【課題】ＰｂＯを実質的に含有せず、５００℃程度で仮焼成しても失透したり結晶が析出したりすることがなく、４５０〜４８０℃で気密封着できるビスマス系ガラス組成物およびビスマス系封着材料を提供する。
【解決手段】モル％表示で、Ｂｉ₂Ｏ₃ ３５〜５０％、Ｂ₂Ｏ₃ ２０〜３５％、ＺｎＯ １０〜２５％、ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＭｇＯ＋ＣａＯ ３〜１５％、ＢａＯ １〜１５％、ＣｕＯ＋Ｆｅ₂Ｏ₃ １〜１１％、Ｓｂ₂Ｏ₃ ０．１〜５％を含有するビスマス系ガラス組成物と耐火性フィラー粉末とを混合した封着材料であって、混合割合を体積％表示で、ビスマス系ガラス組成物が４０〜９０％、耐火性フィラー粉末が６０〜１０％とする。 （もっと読む）

【課題】 特に、抵抗値のばらつきが小さく、温度係数の小さい抵抗体を形成するための抵抗体ペースト、及び前記抵抗体ペーストを用いて形成された抵抗体、ならびに、前記抵抗体を用いて形成された回路基板を提供することを目的としている。
【解決手段】 本実施形態における抵抗体ペーストは、鉛を含有しないガラス組成物と、ＲｕＯ_２と、Ｒｕ_２Ｎｄ_２Ｏ_７と、有機ビヒクルとを有する。Ｒｕ_２Ｎｄ_２Ｏ_７の合成温度は、１１００℃〜１３００℃程度と高温であるため、前記抵抗体ペーストを焼成する温度で分解されることはなく、抵抗値のばらつきが小さい抵抗体を形成することが可能になる。また、Ｒｕ_２Ｎｄ_２Ｏ_７の温度係数は負であり、ＲｕＯ_２の温度係数は正であり、これらの混合により、抵抗体の温度係数の絶対値を適切に且つ簡単に小さくすることが可能である。 （もっと読む）

【課題】超低膨張率シリカ・チタニアガラス中の脈理を減少させる。
【解決手段】ガラスを、１６００℃を超える温度で７２〜２８８時間の範囲の間熱処理する。一つの実施例において、本発明はガラスを流動させずまたは動かさずに熱処理する。本発明は、超低膨張率ガラス中の脈理の大きさを５００％も減少させ、特に高い周波数の脈理の大部分を減少させることが判明した。 （もっと読む）

【課題】熱収縮率のばらつきの小さい無アルカリガラス基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】常温から１０℃／分の速度で昇温し、保持温度４５０℃で１０時間保持し、１０℃／分の速度で降温（図１に示す温度スケジュールで熱処理）したときの熱収縮率の絶対値が５０ｐｐｍ以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 外部電極ランプの外套容器として要求される諸特性、具体的には熱膨張係数α、液相粘度ｌｏｇη、誘電率ε、誘電正接ｔａｎδ、体積抵抗率ｌｏｇρを全て満足する外部電極ランプ用外套容器を提供する。
【解決手段】 外面に電極が設けられた構造を有する外部電極蛍光ランプの作製に用いられる外套容器であって、質量％で、ＳｉＯ₂ ４５〜６０％、Ｂ₂Ｏ₃ ０〜１０％、Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜１０％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ０〜１０％、ＳｒＯ ０〜９％、ＢａＯ ５〜２５％、ＺｎＯ ０〜１３％、ＴｉＯ₂ ０〜５％、ＣｅＯ₂ ０〜３％、ΣＲＯ（＝ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ） ２０〜４０％、ΣＲ₂Ｏ（＝Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ） ５〜９．８％含有するガラスからなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】配線のダメージあるいは真空度劣化を回避し、高信頼性、かつ長寿命の平面型ディスプレイ装置を構成するのに好適な接合用ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物換算で、Ｖ₂Ｏ₅：２５〜５０ｗｔ％、ＢａＯ：５〜３０ｗｔ％、ＴｅＯ₂：２０〜４０ｗｔ％、ＷＯ₃：１〜２５ｗｔ％、Ｐ₂Ｏ₅：０〜２０ｗｔ％を含有する。 （もっと読む）

