸気バリア層とを有し、水蒸気バリア性に優れる積層フィルムを提供する。
【解決手段】基材層を、下記式（１）で表される繰返し単位と、下記式（２）で表される繰返し単位と、下記式（３）で表される繰返し単位とを有し、２，６−ナフチレン基を含む繰返し単位の含有量が、全繰返し単位の合計量に対して、４０モル％以上である液晶ポリエステルから構成し、その少なくとも一方の面上に、水蒸気バリア層を配置する。
−Ｏ−Ａｒ¹−ＣＯ− （１）
−ＣＯ−Ａｒ²−ＣＯ− （２）
−Ｏ−Ａｒ³−Ｏ− （３）
（Ａｒ¹は、２，６−ナフチレン基、１，４−フェニレン基又は４，４’−ビフェニリレン基を表す。Ａｒ²及びＡｒ³は、それぞれ独立に、２，６−ナフチレン基、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基又は４，４’−ビフェニリレン基を表す。） （もっと読む）

【課題】太陽熱発電用フィルムミラーとして過酷な環境下で長期間用いられた場合であっても、ミラー面に歪みが発生せず、正反射率の低下を抑制することである。つまり、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化、大量生産することのでき、しかも耐久性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有するフィルムミラー、その製造方法及びそのフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置を提供すること。
【解決手段】第１の延伸フィルムと第２の延伸フィルムとが、第１の延伸フィルム上に設けられた銀反射層を挟む形で、接着層を介して積層されたフィルムミラーであって、前記第１、第２の延伸フィルムの主たる延伸方向が交差し、その交角が４５度以上９０度以下であることを特徴とするフィルムミラー。 （もっと読む）

【課題】アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基材の表面と銀皮膜との密着性の向上を図った摺動部材及びこの摺動部材の製造方法を提供すること。
【解決手段】シリンダボア３内を摺動する摺動面２２を備えるピストン１において、アルミニウム合金からなる本体１０の外周面１１に樹脂層２０を備え、この樹脂層２０上に摺動面２２を構成する銀皮膜層２１を形成し、この銀皮膜層２１と樹脂層２０との界面３０に、銀と樹脂とが相互に混合された相互混合層２６を設けた。 （もっと読む）

【課題】アルデヒド等の揮発性有機化合物の分解作用に加えて、抗菌（殺菌）性能にも優れた壁紙、特に夜間等の光非照射時にも抗菌（殺菌）作用を発揮する機能性壁紙を提供すること。
【解決手段】発泡樹脂層を含む壁紙基材上に中間層を有し、該中間層上に可視光型光触媒化合物を含有する可視光型光触媒層及び無機抗菌剤を含有する無機抗菌剤層を有する機能性壁紙。 （もっと読む）

【課題】高分子錯体層を用いて基体表面に無電解めっきにより金属パターンを容易に形成することのできる金属パターンの製造方法を提供すること。
【解決手段】半導体デバイス、電子部品評価用テスタ、プローブカード、ＩＣカード、光デバイス等に用いられる基板表面（基体１の表面）に金属微細配線等の金属パターン７を形成するにあたって、まず、高分子層形成工程では、触媒金属イオンと錯体を形成可能な高分子層３を基体１の表面上のめっき予定領域に選択的に形成する。次に、高分子錯体層形成工程では、触媒金属イオンを含む処理液を高分子層３に接触させてめっき予定領域に触媒金属イオンと高分子層３との高分子錯体層４を形成する。次に、無電解めっき工程では、無電解めっき液を高分子錯体層４に接触させて高分子錯体層４上に無電解めっき層５（金属層）を無電解めっきにより形成し、金属パターン７を構成する。 （もっと読む）

【課題】入射角の変化による色調変化を抑制する。
【解決手段】反射層３の積層膜における各層の膜厚に応じて決定される比率αおよび比率βに対して、可視光線透過率、遮蔽係数、青み指標および赤み指標の条件を満足する領域を抽出する。この領域に含まれる比率αおよび比率βに基づき、反射層３の積層膜における各層の膜厚を決定する。 （もっと読む）

【課題】導電性、耐食性に優れ、かつ安価に製造できる塗装金属板を提供する。
【解決手段】本発明は、金属板の少なくとも片面に、有機樹脂（Ａ）と、２５℃の水溶液における標準電極電位が−０．２５〜＋０．９Ｖの範囲にある金属粒子（Ｂ）とを含む塗膜（α）が水系塗装用組成物（β）の塗布により形成されており、前記塗膜（α）中の有機樹脂（Ａ）と金属粒子（Ｂ）の２５℃での体積比が９０：１０〜９９．９：０．１であり、前記有機樹脂（Ａ）が、カルボキシル基、スルホン酸基から選ばれる少なくとも１種の官能基を構造中に含む樹脂（Ａ１）、または更に該樹脂（Ａ１）の誘導体（Ａ２）を含むことを特徴とする、導電性、耐食性塗装金属板である。 （もっと読む）

