【課題】量産性に優れ、微細パターンに欠陥が生じるのを抑制することのできるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本実施形態のパターン形成方法は、第１基板上に、凹凸パターンを有し第１被インプリント剤を含む材料からなるパターン膜を形成する工程と、第２基板上に、前記第１被インプリント剤よりもエッチングレートの高い第２被インプリント剤を含む材料膜を形成する工程と、前記パターン膜を前記材料膜に対向させて前記第１基板と前記第２基板間に圧力を印加するとともに、前記第２被インプリント剤を硬化させることにより前記パターン膜の前記凹凸パターンを、前記材料膜に転写する工程と、前記第１基板を前記パターン膜から剥離する工程と、前記材料膜をエッチングにより除去し、前記第２基板上に前記パターン膜を残す工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】その表面の凹凸形状により高級感のある意匠性と、加工適性及び使用適性とを有する化粧シートを安価にかつ容易に製造できる製造方法、化粧シート及びこれを用いた化粧板を提供する。
【解決手段】硬化させた凹凸賦型層を有する賦型シートと、未硬化の樹脂組成物層を有する積層体Ｉとを、該凹凸賦型層と樹脂組成物層とが対面するようにラミネートさせた後、電離放射線を照射して未硬化の樹脂組成物層を硬化させて凹凸層を形成することを特徴とする化粧シートの製造方法、ならびに基材シートＢ、凹凸層、凹凸賦型層、凹凸付与層、及び基材シートＡを順に有し、凹凸付与層、凹凸賦型層及び凹凸層が所定の関係を有する化粧シートである。 （もっと読む）

【課題】下層膜にダメージを与えることなく基板上のパターンを反転させることができるパターン材料を、基板上に成膜することが可能な成膜方法を提供すること。
【解決手段】実施形態によれば、成膜方法が提供される。前記成膜方法では、所望のレイアウトパターンを反転させた反転パターンを第１の基板上に形成する。そして、前記所望のレイアウトパターンのパターン材料を反転材料として第２の基板上に供給する。この後、前記反転パターンを前記反転材料に対向して接触させることにより、毛細管現象を利用して前記反転材料を前記反転パターンに充填する。 （もっと読む）

【課題】アライメントが完了するまでの間、アライメントマークにレジストが入り込むことを防止できるインプリント方法を提供すること。
【解決手段】実施形態のインプリント方法では、第１のアライメントマークを有した基板上にレジストを滴下する。そして、第２のアライメントマークを有したテンプレートのテンプレートパターンを前記レジストに押し当てながら、前記第１のアライメントマークと前記第２のアライメントマークとの間の位置合わせ処理を行う。このとき、前記第２のアライメントマーク内に前記レジストが充填されないよう前記第２のアライメントマーク近傍の光照射領域に前記レジストを硬化させる光を照射する。そして、前記位置合わせ処理した状態を維持しつつ前記テンプレートパターンおよび前記第２のアライメントマークに前記レジストを充填させ、その後、前記テンプレート上に前記光を照射する。 （もっと読む）

【課題】型に対する樹脂の充填性や離型性に有用なガスを利用する場合でも、基板全体に施される処理の均一性で有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】インプリント装置１は、基板１２上の未硬化樹脂１５を型８により成形して硬化させて、基板１２上に硬化した樹脂１５のパターンを形成する。このインプリント装置１は、型８と未硬化樹脂１５との押し付けに際し、型８の側から基板１２上に向けてガスを供給し、かつ供給されたガスを型８の側で回収するガス供給機構４と、基板１２を保持しつつ移動可能であり、かつ、保持された基板１２の表面に合わせた表面高さで基板１２を囲むように外側に配置される平板部２２を有する基板保持部５と、基板保持部５に保持された基板１２の外周側面と、平板部２２の基板１２に向かう内周側面との間に存在する間隙領域２４に入り込んだガスを回収するガス回収機構２５とを有する。 （もっと読む）

【課題】パターン欠陥の発生を抑えるのに有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】このインプリント装置１は、基板１０上の未硬化樹脂１６を型６により成形して硬化させて、基板１０上に硬化した樹脂１６のパターンを形成する。ここで、インプリント装置１は、型６を引き付けて保持する保持機構１１を有する型保持部３と、基板１０を保持する基板保持部４と、保持機構１１に保持された状態の型６を、該型６に接する空間１３の圧力を調整することで基板１０に向かい凸形に変形させる圧力調整部１５と、凸形に変形した型６と、樹脂１６との引き離し動作中に、型６の姿勢を変化させることで型６と樹脂１６とが接触する接触領域２４の位置を移動可能とする駆動部１８と、接触領域２４の状態を示す画像情報を取得する測定部２３と、画像情報に基づいて駆動部１８の動作を制御する制御部５と、を有する。 （もっと読む）