【課題】 化学的に安定で、大型で肉厚が薄く、均一な厚みを有し、しかも、エネルギー変換効率が高い蛍光体複合ガラス、蛍光体複合ガラスグリーンシート及び蛍光体複合ガラスの製造方法を提供することである。
【解決手段】 本発明の蛍光体複合ガラスは、ガラス粉末、無機蛍光体粉末を含む混合物を焼成してなる蛍光体複合ガラスにおいて、波長３５０〜５００ｎｍの領域に発光ピークを有する光を照射した時の波長３８０〜７８０ｎｍの可視光領域へのエネルギー変換効率が１０％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【解決手段】３〜１２質量％のチタニアを含有し、該チタニアの濃度勾配が０．０１質量％／μｍ以下であり、かつ厚さ６．３５ｍｍでの波長４４０ｎｍにおける見かけ透過率が３０％以上であることを特徴とするチタニアドープ石英ガラス。
【効果】ＥＵＶリソグラフィ用フォトマスク基板等のＥＵＶリソグラフィ用部材に要求される高い表面精度を与える均質性の高いチタニアドープ石英ガラスを提供することができ、チタニアドープ石英ガラスからなるＥＵＶリソグラフィ用フォトマスク基板等のＥＵＶリソグラフィ用部材は平坦度や熱膨張特性に優れたものとなる。 （もっと読む）

【課題】化学的耐久性に優れ、ＰＤＰ背面基板の電極被覆に用いることが可能な電極被覆用無鉛ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２ ２５〜５５％、Ｂ_２Ｏ_３ ４〜２５％、ＺｎＯ ５〜３０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１０％、ＴｉＯ_２ ０〜１０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１７％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、Ｂｉ_２Ｏ_３ ０〜２５％、ＣｏＯ＋ＣｕＯ＋ＣｅＯ_２＋ＳｎＯ_２ ０〜３％、から本質的になり、Ａｌ_２Ｏ_３を含有する場合Ｂ_２Ｏ_３＋Ａｌ_２Ｏ_３が２６モル％以下であり、ＴｉＯ_２、Ｎａ_２ＯまたはＫ_２Ｏを含有する場合（ＴｉＯ_２＋４モル％）≧（Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）である電極被覆用無鉛ガラス。 （もっと読む）

【課題】本発明はパネルディスプレイの隔壁などの各種部材に用いる感光性ペーストに関して、タック性を解消して、結果として露光時のフォトマスクの汚れなどを生じない感光性ペースト組成物を提供する。
【課題手段】ガラス粉末と無機フィラーと感光性有機成分を有する感光性ペースト組成物であって、ガラス粉末が酸化ビスマスを含み、かつ無機フィラーが酸化マグネシウムを含む感光性ペースト組成物。 （もっと読む）

【課題】真空断熱材の芯材に用いるガラス繊維の素材強度を高め、大気圧縮による芯材の高密度化及び繊維接触部の増大を抑制し、芯材部における固体成分の熱伝導を低減することで断熱性能を向上させる。
【解決手段】ガラス繊維からなる芯材２がガスバリア性を有する外包材４で減圧密閉された真空断熱材１であって、前記ガラス繊維は、Ｂ₂Ｏ₃が５乃至１２重量％、Ａｌ₂Ｏ₃とＣａＯとの合計が９乃至１２．８重量％を含むアルカリホウケイ酸ガラスであり、ガラスのヤング率が７７．８ＧＰａ以上である。 （もっと読む）

【課題】 屈折率（ｎd）が１．５７〜１．６７、アッベ数（νd）が５５〜６５であり、かつ低温軟化性と優れた耐候性を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】 屈折率（ｎd）が１．５７〜１．６７、アッベ数（νd）が５５〜６５、ガラス転移温度（Ｔｇ）が５６０℃以下であり、かつヘイズ値が３％以下の耐候性を有する光学ガラス、あるいは、モル％表示で、Ｂ₂Ｏ₃ ２２〜４０％、ＳｉＯ₂ １２〜４０％、Ｌｉ₂Ｏ ２〜２０％、ＣａＯ ５〜１５％、ＺｎＯ ２〜１４％、Ｌａ₂Ｏ₃ ０．５〜４％、Ｇｄ₂Ｏ₃ ０〜３％、Ｙ₂Ｏ₃ ０〜３％（ただし、Ｌａ₂Ｏ₃とＧｄ₂Ｏ₃とＹ₂Ｏ₃との合計１％以上）、Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜５％、ＺｒＯ₂ ０〜３％およびＢａＯ ０〜５％を含み、上記成分の合計量が９６％より多く、かつ屈折率（ｎd）が１．５７〜１．６７、アッベ数（νd）が５５〜６５の光学ガラスなどである。 （もっと読む）