【課題】反射率の低下を低減する導電性接合材とそれを用いた接合体、及び接合体の製造方法を提供する。
【解決手段】第１の接合材４と、前記第１の接合材４上に設けられている第２の接合材５とを有し、前記第１の接合材４は、第１の粒子９と第１のバインダー１０とを含み、前記第２の接合材５は、第２の粒子１１と第２のバインダー１２とを含んで構成され、前記第２の粒子１１は、前記第１の粒子９が化学反応により生成する化合物の反射率より相対的に高い反射率を有する粒子であることを特徴とする導電性接合材。 （もっと読む）

【課題】輸送の際に触媒層が欠落や損傷することのない保護シート付き触媒層−電解質膜積層体を提供することを課題とする。
【解決手段】電解質膜２、及び電解質膜２の両面に形成される触媒層３を有する触媒層−電解質膜積層体１０と、触媒層３を覆った状態で触媒層３に接着する保護シート４と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、積層結合層と基板との附着力が比較的に強い積層放熱基板および放熱能力が比較的に高い電子組立構造を提供する。
【解決手段】本発明は、積層放熱基板および該積層放熱基板を用いた電子組立構造を提供する。積層放熱基板は、基板と、積層結合層と、絶縁層と、導電層とを含む。積層結合層は、基板上に配置され、少なくとも第一結合層と第二結合層とを含む。第一結合層は、基板上に配置される。第二結合層は、第一結合層上に配置される。絶縁層は、積層結合層上に配置される。導電層は、絶縁層上に配置される。電子組立構造は、上記積層放熱基板と電子部品とを含む。その中、絶縁層と導電層とは、積層結合層上において収容空間を形成し、収容空間に積層結合層が露出される。電子部品は、収容空間内かつ積層結合層上に配置されると共に、導電層に電気的に接続される。電子部品は、発光ダイオードであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】グレージングの良好な美、および熱処理（焼きなまし、強靭化、曲げ、折り畳み）に対する良好な耐性を有する高い機械的および化学的耐久性の両方を保証する膜を提供する。
【解決手段】積層が、連続的に、１．８〜２．３の屈折率ｎ₁および５〜５０ｎｍの幾何学的厚さの第１層（１）、１．３５〜１．６５の屈折率ｎ₂および５〜５０ｎｍの幾何学的厚さｅ₂の第２層（２）、１．８〜２．３の屈折率ｎ₃および４０〜１５０ｎｍの幾何学的厚さｅ₃の第３層（３）、１．３５〜１．６５の屈折率ｎ₄および４０〜１５０ｎｍの幾何学的厚さｅ₄を有する第４層（４）を含む薄層の積層（Ａ）からなる透明基板（６）。 （もっと読む）

【課題】厚さ30μm以下の金属リチウム薄膜が安定して製造され、且つ金属リチウム薄膜の転写が容易な多層フィルムを提供することにある。
【解決手段】金属箔の少なくとも片面にプラスチック膜を有し、更にプラスチック膜の少なくとも片面の表面に金属リチウム薄膜を有し、該金属泊がBe、C、Mg、Al、Si、S、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Mo、Ag、In、Sn、Sb、Ta、W、Pt及びAuからなる群から選択される金属元素の少なくとも1種を含む多層フィルム。 （もっと読む）

【課題】金属層の耐硫化性を優れたものとし、金属層の腐食（例えば変色）を抑制することができる金属層の腐食防止方法。
【解決手段】第１１族の金属から得られる金属層を、（Ａ）エポキシ基、（メタ）アクリロイル基、アミノ基、カルビノール基、メルカプト基、カルボキシル基およびフェノール基から選ばれる反応性官能基を１分子中に少なくとも１つ以上有するオルガノポリシロキサン１００質量部と、（Ｂ）亜鉛化合物０．０１〜５質量部とを含有するシリコーン樹脂組成物から得られるシリコーン樹脂層で覆い、前記金属層の腐食を防止する、金属層の腐食防止方法。 （もっと読む）

【課題】高周波領域での電気特性に優れたフィルムアンテナ、および、それに用いるアンテナ基板用の樹脂フィルムの提供。
【解決手段】式（１）のビニル化合物（Ａ）、エラストマー（Ｂ）、少なくとも１分子中に２個以上のイソシアネート基またはブロックされたイソシアネート基を含むウレタンプレポリマー（Ｃ）、シランカップリング剤（Ｄ）を含有し、前記（Ａ）成分１００％に対する前記（Ｂ）成分の質量割合が１０〜９０％である樹脂組成物を用いて作成される、アンテナ基板用フィルム。


