【課題】パターンが固化されたインプリント材とモールドとを剥離する際にパターンの破壊や下地基板における膜の剥がれを防止し、歩留まりを向上させる。
【解決手段】パターンが形成されたモールド１０３を、被加工基板１０１の被加工面上のインプリント材１０２に接触させてパターンを転写するパターン形成装置であって、モールドを角度を調整し得る状態で把持する把持部３と、モールドが被加工基板上のインプリント材に接触するように、あるいは離型するように、把持部を移動させる移動部２と、モールドの離型時における移動部の離型速度、モールドと被加工基板との間の離型角度を含む離型条件の少なくとも一つが可変となるように制御する制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】パターン形成性およびラインエッジラフネスに優れたパターンを提供する。
【解決手段】化合物（Ａ）と溶剤（Ｂ）とを含有し、前記化合物（Ａ）が、基材と共有結合および／または相互作用可能な基（Ｋａ）、ならびに、インプリント用硬化性組成物と共有結合および／または相互作用可能な基（Ｋｂ）の少なくとも一方を有し、かつ、（式１）で算出できる大西パラメータ（Ｚ）が３．８以上であり、かつ、分子量４００以上であることを特徴とするインプリント用下層膜組成物。
（式１） 大西パラメータ＝（全原子数）／（炭素数−酸素数） （もっと読む）

【課題】 本発明は、高屈折率材料の形成技術や加工技術を要することなく、凹凸構造のアライメントマークを光学的に識別することを可能とし、高いアライメント精度で位置合わせすることができるインプリント用テンプレート、インプリント用テンプレートの製造方法、およびインプリント方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 テンプレート基板に銀イオンを含有するイオン交換表面層を備えた高エネルギービーム感受性ガラス基板を用い、アライメントマークの凸部における可視光域の光に対する光学濃度を、前記アライメントマークの凹部における可視光域の光に対する光学濃度よりも高くすることにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】インプリント処理に際し、基板上に予め存在するパターンと、新たに形成される樹脂のパターンとの重ね合わせに有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】インプリント装置１は、第１波長と、特定の波長帯域に存在する第１波長以外の第２波長とを含む光９を受光し、第１波長の光と第２波長の光とに分離する光学素子２１を含み、パターンを形成すべき基板１０上の領域に予め存在する基板側パターン２０を加熱させる基板加熱機構６と、パターンを形成するに際し、基板加熱機構６により、光学素子２１にて分離された第２波長の光を用いて基板側パターン２０を熱変形させることで、型８に形成されているパターン部８ａの形状に対し、基板側パターン２０の形状を補正させる制御部７とを備える。ここで、樹脂１４は、特定の波長帯域に存在する第１波長の光を受光することで硬化する光硬化性樹脂である。 （もっと読む）

【課題】耐久性が高く、かつ安価な複製モールドを提供する。
【解決手段】本発明に係る複製モールド１は、ナノインプリント用の複製モールド１であって、基体１０と、基体１０上に形成され、主成分が無機ナノ粒子と樹脂からなり、表面に凹凸が形成された複製モールド構造体２０とを具備する。複製モールド構造体２０は、押し込み弾性率が４０００Ｎ／ｍｍ^２以上、７４０００Ｎ／ｍｍ^２以下であり、線熱膨脹係数が１０×１０^−５Ｋ^−１未満であり、かつ、３６５ｎｍにおける透過率が７０％以上である。 （もっと読む）