【課題】
本発明により、転写装置において、レジスト膜厚、及び被転写材の薄い厚みを従来よりも高精度に制御することができる。
【解決手段】
シリコンウェハなどの金型と被転写体、またはレジストフィルムとが接触する面内の、出来るだけ生産に関係の無い一部に微小穴を開けておき、その微小穴から被転写体のみの膜厚を測定する従来よりも高精度センサを取り付けることにより、被転写体のみの寸法が測定でき、転写中における寸法変化に線形性のある簡素な補正値を掛けることにより従来よりも高精度な薄膜の厚み制御を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの長寿命化を図りつつ欠陥の少ない高スループットなパターン転写を行うことができるインプリント方法を提供すること。
【解決手段】実施形態のインプリント方法では、基板上の被加工膜上にレジスト層を成膜する。そして、テンプレートを前記基板に押し当てる際にテンプレートパターンよりも外側の領域であるパターン外側領域が近接してくる前記基板上の位置に、レジスト液滴を滴下する。その後、前記レジスト層に前記テンプレートを近づけていき、前記レジスト液滴に前記パターン外側領域を押し当てるとともに、前記テンプレートパターンの凹部と前記レジスト層とが接触することなく前記テンプレートパターンの凹部と前記レジスト層との間の間隙が所定の距離となるまで前記テンプレートパターンの凸部を前記レジスト層内の途中深さまで刺し込み、その後、前記レジスト層を硬化させる。 （もっと読む）

【課題】基板外周部の非所望領域にレジストが拡がることを防止しながらインプリントすることができるインプリント方法を提供すること。
【解決手段】実施形態のインプリント方法では、インプリントの際に基板上でレジストを進入させたくない最外周領域よりも内側のパターン形成領域に前記レジストを滴下する。そして、テンプレートのテンプレートパターンを前記基板上のレジストに押し当てることにより、前記テンプレートパターンに前記レジストを充填させる。前記最外周領域を含むインプリントショットに対してインプリントを行う場合、前記最外周領域と前記パターン形成領域との境界を含む所定幅の光照射領域に前記レジストを硬化させる光を照射して、前記最外周領域内に進入しようとするレジストを硬化させる。そして、前記テンプレートパターンに充填されたレジストを硬化させる光を前記テンプレート上に照射する。 （もっと読む）

【課題】モールド作製時の負担を軽減して、ナノインプリント技術の高スループット化および低コスト化を可能にする。
【解決手段】モールドを押し付けてパターニングした未効果のレジスト上に、再度（１回または複数回にわたり）モールドを押し付けることによってパターニングを行う。つまり、同一レジスト上でダブルパターニングを行う。レジストとしては、硬化前に２度以上のパターニングが可能なものを使用する。再度のパターニングは、最初のパターニングに使用したモールドを、位置を変えて（それまでにパターニングを施した範囲から完全には逸脱しない範囲で位置を変えて）使用するのがよい。 （もっと読む）

【課題】実施形態によれば、下地段差に起因するパターン加工不良を抑制できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、パターン形成方法は、被加工膜上に第１のインプリントレジストを形成し、第１のテンプレートの平坦面を第１のインプリントレジストの表面に接触させた状態で第１のインプリントレジストを硬化させ、第１のインプリントレジストの表面を平坦化する工程を備える。また、第１のインプリントレジストの平坦面上に形成された中間転写膜上に第２のインプリントレジストを形成し、第２のテンプレートの凹凸を第２のインプリントレジストに接触させた状態で第２のインプリントレジストを硬化させ、第２のインプリントレジストに凹凸パターンを形成する工程を備える。 （もっと読む）

【課題】微細構造形成用型および光学素子の製造方法において、被加工体の表面形状が変化しても、被加工体の表面に反射防止構造を容易かつ迅速に形成することができるようにする。
【解決手段】曲率を有する凹レンズ面１ａを備えるレンズ本体１の凹レンズ面１ａに凹凸形状の反射防止部を形成する微細構造形成用型５であって、反射防止部を転写する成形面部５ａと、成形面部５ａを湾曲可能に支持する基体部５と、基体部５を変形することにより成形面部５ａを湾曲させる空洞部６、環状空洞部７、および流体供給部８と、を備える表面加工装置１０を用いて、反射防止部を形成する。 （もっと読む）

【課題】光インプリント材料を提供すること。
【解決手段】下記式（１）及び／又は式（２）で表されるシリコーン骨格を有する化合物および光重合開始剤を含む光インプリント材料。