［式（１）中、Ｒ¹〜Ｒ⁷は水素、アルキル基等；−（Ｏ−Ｘ−Ｏ）−のＸはジフェニレン骨格；−（Ｙ−Ｏ）−のＹはフェニレン骨格；Ｚは有機基；ａ、ｂは一方が０でない０〜３００の整数；ｃ、ｄは０または１の整数］ （もっと読む）

【課題】密着性に優れた引出し電極形成用の金属層を有するタッチパネル用透明導電性フィルムを提供すること。
【解決手段】透明フィルム基材の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の機能層を介して透明導電層が設けられていると共に、引出し電極形成用の金属層が最外層として設けられてなるタッチパネル用透明導電性フィルムにおいて、前記透明導電層と前記金属層との間に、酸化アルミニウムを５重量％以下の割合にて含有する酸化亜鉛、又は酸化ガリウムを１０重量％以下の割合にて含有する酸化亜鉛からなる密着層を設けた。 （もっと読む）

【課題】金属層の耐硫化性を優れたものとし、金属層の腐食（例えば変色）を抑制することができる金属層の腐食防止方法を提供する。
【解決手段】第１１族の金属から得られる金属層を、（Ａ）１分子中に反応性官能基を少なくとも１つ以上有するオルガノシロキサン１００質量部と、（Ｂ）ニッケル、銅およびガリウムからなる群から選ばれる少なくとも１種を有する金属化合物とを含有するシリコーン樹脂組成物から得られるシリコーン樹脂層で覆い、前記金属層の腐食を防止する、金属層の腐食防止方法。 （もっと読む）

【課題】金属ナノ構造体の形状・サイズがより自在にデザインされた金属ナノ構造体を表面に備える基板を製造し得る方法の提供。
【解決手段】複数種類のポリマーが結合したブロックコポリマーを含む層を基板表面に形成した後、当該層を相分離させる工程と、前記層のうち、前記ブロックコポリマーを構成する複数種類のポリマーのうちの少なくとも一種類のポリマーからなる相を選択的に除去し、前記基板表面の一部を露出させる工程と、露出された基板表面に金属イオンを接触させ、基板表面と金属イオンとの間に起こる電気化学反応により、当該基板表面に金属を析出させる工程と、を有する金属ナノ構造体を表面に備える基板の製造方法、並びに当該製造方法により製造された金属ナノ構造体を表面に備える基板。 （もっと読む）

【課題】薄板ガラスの一方の表面に保護フィルムを貼付け他方の面に透明導電膜を形成した透明導電性ガスバリヤフィルムにおいて、保護フィルムとしてＰＰフィルムのように耐熱性のないものを用いても、透明導電膜を低抵抗に形成できるようにする。
【解決手段】透明導電性ガスバリヤフィルム１は、ガスバリヤ層となる基材フィルム１０の裏面に保護フィルム（ＰＰフィルム）２０が貼付けられ、表面に透明導電膜３０が形成されている。透明導電膜３０は、ＩＴＯ層３１、Ａｇ合金からなるＡｇ層３２、ＩＴＯ層３３の３層を順次積層してなる積層膜であって、ＩＴＯ層，Ａｇ層は、スパッタリング法で形成できる。 （もっと読む）

【課題】フィルムミラーとしての取扱性を維持しながら、太陽熱発電用光反射フィルムとして過酷な環境下で長期間用いられた場合にも、高い正反射率を長期間維持することが可能であり、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできる、耐光性及び耐候性に優れ、太陽熱に対して良好な正反射率を有する太陽熱発電用光反射フィルム及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することにある。
【解決手段】太陽光入射側の最表面に、ポリシロキサン、ポリカプロラクトン及びポリジメチルシロキサン系共重合体を構成要素とする共重合体を含有する表面層と、１層以上の樹脂基材と金属反射層を有することを特徴とする太陽熱発電用光反射フィルム。 （もっと読む）

【課題】 低抵抗で高透過性の透明導電膜積層体及びその製造方法、並びに薄膜太陽電池及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 透明導電膜（Ｉ）上に、透明導電膜（ＩＩ）が積層された透明導電膜積層体において、透明導電膜（Ｉ）は、アルミニウム及びガリウムから選ばれる１種以上の添加元素を含み、添加元素の含有量が、−２．１８×［Ａｌ］＋１．７４≦［Ｇａ］≦−１．９２×［Ａｌ］＋６．１０で示される範囲内である。透明導電膜（ＩＩ）は、アルミニウム及びガリウムから選ばれる１種以上の添加元素を含み、添加元素の含有量が、−［Ａｌ］＋０．３０≦［Ｇａ］≦−２．６８×［Ａｌ］＋１．７４で示される範囲内である。但し、［Ａｌ］は、Ａｌ／（Ｚｎ＋Ａｌ）の原子数比（％）で表したアルミニウム含有量であり、一方、［Ｇａ］は、Ｇａ／（Ｚｎ＋Ｇａ）の原子数比（％）で表したガリウム含有量である。 （もっと読む）