【課題】 パターニング精度の低下が抑制されたビスマス系無鉛ガラスを提供することを課題としている。
【解決手段】 光照射によりパターニングされる光パターニングガラス材料に用いられ、３６５ｎｍの波長の光に対する吸収係数が３００〜３０００ｃｍ^-1であることを特徴とするビスマス系無鉛ガラスを提供する。 （もっと読む）

Ａｌ_２Ｏ_３少なくとも３５重量パーセント及び３マイクロメートル未満の平均セルサイズを有する複数のセルを含むセラミック材料及び物品。
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【課題】多層ＬＴＣＣ回路の製造に適用するのに適したガラス、ペーストおよびテープの組成物を提供すること。
【解決手段】モル％ベースで、４６〜５６％のＢ_２Ｏ_３、０．５〜８．５％のＰ_２Ｏ_５、ＳｉＯ_２およびそれらの混合物、２０〜５０％のＣａＯ、２〜１５％のＬｎ_２Ｏ_３（Ｌｎは希土類元素およびそれらの混合物からなる群から選択される）、０〜６％のＭ’_２Ｏ（Ｍ’はアルカリ元素からなる群から選択される）ならびに０〜１０％のＡｌ_２Ｏ_３からなるガラス組成物であって、但し、その組成物は水系で粉砕可能である。 （もっと読む）

【課題】 放射線特にＸ線を照射しても、光量減少が少なく、耐放射線に対しての劣化が少ない長期信頼性の高い光学ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 酸化珪素を主成分として、フッ素ドープ量を１〜９ｐｐｍ、ＯＨ基濃度８００〜１２００ｐｐｍ、遷移金属類、アルカリ土金属類、アルカリ金属をそれぞれ２０ｐｐｍ未満、塩素含有量１ｐｐｍ未満とすることで、放射線照射に対して安定な光学ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】清澄剤としてＳｂ成分を含むガラス原料調合物を白金を含む耐火物を用いた溶融設備で溶融しても、清澄効果を低下させることなく、白金ブツの発生を抑えることが可能な光学ガラス及びその製造方法を提供することである。
【解決手段】本発明の光学ガラスは、Ｓｂ成分を含有する光学ガラスにおいて、Ｓｂ³⁺／全Ｓｂの割合が０．４５以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

複合物品（例えば、研磨物品（例えば、研磨ホイール及びホーニング砥石）、切削工具、及び切削工具インサート）であって、セラミックマトリックス内に分散したガラスセラミックを含んでいる。
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直接的に、あるいは１層または複数層の中間層を介して、互いに接合される第１層および第２層を備えた絶縁体上半導体構造。上記第１層はゲルマニウムを含む実質的に単結晶の半導体材料を含むが、上記第２層は、上記第１層のゲルマニウムの線熱膨張係数の±２０×１０^−７／℃の範囲内の線熱膨張係数（２５〜３００℃）を有するガラスまたはガラスセラミックを含む。
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【課題】鉛を実質的に含まず、低温、特に７００℃以下の温度で焼成可能な、気密性及び化学的耐久性、特に耐酸性が優れたオーバーコート用ガラスペーストであって、厚膜抵抗素子のプリコートガラスとして用いたときには、抵抗体の安定性を損なうことなくレーザートリミングを容易に行うことができるオーバーコート用ガラスペーストを提供する。
【解決手段】低融点ガラス粉末と有機ビヒクルとを含むガラスペーストであって、前記低融点ガラスが、実質的にＰｂを含有せず、酸化物換算のモル%表示で、ＳｉＯ_２ ２０〜５０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０.５〜１０％、ＢａＯ及びＳｒＯからなる群から選択された少なくとも１種を５〜３５％、ＺｎＯ ５〜３５％、ＴｉＯ_２ １〜１０％、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏからなる群から選択された少なくとも１種を１〜１３％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜２０％、及びＷＯ_３及びＭｏＯ_３からなる群から選択された少なくとも１種を０〜５％で含有することを特徴とするオーバーコート用ガラスペースト。 （もっと読む）