【課題】パターン欠陥の少ないパターンを形成可能なインプリント用硬化性組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）重合性化合物および（Ｂ）光重合開始剤を含有するインプリント用硬化性組成物であって、溶剤を除く全成分の合計重量に対する含有水分の割合が０．８重量％未満であるインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】加工自由度に優れたモールドの製造方法及びこのモールドを用いて得られる表面微細構造部材を提供すること。
【解決手段】モールド（１０）は、ロール表面にレジスト層を形成した後、レジスト層にレーザー光を照射してパターニングされる。このように得られたモールド（１０）には、２つ以上のパターン部（１０ａ〜１０ｄ）が、ロール形状のモールド（１０）の外周に沿って設けられているとともに、互いに並列して配置されており、パターン部（１０ａ〜１０ｄ）には、モールド（１０）の外周に微細構造が形成されており、各パターン部（１０ａ〜１０ｄ）を構成する微細構造の大きさは１μｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの表面の転写パターン形成領域に成膜ガスを供給して離型膜を形成するにあたり、テンプレートの側面及び裏面に前記離型膜が形成されることを防ぐ技術を提供すること。
【解決手段】転写パターン形成領域に、局所的に前記成膜ガスを供給して前記離型膜を形成するための成膜ガス供給部と、前記転写パターン形成領域の周囲に形成される外側領域に前記転写パターン形成領域の外周に沿ってパージ用流体を供給するパージ用流体供給部と、前記外側領域において前記パージ用流体が供給される領域の内側を前記転写パターン形成領域の外周に沿って排気して、外側領域を転写パターン形成領域に向かう前記パージ用流体と、転写パターン形成領域からテンプレートの側面へ向かう前記余剰の成膜ガスとを除去するための排気部と、を備えるように装置を構成してガスの側面への回りこみを防ぐ。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、ベース膜厚のバラツキを低減できるスタンパ又はインプリント装置、精度のよい微細パターンを形成できる処理製品製造装置又は処理製品製造方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、スタンパ又は前記スタンパを用いてインプリントするインプリント装置又は前記インプリントによって処理製品を製造する処理製品製造装置又は処理製品製造方法において、前記スタンパは前記処理製品として機能を果たす正規パターンが必要とする深さ以上のダミー部分の深さを備えるダミーパターンを有する。 （もっと読む）

【課題】シリンダー状の金型をパターン母型として使用して透光性基材上に活性エネルギー線硬化性樹脂を用いて作成することで、所望のレンズ形状及び強拡散性能を得ることができ、高い表面耐擦傷性能を得ることが可能となる。
【解決手段】凹凸部が活性エネルギー線硬化性樹脂を介して透光性基材表面に凹凸構造が付与された金型４０を圧着させ、前記硬化性樹脂を介さない金型４０と透光性基材との圧着部における金型４０の幅方向接線長Ｌ０に対する透光性基材の幅方向接線長Ｌ２との接触長さ率Ａが０．１≦Ａ≦０．７であり、成形離型補助部４２が金型４０の表面に付与された箇所と、透光性基材とが接触点を有さず、その接触部と非接触部とが少なくとも１回以上繰り返してなり、透光性基材の法線方向での成形離型補助部４２の凹部４２ａとの距離ｈ_１が２０μｍ＜ｈ_１＜２００μｍとなるように製造される光学シートの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】微細かつ均一なパターンの形成に好適なパターン形成方法およびパターン刑生体を提供することを目的とする。
【解決手段】レジストパターンが形成される領域は、ハードマスク層に形成した段差の領域よりも大きくし、ハードマスクの上段部は基板表面を覆うようにハードマスク層を残存させることと、下段部は基板表面の一部が露出するようにハードマスク層へ異方性エッチングを行うことで、基板に均一なパターンを形成することができる。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、ベース膜厚のバラツキを低減できるスタンパ又はインプリント装置、精度のよい微細パターンを有する処理製品、精度のよい微細パターンを形成できる処理製品製造装置又は処理製品製造方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、スタンパ又は前記スタンパを用いてインプリントするインプリント装置、前記インプリントによって処理製品を製造する処理製品製造装置又は処理製品製造方法、及び製造された処理製品において、前記スタンパは前記処理製品基材から形成される処理製品の機能を果たすのに必要のないダミーパターンを有する。 （もっと読む）