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【課題】外部環境からの熱に起因した熱変形を低減するのに有利な型を提供する。
【解決手段】この型８は、被処理体１３に対して成形すべきパターンが形成されたパターン部８ａを有する。パターン部８ａが設置されている側の面は、パターン部８ａが配置された第１面と、パターン部８ａが配置されていない第２面８ｂとを含む。型８は、第２面８ｂの表面に、外部環境からの熱を拡散させる熱拡散膜４０（４２、４５）を有する。 （もっと読む）

【課題】繰り返してパターン形成しても、パターン形成性に優れたインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】重合性化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）および非重合性化合物（Ｃ）を含有するインプリント用硬化性組成物であって、該インプリント用硬化性組成物に対する前記非重合性化合物（Ｃ）の溶解が発熱的であることを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】レプリカモールドの製造に際し、ブランクモールドの凸部に対してパターン部を形成するのに有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】このインプリント装置１は、被処理部材７を保持しつつ移動可能とする部材保持部３と、原版１３を保持しつつ移動可能とする原版保持部４と、原版保持部４に設置され、被処理部材７の表面との距離を計測する計測部１６と、被処理部材７に対して原版保持部４を平面駆動させつつ計測部１６が計測した計測値に基づいて凸部７ａの位置を特定し、凸部７ａとパターン部１３ａとの位置合わせを実施させた後、部材保持部３または原版保持部４の少なくともいずれか一方を駆動させることで接触を実施させる制御部６とを有する。 （もっと読む）

【課題】高精度の微細パターンを有するインプリント用のパターンの形成方法およびテンプレートの製造方法を提供する。
【解決手段】基板３１にクロム薄膜４１を積層し、クロム薄膜４１上に重合性樹脂層３３を形成して、準備した透明のインプリント用テンプレート１０と石英基板３１上の重合性樹脂層３３とを重ね合わせて、インプリント用テンプレート１０のパターンである第１のパターン１３により重合性樹脂層３３を賦型し、重合性樹脂層３３に第１のパターンの逆型形状である凹凸で構成された第２のパターン４３を形成する。第２のパターン４３をマスクとして石英基板３１上に第３のパターン４５を形成する。第３のパターン４５をマスクとして基板３１の表面に凹凸で構成された第４のパターン４７を形成する。 （もっと読む）

【課題】高密度磁気記録を行うには、磁性体を充填する細孔を微細にする必要があり、その微細な加工を短時間で行い、製造コストの低減ならびにスループットの向上を図る。
【解決手段】加工速度が早い加工装置により、基板に比較的大きな凹パターンを形成した後、その凹パターン内に薄膜を形成することにより、微細で均一なパターンを低コストかつ高スループットのプロセスによって、形成できる。この基板内に磁性体を埋め込むことで、パターンドメディアが形成される。また、この基板をインプリントモールド原版またはインプリントモールドとして用いることにより、磁気特性に優れた磁性層を有するパターンドメディアの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの洗浄時間を短縮できるテンプレート洗浄装置を提供すること。
【解決手段】実施形態のテンプレート洗浄装置は、表面に凹凸パターンおよび溝部が形成されているインプリント用のテンプレートの前記溝部のイメージを取得するためのイメージ取得手段１０を具備する。実施形態のテンプレート洗浄装置は、さらに、前記イメージ取得手段１０により取得された前記溝部のイメージと、予め取得しておいた基準イメージとを比較して、前記テンプレートの洗浄時間を決定する機能を含む洗浄時間決定手段１２を具備する。実施形態のテンプレート洗浄装置は、さらに、前記洗浄時間決定手段１２により決定された洗浄時間に基づいて、前記テンプレートを洗浄するための洗浄手段１３を具備する。 （もっと読む）

【課題】 型に形成されているパターンと、基板上に既に形成されているパターンとの重ね合わせ精度の向上に有利なインプリント装置を提供すること。
【解決手段】 本発明のインプリント装置は、基板上のインプリント材を型により成形して前記基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、前記型はパターン部を有する面を有し、前記型を保持する型保持手段と、前記基板を保持する基板保持手段と、前記パターン部と前記基板上に既に形成されているショットとの形状の違いに関する情報を取得する第１の取得手段とを有し、前記パターン部と前記インプリント材が接触している状態における前記型と前記基板との間隔を前記第１の取得手段により取得した前記形状の違いに関する情報に基づいて調整するために、前記型保持部と基板保持部の少なくとも一方を制御する制御手段を有することを特徴とする。 （もっと読む）