【課題】光学シートを形成するロール金型を製造するに際し、溝の切削開始部と溝の切削終了部とで、溝形状が変化してしまうことを抑制できるロール金型の製造方法を提供する。
【解決手段】凹凸形状を有する光学シート１０の凹凸部分を成型するための環状突起２２と溝２３とを交互に有するロール金型２０を製造する方法であって、表面に被加工層が形成されたロール基体２１を回転させ、切削工具３０により光学シートの凸部１３に対応する溝を被加工層に形成する切削工程を含み、該切削工程は、溝が完成後の開口部形状を有するように溝の開口部側の一部を切削する第１切削工程と、該第１切削工程によって開口部側の一部が切削された溝であって、該溝の両側の溝に対しても第１切削工程が行われているについて、目的の深さまで切削する、第２切削工程とを含んでいることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板処理のスループットを向上させると共に、基板と塗布膜の密着性を向上することができる基板の処理方法及び基板の処理装置を提供すること。
【解決手段】ウエハＷの表面に形成された密着膜の少なくとも一部の表面に形成された塗布膜に、凹凸パターンが設けられた転写面を備えるテンプレートの転写面を転写するインプリント処理に供するウエハの処理方法であって、ウエハを回転させながら、ウエハの表面に密着剤を供給する供給工程（ステップＳ−５）と、ウエハを回転させながら、ウエハの表面に気体を供給して、余剰な密着剤を除去する除去工程（ステップＳ−７）を具備する。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントにおいて、インプリント部材の剛性によらず、いかなるインプリント部材を使用しても、モールドの凹凸パターンをその中央部分からレジストに接触させることを可能とする。
【解決手段】ナノインプリント装置１０において、インプリント部材１が所定の撓み状態を維持するように、インプリント部材１に外力を作用させてそのインプリント部材１に永久歪みを付与する歪み付与デバイス２０と、歪み付与デバイス２０によって永久歪みが付与されたインプリント部材１を使用して、モールド１の凹凸パターン２を基板６上に配置されたレジスト７に押し付けて、レジスト７に上記凹凸パターン２を転写するインプリントユニット４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】硬化膜の表面ラフネスが改善されたインプリント用硬化性組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）重合性化合物、（Ｂ）重合開始剤および（Ｃ）非重合性化合物を含有するインプリント用硬化性組成物であって、前記非重合性化合物（Ｃ）として、（Ｃ１）フッ素原子を２０質量％以上含有する少なくとも１種の界面活性剤、および（Ｃ２）フッ素原子を３質量％以上２０質量％未満および／またはケイ素原子を５質量％以上４０質量％未満含有し、かつ重量平均分子量（Ｍｗ）が１０００〜１０００００である少なくとも１種の重合体を含有するインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントにおいて、モールドの耐久性を向上させる。
【解決手段】微細な凹凸パターン１３を表面に有するモールド本体１２と、この表面に形成された離型層１４とを備えたナノインプリント用のモールド１において、離型層１４が、主鎖を構成する原子数が２０未満である短鎖離型剤２０と、主鎖を構成する原子数が２０以上である長鎖離型剤２２とを含むものとする。 （もっと読む）

【課題】基板外周部の非所望領域にレジストが拡がることを防止しながらインプリントすることができるインプリント方法を提供すること。
【解決手段】実施形態のインプリント方法では、インプリントの際に基板上でレジストを進入させたくない最外周領域よりも内側のパターン形成領域に前記レジストを滴下する。そして、テンプレートのテンプレートパターンを前記基板上のレジストに押し当てることにより、前記テンプレートパターンに前記レジストを充填させる。前記最外周領域を含むインプリントショットに対してインプリントを行う場合、前記最外周領域と前記パターン形成領域との境界を含む所定幅の光照射領域に前記レジストを硬化させる光を照射して、前記最外周領域内に進入しようとするレジストを硬化させる。そして、前記テンプレートパターンに充填されたレジストを硬化させる光を前記テンプレート上に照射する。 （もっと読む）

【課題】歩留まりよくパターンを形成することができるパターン形成装置、パターン形成方法及びパターン形成用プログラムを提供する。
【解決手段】実施形態に係るパターン形成装置は、凹凸部を有するテンプレートを被転写物に押印し、凹凸部の形状が転写されたパターンを形成する装置である。パターン形成装置は、計算部と、調整部と、転写部と、を備える。計算部は、パターンの設計情報を用いてテンプレートをパターンから離型する際にパターンに加わる力の分布を計算する。調整部は、計算部で計算した力の分布を均一化するための形成条件及びパターンの設計情報の少なくともいずれかを調整する。転写部は、調整部で調整した形成条件及び設計情報の少なくともいずれかにより凹凸部の形状を被転写物に転写する。 （もっと読む）

【課題】モールドを樹脂に押し付けたときの圧力によって凝縮する気体の樹脂に対する溶解量の不均一性を低減し、転写されるパターンの均一性の向上に有利な技術を提供する。
【解決手段】基板の上にモールドのパターンを転写するインプリント装置であって、前記基板の上に供給された樹脂に前記モールドを押し付けた状態で当該樹脂を硬化させ、硬化した樹脂から前記モールドを剥離することで前記基板の上に前記モールドのパターンを転写するインプリント処理を行う処理部を有し、前記樹脂には、フッ素化合物を含む気体又は液体が溶解されていることを特徴とするインプリント装置を提供する。 （もっと読む）